公开(公告)号：WO2010025798A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：PCT/EP2009/005588

申请日：2009-08-01

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  LAUFER, Timo ,  BANNEY, Ben ,  KUGLER, Jens ,  NIEKEN, Ulrich ,  KELLER, Franz

Inventor： EHM, Dirk, Heinrich ,  LAUFER, Timo ,  BANNEY, Ben ,  KUGLER, Jens ,  NIEKEN, Ulrich ,  KELLER, Franz

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

Abstract: In EUV lithography apparatus (10), it is proposed, in order to lengthen the lifetime of contamination- sensitive components, to arrange them in a protection module. The protection module comprises a housing (23-29) having at least one opening (37-47), in which at least one component (13a, 13b, 15, 16, 18, 19) is arranged and at which one or more gas feeds (30-36) are provided in order to introduce a gas flow into the housing (23-29), which emerges through the at least one opening (37-47). In order to effectively prevent contaminating substances from penetrating into the protection module, a light source (48-56) is arranged at the at least one opening (37-47), which light source illuminates the opening (37-47) with one or more wavelengths by which the contaminating substances can be dissociated before they penetrate through the opening (37-47).

Abstract translation: 在EUV光刻设备（10）中，提出为了延长污染敏感元件的使用寿命，将其安置在保护模块中。 保护模块包括具有至少一个开口（37-47）的壳体（23-29），其中布置有至少一个部件（13a，13b，15,16,18,19），并且一个或多个气体 提供进料（30-36）以便将气流引入到通过至少一个开口（37-47）出现的壳体（23-29）中。 为了有效地防止污染物质渗透到保护模块中，光源（48-56）布置在至少一个开口（37-47）处，该光源照射开口（37-47），其中一个或 污染物质在穿透开口（37-47）之前可以分解的更多波长。

公开(公告)号：WO2009041702A3

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：PCT/JP2008067778

申请日：2008-09-24

Applicant: NIPPON KOGAKU KK ,  SHIBAZAKI YUICHI

Inventor： SHIBAZAKI YUICHI

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/709 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70991 ,  H02J5/005

Abstract: Electric power is generated by using a generator (38) equipped with: a coil unit (38A) that is arranged on a barrel platform (50) and incorporates coils(39); and a magnet unit (38B) that has a magnet section (44) arranged on a protruding section (33a) of a column (30) separated from the barrel platform (50) in terms of vibration and generates an electromotive force in a non-contact state with the coils (39), and a motor (43) that drives the magnet section, and thus a wiring that supplies electric power to the barrel platform (50) does not have to be used. Accordingly, vibration that has been propagated to the barrel platform through the wiring can be precluded.

Abstract translation: 通过使用发电机（38）产生电力，发电机（38）配备有：线圈单元（38A），其布置在桶形平台（50）上并且包含线圈（39）; 和磁体单元（38B），所述磁体单元（38B）在振动方面具有布置在与所述镜筒平台（50）分离的柱体（30）的突出部分（33a）上的磁体部分（44），并且以非磁性方式产生电动势， 不需要使用与线圈（39）的接触状态和驱动磁体部的电动机（43），因此不需要使用向筒状平台（50）供给电力的配线。 因此，可以排除已经通过布线传播到桶形平台的振动。

公开(公告)号：WO2009069817A2

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：PCT/JP2008/071992

申请日：2008-11-27

Applicant: NIKON CORPORATION ,  NISHIKAWA, Jin

Inventor： NISHIKAWA, Jin

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70883

Abstract: A reflection type illumination optical apparatus, which guides an exposure light EL to a reticle surface Ra via a curved mirror 24, a concave mirror 25, etc. includes a vacuum chamber 1 which accommodates the curved mirror 24, the concave mirror 25, etc,; and a subchamber 4D which is arranged in the vacuum chamber 1 and which accommodates the curved mirror 24. The subchamber 4D has openings 4Da, 4Db through which the exposure light EL coming into the curved mirror 24 and the exposure light EL exiting from the curved mirror 24 pass, respectively. Each of the openings 4Da, 4Db is arranged in the vicinity of a position at which the cross-sectional area of the light flux is smallest. It is possible to decrease the amount of adhesion of minute particles such as debris to the reflecting optical element, without unnecessarily enhancing the ability of the vacuum gas discharge mechanism.

Abstract translation: 通过曲面镜24，凹面镜25等将曝光用光EL引导至标线片表面Ra的反射型照明光学装置具备：收纳曲面镜24的真空室1 ，凹面镜25等等; 以及设置在真空室1中并容纳曲面镜24的子室4D。子室4D具有开口4Da，4Db，通过该开口4Da和4Db，进入曲面镜24的曝光光EL和从曲面镜出射的曝光光EL 24次通过。 每个开口4Da，4Db布置在光通量的截面面积最小的位置附近。 不会不必要地增强真空气体放电机构的能力，可以减少诸如碎屑之类的微小颗粒对反射光学元件的附着量。

公开(公告)号：WO2009032055A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：PCT/US2008/009755

申请日：2008-08-15

Applicant: CYMER, INC. ,  BYKANOV, Alexander, N. ,  BRANDT, David, C. ,  FOMENKOV, Igor, C. ,  PARTLO, William, N.

Inventor： BYKANOV, Alexander, N. ,  BRANDT, David, C. ,  FOMENKOV, Igor, C. ,  PARTLO, William, N.

IPC: G21G4/00

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70908

Abstract: A gas flow management system may comprise a first and second enclosing walls at least partially surrounding first and second respective spaces; a system generating plasma in the first space, the plasma emitting extreme ultraviolet light; an elongated body restricting flow from the first space to the second space, the body at least partially surrounding a passageway and having a first open end allowing EUV light to enter the passageway from the first space and a second open end allowing EUV light to exit the passageway into the second space, the body shaped to establish a location having a reduced cross-sectional area relative to the first and second ends; and a flow of gas exiting an aperture, the aperture positioned to introduce gas into the passageway at a position between the first end of the body and the location having a reduced cross-sectional area.

Abstract translation: 气体流量管理系统可以包括至少部分地围绕第一和第二相应空间的第一和第二封闭壁; 在第一空间中产生等离子体的系统，等离子体发射极紫外光; 限制从第一空间流到第二空间的细长体，所述主体至少部分地围绕通道并且具有允许EUV光从第一空间进入通道的第一开口端，以及允许EUV光从第二空间退出的第二开口端 通道进入第二空间，身体形状以建立相对于第一和第二端具有减小的横截面面积的位置; 以及离开孔的气流，所述孔定位成在主体的第一端和具有减小的横截面积的位置之间的位置处将气体引入通道。

公开(公告)号：WO2008009356A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：PCT/EP2007/005986

申请日：2007-07-06

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GRUNER, Toralf ,  ZAHLTEN, Claus ,  TSCHISCHGALE, Jörg

Inventor： GRUNER, Toralf ,  ZAHLTEN, Claus ,  TSCHISCHGALE, Jörg

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70575

Abstract: Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20; 120), das mehrere optische Elemente (56; 156) enthält, sowie ein Gerät (58; 116, 155, 162a, 162b) auf, an dem ein Geräteparameter abruf bar ist. Der Geräteparameter bezieht sich auf eine Umgebungsbedingung oder eine Zustandgröße von mindestens einem der optischen Elemente. Der Geräteparameter kann sich auch auf eine Stellgröße eines Betätigungselements beziehen, durch das die Wirkung wenigstens einer Komponente (116) der Projektionsbelichtungsanlage veränderbar ist. Mit einer Temperiereinrichtung (44; 144) ist die Temperatur einer innerhalb oder außerhalb des Projektionsobjektivs angeordneten und von Projektionslicht (13; 113) durchtretenen Flüssigkeit (38; 138) auf einen SoIlwert einstellbar. Eine Steuerungseinheit (48; 148) bestimmt den Sollwert für die Temperatur der Flüssigkeit in Abhängigkeit von dem Geräteparameter.

Abstract translation: 微光刻投射曝光设备包括投射物镜（20; 120），所述多个光学元件（56; 156）和设备（58; 116，155，162A，162B），在其上装置参数检索栏。 设备参数涉及的环境条件或所述光学元件中的至少一个的状态变量。 设备参数也可以指的是致动元件，通过该投影曝光装置的效果是可变的至少一个部件（116）的操纵变量。 用调温装置（44; 144）是它被布置内部或投影透镜之外，并且投射光（13; 113）中的温度通过转义液体（38; 138）可调节到一个SoIlwert。 控制单元（48; 148）确定用于根据设备参数的液体的温度的目标值。

公开(公告)号：WO2007064210A1

公开(公告)日：2007-06-07

申请号：PCT/NL2006/050303

申请日：2006-12-01

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  VAN HERPEN, Maarten Marinus Johannes Wilhelmus ,  KLUNDER, Derk Jan Wilfred

Inventor： VAN HERPEN, Maarten Marinus Johannes Wilhelmus ,  KLUNDER, Derk Jan Wilfred

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/00 ,  B08B7/00 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70983

Abstract: An EUV lithographic apparatus includes an EUV radiation source, an optical element (50) and a cleaning device (95) . The cleaning device (95) includes a hydrogen radical source (103) and a flow tube (104) in communication with the hydrogen radical source (103) . The cleaning device (95) is configured to provide a flow of hydrogen radicals (96) and the flow tube (104) is arranged to provide a hydrogen radical flow (96) at a predetermined position within the lithographic apparatus, for example for cleaning a collector mirror (50) .

Abstract translation: EUV光刻设备包括EUV辐射源，光学元件（50）和清洁装置（95）。 清洁装置（95）包括与氢根源（103）连通的氢根源（103）和流管（104）。 清洁装置（95）被配置为提供氢原子（96）的流动，并且流量管（104）被布置成在光刻设备内的预定位置处提供氢根流（96），例如用于清洁 收集镜（50）。

公开(公告)号：WO2006037651A1

公开(公告)日：2006-04-13

申请号：PCT/EP2005/010819

申请日：2005-10-01

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  RAU, Johannes ,  SCHÖPPACH, Armin ,  GELLRICH, Bernhard ,  KUGLER, Jens ,  MAHLMANN, Martin ,  GEUPPERT, Bernhard ,  PETASCH, Thomas ,  FÜRTER, Gerhard

Inventor： RAU, Johannes ,  SCHÖPPACH, Armin ,  GELLRICH, Bernhard ,  KUGLER, Jens ,  MAHLMANN, Martin ,  GEUPPERT, Bernhard ,  PETASCH, Thomas ,  FÜRTER, Gerhard

IPC: G02B7/00 ,  G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G02B7/00 ,  G02B7/008 ,  G02B7/021 ,  G02B7/028 ,  G02B7/22 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

Abstract: An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.

Abstract translation: 提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。 第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。 所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。 第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。 第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。 此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

公开(公告)号：WO2004066455A3

公开(公告)日：2005-04-21

申请号：PCT/EP2004000330

申请日：2004-01-17

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  HAHNEMANN OTTO

Inventor： HAHNEMANN OTTO

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70933

Abstract: A projection illumination unit (1) is provided with an illumination device (3), comprising a light source, in particular a UV-light emitting laser, a projection lens (7), a reticle plane in which a reticle (5) is arranged, a wafer plane in which a wafer (2) is arranged and a flushing gas system, for flushing the interior of the projection lens (7) and/or the external regions, in particular, the reticle plane and the wafer plane. At least one device (25,32,33) for the monitoring of at least one flushing gas flow is provided, which interrupts the radiation from the light source to the projection lens (7) when the flushing gas flow rate drops below a given level. The device (25,32,33) for the monitoring of the flushing gas flow is connected to the light source by means of a controller. The controller (27) is provided with a timer arrangement (36).

Abstract translation: 投射曝光系统（1）用的照明装置（3），其具有光源，特别是UV光emitierenden激光，具有投影透镜（7），具有一个光罩平面，其中一个标线片（5）被布置成与晶片 平面，其中一个晶片（2）布置，并用吹扫气体提供吹扫投射物镜（7）和/或外部区域的内部，特别是线网面和晶片平面。 至少一个装置（25,32,33），用于监视至少一个净化气体流，其中断光源到投射透镜（7）下降到低于预定Spülgasdurchflussmenge提供的辐射。 用于监测清洗气体流的装置（25,32,33）通过与所述光源的控制装置连接。 所述控制装置（27）设置有一个计时器装置（36）。

公开(公告)号：WO2004044656A2

公开(公告)日：2004-05-27

申请号：PCT/DE2003/003720

申请日：2003-11-10

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG ,  SCHEDEL, Thorsten ,  SCHMIDT, Sebastian ,  HRASCHAN, Günter

Inventor： SCHEDEL, Thorsten ,  SCHMIDT, Sebastian ,  HRASCHAN, Günter

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70933

Abstract: Mittels eines Gerätes (60) zur Bestimmung von Anteilen einer Substanz in einem Gas oder Gasgemisch werden Messungen an dem Gas oder Gasgemisch zum Spülen einer Linse (10) in einem Projektionsapparat (41) für die Projektion von Strukturen auf ein Substrat (100) durchgeführt. Dabei werden die Resultate einer ersten Messung an dem der Linse (10) zugeführten Gas mit den Resultaten einer Messung des von der Linse (10) abgeführten Gases miteinander verglichen. Handelt es sich insbesondere um eine kontaminierende Substanz, die zu einer Abscheidung auf der Linse (10) unter dem Einfluß hochenergetischer Strahlung durch eine Beleuchtungsquelle (14) führt, so kann aus der Differenz auf nachteilhaft zu der Abscheidung führende photochemische Reaktionen an der Oberfläche der Linse (10) geschlossen werden. Ein Signal wird infolge des Vergleiches generiert, mit dem vorbeugende Maßnahmen gegen eine Degradation der Linse (10) getroffen werden können. Als Meßgeräte (60) können Massenspektrometer, elektrische oder optische Sensoren sowie weitere bekannte Verfahren zur Substanzanalyse eingesetzt werden.

Abstract translation: 使用装置（60）确定气体或气体混合物中物质的比例，对气体或气体混合物进行测量以在投影装置（41）中喷射透镜（10） 执行基板（100）上的结构投影。 将供给透镜（10）的气体的第一测量结果与从透镜（10）移除的气体的测量结果进行比较。 特别是它是否是一种污染物质，容易在镜头（10）的影响下沉积在镜头（10）上 通过照明源（14）的高能量辐射，该差异可以用于推断透镜（10）表面处的光化学反应，这对沉积不利。 作为比较的结果产生信号，其中可以采取预防措施防止镜头（10）的退化。 作为测量（60）质谱仪，可以使用电或光学传感器以及其他已知的物质分析方法。

公开(公告)号：WO03062926A8

公开(公告)日：2003-11-27

申请号：PCT/DE0204755

申请日：2002-12-20

Applicant: JENOPTIK LASER OPTIK SYS GMBH ,  DRESSLER THOMAS

Inventor： DRESSLER THOMAS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70833 ,  G03F7/70883

Abstract: The invention relates to a method for constructing an optical beam guide system in a contamination-free atmosphere and a universal optical module for said construction. The aim of the invention is to prevent contamination of the optical imaging elements during handling, assembly and adjustment. According to the invention, the imaging element is fixated aligned relative to a first reference of a support on said support outside the contamination-free atmosphere of the beam guide system, with its optical axis protected against atmospheric influences. The support, protected against atmospheric influences, is introduced into the contamination-free atmosphere of the beam guide system together with the imaging element and is fastened on the recording element, with the first reference aligned with a second reference of a recording element, thereby aligning the optical axis of the imaging element in the beam guide system. The method and the optical module according to the invention are especially suitable for applications where optical systems have to be positioned in a beam guide system ready for instantaneous use and protected from environmental influences.

Abstract translation: 在服务结构通用光学模块结构中无污染气氛的光束引导系统中的一个方法，该目的是避免光学成像元件存在的处理，组装和调整措施污染过程中发生的。 成像构件是无污染的气氛中的光束引导系统保护与它相对于固定到载体并与成像元件的载体在一起的支撑件的第一基准大气剂对准的光轴的外保护，因此能成为对大气影响的光束导引系统的无污染的气氛和第一 参照物与接收元件上的接收元件的第二参考对准地对准，由此成像元件的光轴的对准发生在光束引导系统中。 该方法和光学模块在防止环境影响的光学器件必须立即定位于光束引导系统中的情况下特别有用。