公开(公告)号：WO2012034571A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：PCT/EP2010/005628

申请日：2010-09-14

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  SCHWAB, Markus ,  PATRA, Michael

Inventor： SCHWAB, Markus ,  PATRA, Michael

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70075

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a dividing array (36; 136; 236) of optical elements (70a, 70b; 170a, 170b; 270). Each optical element has a positive optical power and produces a converging light beam (LBa, LBb). A spatial light modulator (38) is arranged between the dividing array (36; 136; 236) and a surface (76) and is configured to vary an irradiance distribution in the surface (78). The modulator comprises an array (40) of mirrors each being configured to deflect a converging light beam (LBa, LBb) produced by the associated optical element by a deflection angle that is variable in response to a control signal. Each mirror directs the deflected light beam towards the surface (76) where the deflected light beam produces a light spot (78a, 78b, 78c). At least two optical elements (70a, 70b; 170a, 170b; 270) of the dividing array (36; 136; 236) have different optical properties so that the spot sizes of the light spots are different.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的照明系统包括光学元件（70a，70b; 170a，170b; 270）的分割阵列（36; 136; 236）。 每个光学元件具有正光焦度并产生会聚光束（LBa，LBb）。 空间光调制器（38）布置在分隔阵列（36; 136; 236）和表面（76）之间，并被配置为改变表面（78）中的辐照度分布。 调制器包括一组反射镜阵列（40），每个镜子被配置为使由相关联的光学元件产生的会聚光束（LBa，LBb）偏转响应于控制信号而变化的偏转角。 每个反射镜将偏转的光束引向偏转的光束产生光斑（78a，78b，78c）的表面（76）。 分隔阵列（36; 136; 236）的至少两个光学元件（70a，70b; 170a，170b; 270）具有不同的光学特性，使得光点的光斑尺寸不同。

公开(公告)号：WO2012028158A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/EP2010/005317

申请日：2010-08-30

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  PATRA, Michael ,  SCHWAB, Markus

Inventor： PATRA, Michael ,  SCHWAB, Markus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70116

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical integrator (52; 152) that includes an array (54c; 154b) of optical raster elements (56; 156). A condenser (72) superimposes the light beams associated with the optical raster elements in a common field plane (71). A modulator (62; 162; 262) modifies a field dependency of an angular irradiance distribution in an illuminated field. Units (60; 160; 260) of the modulator are associated with one of the light beams and are arranged at a position in front of the condenser (72) such that only the associated light beam impinges on a single modulator unit (60). The units are furthermore configured to variably redistribute, without blocking any light, a spatial and/or an angular irradiance distribution of the associated light beams. A control device (66) controls the modulator units (60; 160; 260) if it receives an input command that the field dependency of the angular irradiance distribution in the mask plane (78) shall be modified.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括光学积分器（52; 152），其包括光栅元件（56; 156）的阵列（54c; 154b）。 冷凝器（72）将与光栅元件相关联的光束叠加在公共场平面（71）中。 调制器（62; 162; 262）修改照明场中的角度辐照度分布的场依赖性。 调制器的单元（60; 160; 260）与一个光束相关联并且被布置在聚光器（72）的前面的位置处，使得仅相关联的光束撞击在单个调制器单元（60）上。 这些单元还被配置为可变地重新分布相关联的光束的空间和/或角度辐照度分布，而不阻挡任何光。 如果调制器单元（60; 160; 260）接收到必须修改掩模平面（78）中角度辐照度分布的场依赖性的输入命令，则控制装置（66）控制调制器单元（60; 160; 260）。

公开(公告)号：WO2012016577A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：PCT/EP2010/004816

申请日：2010-08-06

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  KEMPTER, Christian

Inventor： KEMPTER, Christian

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G06F15/00 ,  G01J3/00 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70508

Abstract: A microlithographic projection exposure apparatus has a measuring device (54), by which a sequence of measurement values can be generated, and a processing unit (48) for processing the measurement values. To this end, the processing unit has a processing chain which comprises a plurality of digital signal processors (DSPl, DSP2, DSP3), the first digital signal processor (DSPl) in the processing chain being connected to the measuring device (54) in order to receive the sequence of measurement values. Furthermore, each subsequent digital signal processor (DSP2, DSP3) in the processing chain is connected to a respectively preceding digital signal processor (DSPl, DSP2) in the processing chain. The digital signal processors (DSPl, DSP2, DSP3) are programmed so that each digital signal processor (DSPl, DSP2, DSP3) processes only a fraction of the measurement values and generates processing results therefrom, and forwards the remaining fraction of the measurement values to the respective next digital signal processor (DSP2, DSP3) in the processing chain for processing.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置具有测量装置（54），通过该测量装置可以产生一系列测量值，以及用于处理测量值的处理单元（48）。 为此，处理单元具有包括多个数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）的处理链，处理链中的第一数字信号处理器（DSP1）按顺序连接到测量装置（54） 以接收测量值的序列。 此外，处理链中的每个后续数字信号处理器（DSP2，DSP3）连接到处理链中的前一个数字信号处理器（DSP1，DSP2）。 数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）被编程，使得每个数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）仅处理测量值的一部分并从其产生处理结果，并将测量值的剩余部分转发到 相应的下一个数字信号处理器（DSP2，DSP3）在处理链中进行处理。

公开(公告)号：WO2011137917A1

公开(公告)日：2011-11-10

申请号：PCT/EP2010/002780

申请日：2010-05-06

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  DEGÜNTHER, Markus ,  FIOLKA, Damian ,  ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  FIOLKA, Damian ,  ZIEGLER, Gerhard-Wilhelm

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70941

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a spatial light modulator (58) which varies an intensity distribution in a pupil surface (38). The modulator (58) comprises an array (62) of mirrors (64) that reflect impinging projection light (34) into directions that depend on control signals applied to the mirrors. A prism (60), which directs the projection light (34) towards the spatial light modulator (58), has a double pass surface (76) on which the projection light (34) impinges twice, namely a first time when leaving the prism (60) and before it is reflected by the mirrors (64), and a second time when entering the prism (60) and after it has been reflected by the mirrors (64). Pupil perturbation suppressing means are provided that reduce reflections of projection light (34) when it impinges the first time on the double pass surface (76), and/or prevent that light portions (78) being a result of such reflections contribute to the intensity distribution in the pupil surface (38).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的照明系统包括改变瞳孔表面（38）中的强度分布的空间光调制器（58）。 调制器（58）包括将入射投影光（34）反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向上的反射镜（64）的阵列（62）。 将投射光（34）引向空间光调制器（58）的棱镜（60）具有双重表面（76），投影光（34）撞击两次，即离开棱镜时第一次 （60）反射之前并且在被反射镜（64）反射之前，以及第二次当进入棱镜（60）并且被反射镜（64）反射之后。 提供了瞳孔扰动抑制装置，当第一次冲击双重表面（76）时减少投影光（34）的反射，和/或防止由于这种反射而导致的光部分（78）有助于强度 分布在瞳孔表面（38）。

公开(公告)号：WO2011006522A1

公开(公告)日：2011-01-20

申请号：PCT/EP2009/005225

申请日：2009-07-17

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  PATRA, Michael

Inventor： PATRA, Michael

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0663 ,  G02B26/0825 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70116

Abstract: A microlithographic projection exposure apparatus comprises an optical surface (46; M6) and a measurement device (90) which measures a parameter related to the optical surface at a plurality of separated areas on the optical surface. The measurement device comprises an illumination unit (92) which directs individual measuring light beams (94) towards the areas on the optical surface. Each measuring light beam illuminates at least a portion of an area, which is associated with the measuring light beam, and at least a portion of an adjacent area which is not associated with the measuring light beam. A detector unit (96) measures a property for each measuring light beam after it has interacted with the optical surface. An evaluation unit (102) determines the surface related parameter for a selected area on the basis of the properties determined by the detector unit (96) for the measuring light beam that is associated with the selected area, and for at least one measuring light beam that is associated with an area adjacent to the selected area.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置包括光学表面（46; M6）和测量装置（90），其测量与光学表面上的多个分离区域处的光学表面相关的参数。 测量装置包括照射单元（92），其将各个测量光束（94）引向光学表面上的区域。 每个测量光束照亮与测量光束相关联的区域的至少一部分以及与测量光束不相关联的至少一部分相邻区域。 检测器单元（96）在与光学表面相互作用后测量每个测量光束的特性。 评估单元（102）基于由检测器单元（96）为与所选择的区域相关联的测量光束确定的特性以及至少一个测量光束来确定所选区域的表面相关参数 其与与所选区域相邻的区域相关联。

公开(公告)号：WO2010040506A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：PCT/EP2009/007175

申请日：2009-10-06

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  HORN, Jan ,  KEMPTER, Christian

Inventor： HORN, Jan ,  KEMPTER, Christian

IPC: G02B26/08

CPC classification number: G03B27/72 ,  G02B26/0841 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70525

Abstract: A micromirror (24) of a micromirror array (22) in an illumination system (10) of a microlithographic projection exposure apparatus can be tilted through a respective tilt angle (α x , α y ) about two tilt axes (x, y). The micromirror (24) is assigned three actuators (E 1 , E 2 , E 3 ) which can respectively be driven by control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) in order to tilt the micromirror (24) about the two tilt axes (x, y). Two control variables (SG x , SG y ) are specified, each of which is assigned to one tilt axis (x, y) and which are both assigned to unperturbed tilt angles (α x , α y ). For any desired combinations of the two control variables (SG x , SG y ), as a function of the two control variables (SG x , SG y ), one (E 1 ) of the three actuators is selected and its control signal (U 1 ) is set to a constant value, in particular zero. The control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are determined so that, when the control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are applied to the other two actuators (E 2 , E 3 ), the micromirror (24) adopts the unperturbed tilt angles (αx, αy) as a function of the two control variables (SG x , SG y ).

Abstract translation: 在微光刻投影曝光装置的照明系统（10）中的微镜阵列（22）的微反射镜（24）可以通过围绕两个倾斜轴（x，y）的相应倾斜角（ax，ay）倾斜。 微镜（24）被分配有三个致动器（E1，E2，E3），它们可分别由控制信号（U1，U2，U3）驱动，以便使微反射镜（24）围绕两个倾斜轴（x，y） 。 指定两个控制变量（SGx，SGy），每个控制变量分配给一个倾斜轴（x，y），并分配给不受干扰的倾斜角（ax，ay）。 对于作为两个控制变量（SGx，SGy）的函数的两个控制变量（SGx，SGy）的任何期望的组合，选择三个致动器中的一个（E1），并且其控制信号（U1）被设置为 恒定值，特别是零。 确定控制信号（U1，U2，U3），使得当控制信号（U1，U2，U3）被施加到另外两个致动器（E2，E3）时，微反射镜（24）采用未受干扰的倾斜角 ax，ay）作为两个控制变量（SGx，SGy）的函数。

公开(公告)号：WO2010034472A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/EP2009/006856

申请日：2009-09-23

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  BACH, Florian ,  BENZ, Daniel ,  WALDIS, Severin ,  WERBER, Armin ,  WARM, Berndt

Inventor： BACH, Florian ,  BENZ, Daniel ,  WALDIS, Severin ,  WERBER, Armin ,  WARM, Berndt

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70891

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary light source (30), a system pupil surface (70) and a mirror array (46). The mirror array (46) is arranged between the primary light source (30) and the system pupil surface (70) and comprises a plurality of adaptive mirror elements (M ij ). Each mirror element (M ij ) comprises a mirror support (100) and a reflective coating (102) and is configured to direct light (34) produced by the primary light source (30) towards the system pupil surface (70). Preferably the mirror elements (M ij ) are tiltably mounted with respect to a support structure (110). According to the invention the mirror elements (M ij ) comprise structures (100, 102) having a different coefficient of thermal expansion and being fixedly attached to one another. A temperature control device (90) is configured to variably modify the temperature distribution within the structures so as to change the shape of the mirror elements.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括主光源（30），系统光瞳表面（70）和反射镜阵列（46）。 镜阵列（46）布置在主光源（30）和系统光瞳表面（70）之间，并且包括多个自适应镜元件（Mij）。 每个镜元件（Mij）包括镜支撑件（100）和反射涂层（102），并且被配置为将由主光源（30）产生的光（34）引向系统光瞳表面（70）。 优选地，镜元件（Mij）相对于支撑结构（110）可倾斜地安装。 根据本发明，镜元件（Mij）包括具有不同热膨胀系数并且彼此固定地附接的结构（100,102）。 温度控制装置（90）被配置为可变地修改结构内的温度分布，以便改变反射镜元件的形状。

公开(公告)号：WO2009106217A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：PCT/EP2009/000861

申请日：2009-02-07

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  NATT, Oliver ,  SCHLESENER, Frank

Inventor： NATT, Oliver ,  SCHLESENER, Frank

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70133 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191

Abstract: In a method for operating an illumination system (12) of a microlithographic projection exposure apparatus (10), a set of illumination parameters that describe properties of a light bundle which converges at a point (72) on a mask (14) to be illuminated by the illumination system (12), is first determined. Optical elements (26, 36, 44, 46, 74, 76) whose optical effect on the illumination parameters can be modified as a function of control commands are furthermore determined, as well as sensitivities with which the illumination parameters react to an adjustment of the optical elements, induced by the control commands. The control commands are then determined while taking the previously determined sensitivities into account, such that deviations of the illumination parameters from predetermined target illumination parameters satisfy a predetermined minimisation criterion. These control commands are applied to the optical elements, before the mask (14) is illuminated.

Abstract translation: 在一种用于操作微光刻投影曝光设备（10）的照明系统（12）的方法中，一组照明参数描述了在要照亮的掩模（14）上的点（72）会聚的光束的属性 首先确定照明系统（12）。 进一步确定其对照明参数的光学效应可以作为控制命令的函数而被修改的光学元件（26,36,44,47,76）以及照明参数对调整的灵敏度 光学元件，由控制命令引起。 然后在考虑预先确定的灵敏度的同时确定控制命令，使得照明参数与预定目标照明参数的偏差满足预定的最小化标准。 在掩模（14）被照亮之前，将这些控制命令应用于光学元件。

公开(公告)号：WO2008052701A1

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：PCT/EP2007/009291

申请日：2007-10-26

Applicant: TRIOPTICS GMBH ,  HEINISCH, Josef ,  DUMITRESCU, Eugen

Inventor： HEINISCH, Josef ,  DUMITRESCU, Eugen

IPC: G01M11/02 ,  G01B11/27 ,  G02B7/02 ,  G02B27/62

CPC classification number: G01B11/272 ,  G01M11/0221

Abstract: Bei einem Verfahren zur Bestimmung der Lage einer Symmetrieachse (20) einer asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu einer Bezugsachse (30, 22) wird die Lage des Krümmungsmittelpunktes (21) des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) gemessen. Ferner wird eine Taumelbewegung gemessen, welche die Linsenfläche (16) während einer Drehung um eine Drehachse (30) beschreibt. Aus den auf diese Weise erhaltenen Meßwerten wird die Lage der Symmetrieachse (20) der asphärischen Linsenfläche (16) relativ zu der Drehachse (30) bestimmt Meßwerten. Eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung weist einen Autokollimator (36a; 136a) zur Messung des sphärischen Anteils der Linsenfläche (16) auf. Die Taumelbewegung wird mit einem zweiten Autokollimator (36b) oder einem Abstandssensor (136b) gemessen.

Abstract translation: 在用于确定的非球面透镜表面的对称性（20）的轴的位置的方法（16）相对于参考轴线（30，22）测量的透镜面（16）的球形部分的曲率（21）的中心的位置。 此外，摆动被测量，其描述了一种围绕旋转（30）的轴线旋转的过程中所述透镜表面（16）。 非球面透镜表面的对称性（20）的轴线的位置（16）相对于旋转（30）的轴线确定测量从以这种方式所获得的测量值的值。 适合于执行该方法的装置包括一个自动准直仪（36A; 136A）上的透镜表面（16）的球形部分的测量。 摆动与第二自动准直仪（36B），或距离传感器（136B）进行测定。

公开(公告)号：WO2007093396A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/EP2007/001267

申请日：2007-02-14

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WANGLER, Johannes ,  SIEKMANN, Heiko ,  WEIBLE, Kenneth ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  MAUL, Manfred ,  DEGUENTHER, Markus ,  LAYH, Michael ,  SCHOLZ, Axel ,  SPENGLER, Uwe ,  VÖLKEL, Reinhard

Inventor： WANGLER, Johannes ,  SIEKMANN, Heiko ,  WEIBLE, Kenneth ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  MAUL, Manfred ,  DEGUENTHER, Markus ,  LAYH, Michael ,  SCHOLZ, Axel ,  SPENGLER, Uwe ,  VÖLKEL, Reinhard

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

Abstract: An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (30) and an optical integrator (56) . The latter has first optical subelements (561X, 561Y, 562X, 562Y) and produces a plurality of secondary light sources (82) each emitting a light bundle. A condenser (62) effects a superposition of the light bundles in a mask plane (70) . At least one scattering structure (58, 60) comprises a plurality of individually designed second optical subelements that are arranged in front of or behind the secondary light sources. The first and second optical subelements are configured such that optical subelements illuminated with identical irradiance distributions are separated by more than 5 mm.

Abstract translation: 一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。 后者具有第一光学子元件（561X，561Y，562X，562Y）并且产生多个发射光束的次级光源（82）。 冷凝器（62）实现光束在掩模平面（70）中的叠加。 至少一个散射结构（58,60）包括多个单独设计的第二光学子元件，其布置在二次光源的前面或后面。 第一和第二光学子元件被配置为使得以相同辐照度分布照射的光学子元件被分开超过5mm。