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    블록 공중합체 자기 조립 패턴의 습식 식각 방법
    6.
    发明申请
    블록 공중합체 자기 조립 패턴의 습식 식각 방법 审中-公开
    用于湿嵌段共聚物自组装图案的方法

    公开(公告)号：WO2016133301A1

    公开(公告)日：2016-08-25

    申请号：PCT/KR2016/001115

    申请日：2016-02-02

    申请人： 주식회사 엘지화학

    发明人： 구세진 ,  최은영 ,  윤성수 ,  박노진 ,  김정근 ,  이제권 ,  이미숙

    IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/67

    CPC分类号： H01L21/31133 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02356 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/67

    摘要： 본 발명은 상호간에 상이한 내식각성을 가지는 자기 조립 블록 공중합체 박막에서, 습식 식각 공정을 이용하여 한쪽 블록을 선택적으로 제거하는 공정에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 수직 배향된 실린더 자기 조립 구조의 한 주기 이상의 두꺼운 필름에서도, 종래의 습식 식각으로 수직 기공 구조를 구현할 수 없었던 기술의 한계를 극복하여, 높은 종횡비로 형성된 수직 나노 기공 구조를 형성할 수 있다.

    摘要翻译： 本发明涉及一种使用湿蚀刻工艺来选择性地去除块的块的方法，该方法与具有彼此不同的抗蚀性质的自组装嵌段共聚物薄膜相关。 本发明可以形成具有高纵横比的垂直纳米孔结构，即使在具有垂直取向的圆筒自组装结构的厚膜的情况下，通过克服现有技术的限制，具有一个或多个周期， 其不能通过湿蚀刻实现垂直孔结构。