公开(公告)号：WO2012123436A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：PCT/EP2012/054320

申请日：2012-03-13

Applicant: Carl Zeiss Laser Optics GmbH ,  Carl Zeiss SMT GmbH ,  KIEREY, Holger ,  SIEKMANN, Heiko ,  BRESAN, Andre

Inventor： KIEREY, Holger ,  SIEKMANN, Heiko ,  BRESAN, Andre

IPC: B24B13/00 ,  G02B5/18

CPC classification number: G02B5/208 ,  B24B13/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/10 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/70316 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: A method for producing a reflective optical component (10) for an EUV projection exposure apparatus, said component having a substrate (12) having a base body (14), and a reflective layer (20) arranged on the substrate (12), wherein the substrate (12) has an optically operative microstructuring (16), comprises the following steps: working the microstructuring (16) into the substrate (12), polishing the substrate (12) after the micro-structuring (16) has been worked into the substrate (12), applying the reflective layer (20) to the substrate (12). A reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus correspondingly has a polished surface between the microstructuring and the reflective layer.

Abstract translation: 一种用于制造用于EUV投影曝光装置的反射型光学部件（10）的方法，所述部件具有具有基体（14）的基板（12）和布置在所述基板（12）上的反射层（20），其中 衬底（12）具有光学上的微结构化（16），包括以下步骤：将微结构化（16）加工到衬底（12）中，在微结构化（16）已经被加工之后抛光衬底（12） 所述基板（12）将所述反射层（20）施加到所述基板（12）。 用于EUV投影曝光装置的反射型光学部件对应地具有在微结构化和反射层之间的抛光表面。

公开(公告)号：WO2007093436A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/EP2007/001370

申请日：2007-02-16

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WOLF, Oliver ,  SIEKMANN, Heiko ,  KALCHBRENNER, Eva ,  RENNON, Siegfried ,  WANGLER, Johannes ,  BRESAN, Andre ,  GERHARD, Michael ,  HAVERKAMP, Nils ,  SCHOLZ, Axel ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  LAYH, Michael ,  BURKART, Stefan

Inventor： WOLF, Oliver ,  SIEKMANN, Heiko ,  KALCHBRENNER, Eva ,  RENNON, Siegfried ,  WANGLER, Johannes ,  BRESAN, Andre ,  GERHARD, Michael ,  HAVERKAMP, Nils ,  SCHOLZ, Axel ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  LAYH, Michael ,  BURKART, Stefan

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

Abstract: An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.

Abstract translation: 一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。 光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4） ）。 在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

公开(公告)号：WO2012028613A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/EP2011/064904

申请日：2011-08-30

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  EKSTEIN, Claudia ,  LIPPERT, Johannes ,  MALTOR, Holger ,  WEISER, Martin ,  SIEKMANN, Heiko ,  DINGER, Udo

Inventor： EKSTEIN, Claudia ,  LIPPERT, Johannes ,  MALTOR, Holger ,  WEISER, Martin ,  SIEKMANN, Heiko ,  DINGER, Udo

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G02B5/0891 ,  G02B5/0808 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/06

Abstract: Als Substrate, die für Spiegel geeignet sind, die bei Wellenlängen im EUV- Wellenlängenbereich eingesetzt werden, werden Substrate (1) mit einem Grundkörper (2) und einer Polierschicht (3) vorgeschlagen, wobei die Polierschicht (3) eine Dicke von weniger als 10 μm und eine quadratische Rauheit von weniger als 0, 5 nm aufweist und der Grundkörper (2) aus einer Aluminiumlegierung hergestellt ist. Auf der Polierschicht (3) des Substrats (1) des EUV-Spiegels (4) ist zudem eine hochreflektierende Schicht (6) vorgesehen.

Abstract translation: 适合于反射镜，它们在在EUV波长范围内的波长中使用的合适底物，底物（1）提出了一种具有一个基体（2）和抛光层（3），其中，所述抛光层（3）的厚度小于10 具有微米和方粗糙度小于0，5纳米，和由铝合金制成的基体（2）。 在EUV反射镜（4）还包括（6）提供一种高反射层的与衬底（1）的抛光层（3）。

公开(公告)号：WO2007093396A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/EP2007/001267

申请日：2007-02-14

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WANGLER, Johannes ,  SIEKMANN, Heiko ,  WEIBLE, Kenneth ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  MAUL, Manfred ,  DEGUENTHER, Markus ,  LAYH, Michael ,  SCHOLZ, Axel ,  SPENGLER, Uwe ,  VÖLKEL, Reinhard

Inventor： WANGLER, Johannes ,  SIEKMANN, Heiko ,  WEIBLE, Kenneth ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  MAUL, Manfred ,  DEGUENTHER, Markus ,  LAYH, Michael ,  SCHOLZ, Axel ,  SPENGLER, Uwe ,  VÖLKEL, Reinhard

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

Abstract: An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus comprises a light source (30) and an optical integrator (56) . The latter has first optical subelements (561X, 561Y, 562X, 562Y) and produces a plurality of secondary light sources (82) each emitting a light bundle. A condenser (62) effects a superposition of the light bundles in a mask plane (70) . At least one scattering structure (58, 60) comprises a plurality of individually designed second optical subelements that are arranged in front of or behind the secondary light sources. The first and second optical subelements are configured such that optical subelements illuminated with identical irradiance distributions are separated by more than 5 mm.

Abstract translation: 一种用于微光刻投影曝光装置的照明系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。 后者具有第一光学子元件（561X，561Y，562X，562Y）并且产生多个发射光束的次级光源（82）。 冷凝器（62）实现光束在掩模平面（70）中的叠加。 至少一个散射结构（58,60）包括多个单独设计的第二光学子元件，其布置在二次光源的前面或后面。 第一和第二光学子元件被配置为使得以相同辐照度分布照射的光学子元件被分开超过5mm。