公开(公告)号：US20100215273A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：US11993063

申请日：2006-06-20

申请人： Yuri Aksenov ,  Peter Dirksen ,  Peter Zandbergen ,  Michael Benndorf ,  David Van Steenwinckle

发明人： Yuri Aksenov ,  Peter Dirksen ,  Peter Zandbergen ,  Michael Benndorf ,  David Van Steenwinckle

IPC分类号： G06K9/46

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70566

摘要： In a method for evaluating the polarization state of an illumination system (52) in an optical system (50), a mask (56) is provided in the optical system (50) such that an illumination beam incident on the mask (56) is adapted such as to substantially differently diffract incident components of a light beam having different polarization states. An image of the mask (56) is then obtained, using an illumination beam of the illumination system (52) of the optical system (50). The obtained image, being either an intensity plot or a structure created in a resist layer by exposing the resist layer with the image of the mask (56), is then used to extract polarization related information about the illumination system (52). The image used for evaluating may be a diffraction image of the mask.

摘要翻译： 在用于评估光学系统（50）中的照明系统（52）的偏振状态的方法中，在光学系统（50）中设置掩模（56），使得入射在掩模（56）上的照明光束是 适于使得具有不同极化状态的光束的入射分量基本不同的衍射。 然后使用光学系统（50）的照明系统（52）的照明光束获得掩模（56）的图像。 所获得的图像是强度图或通过用掩模（56）的图像曝光抗蚀剂层在抗蚀剂层中产生的结构，然后用于提取关于照明系统（52）的偏振相关信息。 用于评估的图像可以是掩模的衍射图像。