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公开(公告)号：WO2023074331A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/JP2022/037741
申请日：2022-10-07
Applicant: 吉林ＯＬＥＤ日本研究所株式会社
Abstract: 蒸着装置（１）は、金属材料よりなる蒸着マスク（７）を保持するマスク保持部（２）と、基板（１１）が蒸着マスク（７）の上面と接するように、基板（１１）を配置する基板配置部（３）と、蒸着マスク（７）よりも下方に配置された蒸着源（４）及びコイル（５）と、コイル（５）に交流電流を通流する交流電源（ＰＵ１）と、交流電源（ＰＵ１）の動作を制御する制御部（ＣＰ１）と、を有する。制御部（ＣＰ１）は、交流電源（ＰＵ１）によりコイル（５）に交流電流を通流することでコイル（５）に交流磁界（ＭＦ１）を発生させ、交流磁界（ＭＦ１）を蒸着マスク（７）に印加することで蒸着マスク（７）内に渦電流を発生させ、蒸着マスク（７）を浮上させて基板（１１）に密着させるように、交流電源（ＰＵ１）の動作を制御する。
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公开(公告)号：WO2023064015A1
公开(公告)日：2023-04-20
申请号：PCT/US2022/036083
申请日：2022-07-05
Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventor： LIU, Chengyu , XIONG, Ruitong , XIE, Bo , TANG, Xianmin , LIU, Yijun , XIA, Li-Qun
IPC: H01L21/762 , H01L21/02 , C23C14/16 , C23C14/04 , C23C14/34
Abstract: A method for dielectric filling of a feature on a substrate yields a seamless dielectric fill with high-k for narrow features. In some embodiments, the method may include depositing a metal material into the feature to fill the feature from a bottom of the feature wherein the feature has an opening ranging from less than 20nm to approximately 150nm at an upper surface of the substrate and wherein depositing the metal material is performed using a high ionization physical vapor deposition (PVD) process to form a seamless metal gap fill and treating the seamless metal gap fill by oxidizing/nitridizing the metal material of the seamless metal gap fill with an oxidation/nitridation process to form dielectric material wherein the seamless metal gap fill is converted into a seamless dielectric gap fill with high-k dielectric material.
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公开(公告)号：WO2023003286A1
公开(公告)日：2023-01-26
申请号：PCT/KR2022/010362
申请日：2022-07-15
Applicant: 주식회사 오럼머티리얼
Abstract: 본 발명은 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크를 부착할 때 용접 과정을 제어함에 따라 마스크에서 가해지는 인장력에 의한 마스크 셀 시트부의 변형량을 감축하여, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있는 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2022254925A1
公开(公告)日：2022-12-08
申请号：PCT/JP2022/015362
申请日：2022-03-29
Applicant: キヤノン株式会社
Abstract: 半導体基板からなる蒸着マスクであって、蒸着粒子を通過させるための複数の開口を有しており、開口幅が最も小さい絞り部分が、前記開口の蒸着源側の端部と被蒸着基板側の端部の間に設けられており、前記絞り部分よりも被蒸着基板側の開口幅が大きく、前記複数の開口のそれぞれの内壁の少なくとも一部は、凹凸形状を有する、ことを特徴とする蒸着マスク。
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公开(公告)号：WO2022188428A1
公开(公告)日：2022-09-15
申请号：PCT/CN2021/126943
申请日：2021-10-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
Abstract: 本申请提供一种掩膜板组件及蒸镀设备，以有效减少第一掩膜板产生褶皱的机率，有效避免边缘混色的产生。该掩膜板组件包括：框架、层叠设置于框架上的第一掩膜板和第二掩膜板；第一掩膜板包括多条沿第一方向设置的掩膜条，相邻的两个掩膜条之间设有间隙；第二掩膜板包括主体以及支撑条，支撑条包括多条沿第一方向的第一支撑条、以及多条沿第二方向设置的第二支撑条；其中，位于最外侧的第一支撑条的第一端以及位于最外侧的第二支撑条的第一端的宽度均由远离主体至靠近主体的方向逐渐递增，且第一支撑条对应于间隙设置。该蒸镀设备包括该掩膜板组件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2022173220A1
公开(公告)日：2022-08-18
申请号：PCT/KR2022/001980
申请日：2022-02-09
Applicant: 주식회사 유니텍스
Abstract: 패턴화된 박막 형성 방법 및 이를 이용한 소자 제조 방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 박막 형성 방법은 기판의 일부 영역 상에 승화성 물질층을 형성하는 단계 및 상기 승화성 물질층을 마스크층으로 이용해서 상기 기판의 상기 승화성 물질층이 형성되지 않은 영역 상에 박막을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 박막은 상기 승화성 물질층에 의해 정의된 형상을 가질 수 있다. 상기 박막을 형성하는 동안에 상기 승화성 물질층의 적어도 일부가 승화될 수 있다.
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公开(公告)号：WO2022160146A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/CN2021/074045
申请日：2021-01-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Inventor： 毕娜
Abstract: 一种掩膜版及其制备方法、掩膜版组件。掩膜版包括显示区以及位于所述显示区第一方向相对两侧的焊接区，所述焊接区至少包括加厚部，所述加厚部上设置有设定焊接区，所述设定焊接区的厚度大于所述显示区的厚度，在所述显示区的水平方向上，所述加厚部凸出所述显示区至少一侧的表面。
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公开(公告)号：WO2022158687A1
公开(公告)日：2022-07-28
申请号：PCT/KR2021/016072
申请日：2021-11-05
Applicant: 풍원정밀(주)
Abstract: 본 발명은 대면적 디스플레이용 미세 금속 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광학소자를 증착하기 위한 관통홀 패턴이 형성된 유효부와, 상기 유효부 양단에 형성되어 광학소자의 증착과정에서 지지체의 역할을 하는 그립부를 포함하는 미세 금속 마스크를 제조하는 방법에 있어서, 미세 금속 마스크를 제조하기 위한 금속 패널의 일 영역에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트가 도포된 금속 패널상에 패턴이 형성된 포토 마스크를 적층하는 단계; 상기 포토 마스크가 적층된 포토레지스트 영역 중 중앙부 영역을 노광하는 단계; 및 상기 중앙부 영역으로부터 양단부로 연장되는 영역을 레이저 가공에 의하여 형상화하는 단계;를 포함하며, 상기 중앙부 영역은 미세 금속 마스크의 유효부이고, 레이저 가공에 의하여 형상화된 양단부 연장 영역은 미세 금속 마스크의 그립부인 것을 특징으로 하는 대면적 디스플레이용 미세 금속 마스크의 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号：WO2022144315A1
公开(公告)日：2022-07-07
申请号：PCT/EP2021/087583
申请日：2021-12-23
Applicant: DOMNICK, Ralph
Inventor： DOMNICK, Ralph
Abstract: Ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats (2) umfasst folgende Schritte: - Bereitstellung einer transparenten Trägerfolie (21), welche mit Silizium beschichtet ist, - Positionieren der mit Silizium beschichteten Seite der Trägerfolie (21) auf einer Oberfläche des Substrats (2), - gerastertes Beaufschlagen der beschichteten Trägerfolie (21) mit Laserstrahlung, womit Silizium punktuell von der Trägerfolie (21) gelöst wird und sich als poröse, raue, superhydrophile Schicht (6) auf dem Substrat (2) niederschlägt.
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公开(公告)号：WO2022142989A1
公开(公告)日：2022-07-07
申请号：PCT/CN2021/134973
申请日：2021-12-02
Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/04 , C23C14/04 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C14/50
Abstract: 本发明公开一镀膜遮蔽治具，其包括一第一模板组件和一第二模板组件，所述第一模板组件和所述第二模板组件具有一开模状态和一合模状态，在所述开模状态，所述第一模板组件和所述第二模板组件相互分离，在所述合模状态，所述第一模板组件和所述第二模板组件相互结合形成一容纳腔，所述容纳腔适于容纳一待镀膜工件，所述第一模板组件具有一局部镀膜通道，所述局部镀膜通道连通所述容纳腔，以便于通过所述局部镀膜通道向所述待镀膜工件的预定镀膜区进行镀膜。
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