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    VINYLCYCLOHEXANE-BASED BLOCK COPOLYMERS
    41.
    发明申请
    VINYLCYCLOHEXANE-BASED BLOCK COPOLYMERS 审中-公开
    嵌段共聚物ON VINYLCYCLOHEXANBASIS

    公开(公告)号：WO00032646A1

    公开(公告)日：2000-06-08

    申请号：PCT/EP1999/008793

    申请日：1999-11-16

    IPC: C08F8/04 ,  C08F297/00 ,  C08F297/04 ,  G11B7/2533 ,  G11B7/2534 ,  G11B7/2536 ,  G11B11/105 ,  C08F8/00

    CPC classification number: C08F297/04 ,  C08F8/04 ,  G11B7/2533 ,  G11B7/2534 ,  G11B7/2536 ,  G11B7/26 ,  G11B11/10586

    Abstract: The present invention relates to block copolymers which are mainly based on vinylcyclohexane and to a method for producing the same. The block copolymers can be processed into shaped bodies by means of extrusion or injection moulding. The resulting shaped bodies are characterised by high thermostability, good mechanical characteristics, high transparency in the visible and near-ultraviolet spectrum, particularly low birefraction and absorption of water.

    Abstract translation: 本发明涉及嵌段共聚物主要Vinylcyclohexanbasis和它们的制备的方法。 该嵌段共聚物可以加工成由挤出或注射成型的模制品。 所得到的模塑制品其特征在于它们的耐热性高，机械性能好，在可见光和近UV范围内具有高透明性，特别是低双折射和水的吸收。

    SELECTIVE SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS VIA SPIN-COATING METHOD FOR USE IN DSA
    44.
    发明申请
    SELECTIVE SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS VIA SPIN-COATING METHOD FOR USE IN DSA 审中-公开

    公开(公告)号：WO2023036720A1

    公开(公告)日：2023-03-16

    申请号：PCT/EP2022/074549

    申请日：2022-09-05

    Applicant: MERCK PATENT GMBH

    Inventor： BOBADE, Sachin ,  BASKARAN, Durairaj

    IPC: C07C33/26 ,  C07C43/13 ,  C07C43/23 ,  C07C69/92 ,  C07C205/37 ,  C07C217/84 ,  C07C255/54 ,  C07F9/40 ,  C08F297/00 ,  C08L53/00 ,  C09D125/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

    Abstract: The present invention relates to a compound of structure (I), wherein A is a core moiety which is selected from structure (Ia), (Ib), (Ic) and (Id), to which is attached through X, a direct valence bond or a divalent linking group, m number of linear alkylene moieties of chain length n where each said linear alkylene moiety has a terminal B reactive moiety, and further wherein * designates possible attachment point of said linear alkylene moieties in each structure, B is selected from -OH, -CH=CH2, -O-(P=O)(OR)2, -O- (P=O)(OR)Rs, -N3 and -SH, where n ranges from 8 to 12. The invention also pertains to composition comprising these compounds and the use these compositions to form self-assembled monolayers (SAM) the use of these in DSA processing as neutral or directing layers which can be removed selectively from metal substrates.and the remover solution to accomplish this selective removal.

    新規な高分子開始剤およびその製造方法、並びにブロック共重合体の製造方法
    45.
    发明申请
    新規な高分子開始剤およびその製造方法、並びにブロック共重合体の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：WO2019045093A1

    公开(公告)日：2019-03-07

    申请号：PCT/JP2018/032543

    申请日：2018-09-03

    Applicant: 国立大学法人東京農工大学 ,  住友精化株式会社

    Inventor： 中野　幸司 ,  西岡　聖司

    IPC: C08F4/00 ,  C08F297/00 ,  C08G64/02

    Abstract: ラジカル重合によるブロック共重合体の製造に適用可能な脂肪族ポリカーボネートが提供される。当該脂肪族ポリカーボネートは、式（１）： （式中、Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ３ 、及びＲ ４ は同一又は異なって、水素原子、置換基で置換されていてもよい炭素数１から１５のアルキル基、又は置換基で置換されていてもよい炭素数６から２０のアリール基を示し、Ａ及びＢは同一又は異なって、リビングラジカル重合の開始基となる置換基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、又はカルボキシ基を示し、但しＡ及びＢの少なくとも一方は、リビングラジカル重合の開始基となる置換基を示し、ｍは１０から２５００の整数を示す。） で表される脂肪族ポリカーボネートである。

    ALIPHATIC/AROMATIC OLEFIN BLOCK COPOLYMERS
    46.
    发明申请
    ALIPHATIC/AROMATIC OLEFIN BLOCK COPOLYMERS 审中-公开

    公开(公告)号：WO2018118834A1

    公开(公告)日：2018-06-28

    申请号：PCT/US2017/067180

    申请日：2017-12-19

    Applicant: EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC.

    Inventor： TRIPATHY, Ranjan

    IPC: C08F297/00 ,  C08L53/00 ,  C08L53/02 ,  C08F240/00 ,  C09J153/02

    Abstract: Disclosed herein are copolymers comprising at least one block comprising C8-C12 olefin-derived units, at least one block comprising C4-C6 olefin-derived units, and at least one block comprising C5/C10 olefin-derived units, wherein each block has a number average molecular weight of at least 300 g/mole and two glass transition temperatures (Tg). The olefin block copolymers are formed by combining a first olefin with a catalyst at least a first stage to form a first olefin block, and combining a second olefin with the same or different catalyst in at least a separate stage to form a second block. The copolymers are useful as tackifiers in adhesive compositions and in films.

    細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法
    48.
    发明申请
    細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法 审中-公开
    用于细胞培养用途的基质成员，其生产方法和使用其的细胞培养方法

    公开(公告)号：WO2016159153A1

    公开(公告)日：2016-10-06

    申请号：PCT/JP2016/060513

    申请日：2016-03-30

    Applicant: 東ソー株式会社

    Inventor： 山田悟 ,  今富伸哉 ,  近藤聡 ,  前島雪絵

    IPC: C12M3/00 ,  C08F297/00 ,  C12M1/00 ,  C12M3/04

    CPC classification number: C08F297/00 ,  C12M1/00 ,  C12M3/00 ,  C12M3/04

    Abstract: 上記温度応答性ポリマーを細胞培養基材に用いる場合、臨海溶解以下に細胞培養 基材の温度を下げる必要があるが、同時に細胞を低温化してしまう。また、剥離してくる細胞はシート状であり、その後、細胞を加工するためには、低温を維持したまま、ピペッティング等で細胞を分散させる必要があり、さらに冷却時間が長くなってしまう。細胞の低温化は細胞の活性低下を及ぼすため、冷却時間の短縮が必要である。 解決手段：下記（Ａ）および（Ｂ） （Ａ）水に対する下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）が０℃～５０℃の範囲にある温度応答性重合体のブロック。 （Ｂ）０℃～５０℃の範囲にＬＣＳＴを持たない、ＨＬＢ値（グリフィン法）が９～２０の範囲にある親水性重合体のブロック。 のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材、ならびに下記（Ａ）および（Ｂ） （Ａ）水に対する下限臨界溶解温度（ＬＣＳＴ）が０℃～５０℃の範囲にある温度応答性重合体のブロック。 （Ｂ）下記（ｉ）～（ｉｉｉ）の要件を満たすブロック。 （ｉ）０℃～５０℃の範囲にＬＣＳＴを持たない。 （ｉｉ）カルボン酸基、カルボン酸エステル基、カルボン酸金属塩、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルホン酸金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、フェノキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルバメート基、リン酸基、リン酸基の金属塩、オキシリン酸基、オキシリン酸基の金属塩、ホスホベタイン基、スルホベタイン基、カルボベタイン基、ポリエチレングリコール基、ピロリドン基から選ばれる少なくとも１種の親水性基を有するモノマーの親水性重合体である。 （ｉｉｉ）（ｉｉ）の重合体中に、芳香族ビニル化合物が生成するモノマー単位、（メタ）アクリルアミド化合物が生成するモノマー単位、フマル酸ジエステル化合物が生成するモノマー単位、塩化ビニルが生成するモノマー単位、酢酸ビニルが生成するモノマー単位、（メタ）アクリロニトリルが生成するモノマー単位、Ｎ－ビニルイミダゾールが生成するモノマー単位、Ｎ－ビニルカルバゾールが生成するモノマー単位から選ばれる少なくとも１種のモノマー単位を含有する。 のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材を提供することにより前記課題を解決する。

    Abstract translation: 当将上述温度敏感性聚合物用于细胞培养用基底时，需要将细胞培养用基材的温度降低到等于或低于聚合物的临界溶液的温度。 然而，在这种情况下，电池的温度也同时降低。 此外，由于从基材分离的细胞具有片状形式，需要通过吸液等分散细胞，同时保持细胞处于低温，以进行细胞的处理。 结果，电池的冷却时间延长。 细胞温度的降低可能引起细胞活性的降低，因此需要缩短细胞的冷却时间。 [解决方案]该问题可以通过提供：用于细胞培养用途的基底成员来解决，其具有涂覆有嵌段共聚物的表面，其中嵌段共聚物含有温度响应性聚合物嵌段（A），其具有较低的临界溶解温度 （LCST）对0至50℃的水和亲水性聚合物嵌段（B），其不具有在0至50℃范围内且LCB值（格里芬法）为9至20的LCST; 和具有用嵌段共聚物表面涂布的细胞培养用基材，其中所述嵌段共聚物含有温度响应性聚合物嵌段（A），其对水的临界溶解温度（LCST）低于0〜50℃， 满足以下要求的块（B）（i）块（B）不具有在0至50℃范围内的LCST，这样的要求（ii）块（B）包含亲水性聚合物 具有选自羧酸基，羧酸酯基，羧酸金属盐，磺酸基，磺酸酯基，磺酸金属盐，羟基，烷氧基中的至少一个亲水基团的单体 苯氧基，酰胺基，氨基甲酰基，磺酰胺基，氨磺酰基，氨基甲酸酯基，磷酸基，磷酸基金属盐，氧磷酸基，氧磷酸金属盐 酸基，磷酸甜菜碱基，磺基 丁烯基，碳甜蛋白基，聚乙二醇基和吡咯烷酮基，并且这样的要求（iii）嵌段（B）包含（ⅱ）中所述的聚合物，其中聚合物含有至少一种选自单体单元的单体单元 形成芳族乙烯基化合物的单体单元，能够形成（甲基）丙烯酰胺化合物的单体单元，能够形成富马酸二酯化合物的单体单元，能够形成氯乙烯的单体单元，能够形成乙酸乙烯酯的单体单元， 能够形成（甲基）丙烯腈的单体单元，能够形成N-乙烯基咪唑的单体单元和能够形成N-乙烯基咔唑的单体单元。

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