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公开(公告)号：WO2017215399A1
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：PCT/CN2017/084717
申请日：2017-05-17
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
Abstract: 一种掩膜组件(01)，包括：框架(013)、第一掩膜板(012)和第二掩膜板(011)，第一掩膜板(012)和第二掩膜板(011)层叠设置在框架(013)上；第一掩膜板(012)包括开口区域(0121)，第二掩膜板(011)包括蒸镀区域(0111)和围绕在蒸镀区域(0111)周围的缓冲区域(0112)，蒸镀区域(0111)内设置有供蒸镀材料通过的第一蒸镀孔(K1)，缓冲区域(0112)用于对蒸镀材料进行阻挡，开口区域(0121)的边界在第二掩膜板(011)上的正投影位于缓冲区域(0112)内。还公开了掩模组件(01)的制造方法和显示装置。
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公开(公告)号：WO2017194098A1
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：PCT/EP2016/060440
申请日：2016-05-10
Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , LOPP, Andreas , WURSTER, Harald , HAAS, Dieter
Inventor： DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , LOPP, Andreas , WURSTER, Harald , HAAS, Dieter
Abstract: A method of operating a deposition apparatus is provided. The method comprises: Deposition of an evaporated source material on a substrate (10) by guiding the evaporated source material from one or more outlets (22) of an evaporation source (20) toward the substrate (10), wherein part of the evaporated source material is blocked by and attaches to a shielding device (30) arranged between the one or more outlets (22) and the substrate (10), followed by a cleaning of the shielding device (30) by at least locally heating the shielding device (30) for releasing at least part of the attached source material from the shielding device (30). According to a further aspect, a deposition apparatus is provided that can be operated according to the described methods.
Abstract translation: 提供了一种操作沉积装置的方法。 该方法包括：通过将蒸发源材料从蒸发源（20）的一个或多个出口（22）引向衬底（10）而将蒸发源材料沉积在衬底（10）上，其中部分蒸发源 材料被设置在一个或多个出口（22）和衬底（10）之间的防护装置（30）阻挡并附接到防护装置（30），接着通过至少局部加热防护装置（30）来清洁防护装置（30） 用于从所述防护装置（30）释放至少部分所附着的源材料。 根据另一方面，提供了一种可根据所述方法操作的沉积设备。
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93.发明申请SUBSTRATE HOLDER FOR COATING EQUIPED WITH MOVEABLE SHUTTERS AND METHOD FOR USING THE SAME 审中-公开用于可移动遮光板的涂布用基板支架及其使用方法
公开(公告)号：WO2017187218A1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：PCT/IB2016/000726
申请日：2016-04-27
Inventor： ZHENG, Haipeng , THORNHILL, David , VESELINOVIC, Igor , LOCKWOOD, Matthew James , BRALEY, Walter Charles , MAKSOUD, Cesar , BORGHARKAR, Narendra , DEMING, Chris , GRANDJEAN, Xavier , MALZAC, Nicholas
Abstract: Vapor deposition apparatuses (1), systems, and methods for selectively coating, with one or more functional layers (fig 2), a substrate (8) through the use of moveable shutters (9) are described. Embodiments of the present disclosure can be useful for coating eyeglass lenses. Still other embodiments are disclosed.
Abstract translation: 描述了通过使用可移动的快门（9）用一个或多个功能层（图2）选择性地涂覆衬底（8）的蒸镀设备（1），系统和方法 。 本公开的实施例可用于涂覆眼镜镜片。 还公开了其他实施例。
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公开(公告)号：WO2017179719A1
公开(公告)日：2017-10-19
申请号：PCT/JP2017/015357
申请日：2017-04-14
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 金属板の表面での長手方向の長さが表面距離Ｌであり、金属板の幅方向ＤＷの各位置での表面距離Ｌのなかの最小値が最小表面距離Ｌｍであり、最小表面距離Ｌｍに対する金属板の幅方向の各位置での表面距離Ｌと最小表面距離Ｌｍとの差分の比率が伸び差率であり、金属板の幅方向ＤＷでの中央部の伸び差率が、３×１０ －５ 以下であり、金属板の幅方向ＤＷでの両方の端部の伸び差率が、１５×１０ －５ 以下であり、金属板の幅方向ＤＷでの両方の端部のなかの少なくとも一方での伸び差率は、金属板の幅方向の中央部の伸び差率よりも小さい。
Abstract translation: 金属板表面上的长度方向的长度是表面距离L，金属板的宽度方向DW上的各位置处的表面距离L中的最小值是最小表面距离Lm 并且金属板的宽度方向上的各位置处的表面距离L与最小表面距离Lm之差相对于最小表面距离Lm为金属板的宽度方向DW上的中央部分的伸长率差异率和伸长率 10 -5以下时，金属板的宽度方向DW上的两端的伸长率差为15倍以上，10 -5以上， 并且金属板的宽度方向DW的两端部中的至少一方的延伸差异比小于金属板的宽度方向的中央部的延伸差异率。
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公开(公告)号：WO2017171309A1
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：PCT/KR2017/003150
申请日：2017-03-23
Applicant: 엘지이노텍 주식회사
Abstract: 실시예에 따른 증착용 마스크는 금속판을 포함하고, 상기 금속판은, 복수 개의 관통홀 및 상기 복수개의 관통홀 사이의 브리지를 포함하는 유효 영역; 및 상기 유효 영역의 외곽에 배치되는 비유효 영역;을 포함하고, 상기 관통홀은, 제 1 면 상의 제 1 면공 및 상기 제 1 면과 대향하는 제 2 면상의 제 2 면공이 만나는 연결부에 형성되고, 상기 제 1 면공의 폭은 상기 제 2 면공의 폭 보다 작고, 상기 제 1 면공의 깊이는 상기 제 2 면공의 깊이 보다 작고, 하기 식 1에 의하여 계산된 k 값은 0.65 내지 1 미만인 것을 포함한다. k=H2(T-H1) 상기 식에서, 상기 T는 상기 비유효 영역에서 측정된 증착용 마스크의 두께이고, 상기 H1은 상기 복수 개의 관통홀 중 인접한 두 개의 관통홀 사이의 브리지의 두께가 최대인 지점에서, 상기 연결부를 기준으로 상기 제 1 면 방향으로의 두께이고, 상기 H2는 상기 인접한 두 개의 관통홀 사이의 브리지의 두께가 최대인 지점에서, 상기 연결부를 기준으로 상기 제 2 면 방향으로의 두께이다. 실시예에 따른 증착용 마스크는 금속판을 포함하고, 상기 금속판은, 복수 개의 관통홀 및 상기 복수개 관통홀 사이의 브리지를 포함하는 유효 영역; 및 상기 유효 영역의 외곽에 배치되는 비유효 영역을 포함하고, 상기 비유효 영역에 배치되고, 상기 금속판의 길이방향의 일단에 가깝게 위치하는 제 1 하프 에칭부 및 상기 일단과 반대되는 타단에 가깝게 위치하는 제 2 하프 에칭부를 포함하고, 상기 금속판을 0.7kgf의 힘으로 상기 길이 방향으로 인장하였을 때, 하기 식 2에 의해 계산된 뒤틀림 지수 α는 0.85 내지 1.15인 것을 포함한다. α=2B/(d1+d2) 상기 식 2에서, 상기 d1은 상기 제 1 하프 에칭부 및 상기 제 1 하프 에칭부와 인접한 유효 영역 사이의 비 유효 영역에서 측정된 금속판의 폭이고, 상기 d2는 상기 제 2 하프 에칭부 및 상기 제 2 하프 에칭부와 인접한 유효 영역 사이의 비 유효 영역에서 측정된 금속판의 폭이고, 상기 B는 상기 유효 영역의 중간 지점에서 측정된 금속판의 폭이다.
Abstract translation: 根据一个实施方式的蒸发掩模包括金属板，并且所述金属板包括有效区域，所述有效区域包括多个通孔和所述多个通孔之间的桥; 和非有效区域被设置在有效区域外侧;包括，通孔是形成在第一myeongong液体和连接第二侧孔满足在所述第一侧的第一表面相对的第二表面 中，k的深度的宽度值小于所述第二myeongong的深度，通过下式计算的小于第二myeongong的宽度（1），所述第一myeongong的第一myeongong将从0.65包括到小于1 。 ＆lt;式1＆gt; 其中H是掩模的厚度，并且k是在无效区域中测量的沉积掩模的厚度，其中H1是多个通孔中的相邻两个之间的桥的厚度， 其中相邻的两个通孔之间的桥接部的厚度为相邻的两个通孔之间的桥接部的厚度为最大的点处的第一表面相对于连接部分的方向上的厚度， 它是厚度。 根据一个实施方式的蒸发掩模包括金属板，其中所述金属板包括：有效区域，所述有效区域包括多个通孔和所述多个通孔之间的桥; 和非有效区设置在有效区域外侧，它被布置在所述非有效区，第一半蚀刻部分和靠近另一端相对的，其位于靠近一个端部的金属板的长度方向的端 并且，当金属板在0.7kgf的力下沿纵向拉伸时，由以下等式（2）计算的扭曲指数α包括0.85至1.15。 ＆lt;式2＆gt; α= 2B式2中，其中，d1为在非有效区域中的第一半蚀刻部分和所述第一连续有效区域，和半蚀刻部分之间测得的板的宽度在/（D1 + D2），其中，d2为 和第二半蚀刻部分和在第二连续有效区域之间的非有效区域中测量所述板的宽度，半蚀刻部分，其中B是在所述有效区域的中点测得的金属板的宽度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2017170172A1
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：PCT/JP2017/011844
申请日：2017-03-23
Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー
Abstract: 本発明は、複数の開口パターン７を設けたフィルム層４上に、少なくとも一つの前記開口パターン７を内包する複数の貫通孔８を設けたメタル層５を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン７及び貫通孔８が内在する複数の単位セル６に区画したマスクシート１と、外的なテンションがない状態の前記マスクシート１の前記メタル層５に接合してこれを支持し、前記マスクシート１の前記単位セル６に対応させて開口部１０を有する金属製のサポート部材２と、を備えたものである。これにより、薄膜パターンの成膜に高い形状精度及び位置精度を確保する。
Abstract translation: 在本发明中，设置有包括至少一个开口图案7的多个通孔8的金属层5被层压在设置有多个开口图案7的膜层4上 与被划分成多个单元电池6固有的一个表面上的多个开口图案7和通孔8中，在没有外部张力的接合到掩模片1的所述金属层5的掩模片1 并且具有与掩模板1的单元电池6对应的开口10的金属支撑构件2。 结果，确保用于形成薄膜图案的高形状精度和位置精度。
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公开(公告)号：WO2017163878A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/JP2017/009243
申请日：2017-03-08
Applicant: 日新電機株式会社
Inventor： 李 東偉
Abstract: 互いに隣接するフレーム要素に隙間を埋めるための特別な部材を設けることなく、マスクフレームの開口部のサイズを変更しても、各フレーム要素の間に隙間が生じない構成する。矩形状の開口部を有するマスクフレームであって、開口部の４辺それぞれに対応した長手方向を有する４つのフレーム要素を備え、各フレーム要素における長手方向一端側の端辺部と、当該端辺部に隣接するフレーム要素における長手方向に沿った開口部側辺部とが、平面視において隙間を空けずに、対向して配置されており、４つのフレーム要素が、平面視においてそれぞれの長手方向に対して傾斜したそれぞれのスライド方向にスライド移動可能に設けられており、前記４つのフレーム要素をスライド移動させることにより前記開口部の開口サイズが変更可能に構成されている。
Abstract translation:
不用于填充在彼此相邻的所述框架元件的间隙中，改变所述荫罩框架的开口的尺寸设置特别的构件，没有间隙的框架元件之间形成 配置。 具有矩形开口的掩模框架，设置有具有对应于四边各自的开口的纵向方向的四个框架元件，每个框架元件的纵向端部的端侧部分，所述端部边缘 沿邻近于所述部分中的框架元件的长边方向的开口侧部分，而不在平面视图中具有间隙，相对配置，四个框架元件，每个元件的长度方向的俯视 并且通过滑动和移动四个框架元件可以改变开口部分的开口尺寸。
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98.发明申请
公开(公告)号：WO2017154233A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/JP2016/071621
申请日：2016-07-22
Applicant: 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
Abstract: 開口部内の樹脂フィルムを完全に除去することができる蒸着マスク、その製造方法及び蒸着マスク用マスク部材を提供する。樹脂フィルム（１１）の一方側に、開口部（１１ａ）のパターンを形成するためのレーザ光の照射源が配置され、樹脂フィルム（１１）の他方側に、レーザ光の照射源から照射されるレーザ光の波長の光を反射させる反射膜（３０）が設けられ、反射膜（３０）により反射されるレーザ光が樹脂フィルム（１１）の開口部（１１ａ）のパターン形成に利用される。
Abstract translation:
沉积掩模可以完全在开口除去树脂膜，以提供它们的制备和沉积掩模的掩模部件。 在树脂膜（11），用于形成开口部的图形（11A）的激光束的辐射源配置在所述树脂薄膜的另一侧的一个侧面（11）从所述激光束的照射源照射的 是其反射激光束（30）的波长的光反射膜设置，被反射膜（30）反射的激光被用于树脂膜（11）（11a）中的所述开口的图案化。
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公开(公告)号：WO2017130440A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/JP2016/071853
申请日：2016-07-26
Applicant: 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
Abstract: 基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクにおいて、保持部材による蒸着物質が付着しない陰の部分（蒸着シャドウ）の発生を防止しつつ、より高精細な薄膜パターンの形成を可能にし、さらに、基板ホルダーに保持された基板を介した状態で、磁力によって透明基板の表面に密着するように強固に吸引保持されることを可能にする。 蒸着マスク１を樹脂フィルム層２の単体又は樹脂フィルム層２と略矩形の薄板状の枠体である保持部材７で構成し、複数の貫通開口３が形成される樹脂フィルム層２に磁性体金属粉末４を含有させる。保持部材７を有する場合、保持部材７には樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されている部分を包含する単一の矩形開口８を形成する。
Abstract translation: 在用于在基板上形成薄膜图案的蒸发掩模中，可以防止沉积材料通过保持部件粘附到其上的阴影部分（蒸汽沉积阴影）的产生， 为了能够形成薄膜图案并且强力地吸引并保持，从而通过其间插入由基板保持件保持的基板的磁力而与透明基板的表面紧密接触。 通过保持构件7构成的沉积掩模1是单或树脂膜层2的薄板状的框架和大致矩形的树脂薄膜层2中，具有通孔3的多个树脂皮膜层2上的磁性金属形成 粉末4包括在内。 在保持保持构件7的情况下，保持构件7形成包括树脂膜层2的形成有多个贯通开口3的部分的单个矩形开口8。
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公开(公告)号：WO2017067302A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：PCT/CN2016/094991
申请日：2016-08-12
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/042 , C23C14/044 , C23C14/24 , C23C14/542 , C23C14/548 , H01L51/001
Abstract: 一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔(2)及移动装置(3)；所述蒸镀腔(2)内设置有蒸镀源(21)，所述蒸镀腔(2)的侧壁设置有两个限制板(22)；所述移动装置(3)设置于所述蒸镀腔(2)的底部。还公开了一种利用该蒸镀设备的蒸镀方法。
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