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    EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM
    1.
    发明申请
    EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM 审中-公开
    EUV光刻系统

    公开(公告)号：WO2017025374A1

    公开(公告)日：2017-02-16

    申请号：PCT/EP2016/068333

    申请日：2016-08-01

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： EHM, Dirk Heinrich ,  AMENT, Irene ,  SHKLOVER, Vitaliy

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70908 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein EUV-Lithographiesystem (1), umfassend: eine EUV- Lichtquelle (5) zur Erzeugung von EUV-Strahlung (7), die das EUV- Lithographiesystem (1 ) entlang eines EUV-Strahlengangs (6) durchläuft, mindestens ein optisches Element (8, 9, 10, 11, 13, 14), dessen optische Oberfläche (8a, 9a, 10a, 11 a, 13a, 14a) in dem EUV-Strahlengang (6) angeordnet ist, mindestens eine elektrisch leitende Struktur (17a-c), die den EUV-Strahlengang (6) in mindestens einem Abschnitt (6a-c) ringförmig umgibt und/oder die eine Gitterstruktur (17a-c) bildet, die mehrere an Knoten miteinander verbundene elektrische Leiter aufweist, sowie mindestens eine Spannungsquelle (18a-c) zum Erzeugen einer elektrischen Ladung (-) der mindestens einen elektrisch leitenden Struktur (17a-c) zum Ablenken von elektrisch geladenen kontaminierenden Partikeln (P) aus dem EUV- Strahlengang (6).

    Abstract translation: 本发明涉及一种EUV光刻系统（1），包括：EUV光源（5），用于产生EUV辐射（7），其沿一个EUV光束路径（6），至少一个穿过所述EUV光刻系统（1） 其光学面（8A，9A，10A，11A，13A，14A）被布置在EUV光束路径（6），至少一个导电结构的光学元件（8，9，10，11，13，14）（ 17A-C），其环状地包围该EUV光路（6）中的至少一个部分（图6a-c）和/或具有多个相互连接的电导体的节点的网格结构（17A-C）的形式，和至少一个 电压源（18A-C），用于产生一个电荷 - 所述至少一个导电结构（17A-C），用于从（6）的EUV光束路偏转带电的污染物颗粒（P）（）。

    DRUCKSCHWANKUNGEN IN EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    2.
    发明申请
    DRUCKSCHWANKUNGEN IN EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
    投影曝光系统压力波动

    公开(公告)号：WO2014067707A1

    公开(公告)日：2014-05-08

    申请号：PCT/EP2013/069575

    申请日：2013-09-20

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： GRUNER, Toralf ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  WOLF, Alexander ,  HARTJES, Joachim ,  SCHWAB, Markus ,  HAUF, Markus

    IPC: G03F7/20 ,  G03F1/62 ,  G02B7/00

    CPC classification number: G03F7/7015 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/709

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Halbleiterlithographie, mit einem Beleuchtungssystem (1) zum Beleuchten einer auf einem beweglichen Maskentisch (2) angeordneten Maske (3) und einem Projektionsobjektiv (4) zum Abbilden der Maske (3) auf ein Halbleitersubstrat (9), wobei mindestens ein Mittel (11,14, 44, 20, 17, 42, 15, 19) vorhanden ist, mindestens Teile des Beleuchtungssystems (1) und/oder des Projektionsobjektives (4) von dem Einfluss von Druckschwankungen in dem das Projektionsobjektiv (4) oder das Beleuchtungssystem (1) umgebende Medium, welche auf Bewegungen des Maskentisches (2) im Betrieb der Anlage (10) zurückgehen, mindestens teilweise zu entkoppeln.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备（10），包括一个照明系统（1）布置用于在可移动的掩模台照明（2）掩模（3）和用于在半导体衬底上成像掩模（3）的投影透镜（4）（ 9），其中，至少一个装置（11,14，44，20，17，42，15，19）存在时，在照明系统（1）和/或所述投射物镜（4）的压力波动的影响的至少一部分，其中所述 至少部分地分离所述周围介质，其返回到所述设备（10），投影透镜的操作的掩模台（2）的运动（4）或所述照明系统（1）。

    CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
    3.
    发明申请
    CONTAMINATION TRAP FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
    污染设备的污染物

    公开(公告)号：WO2013160083A1

    公开(公告)日：2013-10-31

    申请号：PCT/EP2013/057169

    申请日：2013-04-05

    Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： LUIJTEN, Carlo

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70883 ,  H05G2/008

    Abstract: Disclosed is a contamination trap arrangement (300) configured to trap debris particles that are generated with the formation of a plasma within a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. The contamination trap comprises a vane structure (310) for trapping the debris particles; a heating arrangement (330) for heating the vane structure, the heating arrangement being in thermal communication with the vane structure; a cooling arrangement (350) for transporting heat generated as a result of the plasma formation, away from the vane structure, and a gap (370) between the heating arrangement and the cooling arrangement. The cooling arrangement is in thermal communication with the vane structure via the heating arrangement and the gap and the contamination trap also comprises a heat transfer adjustment arrangement operable to adjust the heat transfer characteristics of a fluid inside of the gap by providing for controllable relative movement between the surfaces defining the gap.

    Abstract translation: 公开了一种污染捕集装置（300），其被配置成捕获在被配置为产生极紫外辐射的辐射源内形成等离子体而产生的碎屑颗粒。 污染物捕集器包括用于捕获碎屑颗粒的叶片结构（310） 用于加热所述叶片结构的加热装置（330），所述加热装置与所述叶片结构热连通; 用于将等离子体形成结果产生的热量远离叶片结构传送的冷却装置和加热装置与冷却装置之间的间隙（370）。 冷却装置通过加热装置与叶片结构热连通并且间隙，并且污染物捕集阱还包括热传递调节装置，其可操作以通过提供间隙之间的可控相对运动来调节间隙内部的流体的传热特性 表面限定间隙。

    LOW-CONTAMINATION OPTICAL ARRANGEMENT
    5.
    发明申请
    LOW-CONTAMINATION OPTICAL ARRANGEMENT 审中-公开
    低污染光学布置

    公开(公告)号：WO2010017952A2

    公开(公告)日：2010-02-18

    申请号：PCT/EP2009005808

    申请日：2009-08-11

    Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  KWAN YIN-BUN PATRICK ,  XALTER STEFAN

    Inventor： KWAN YIN-BUN PATRICK ,  XALTER STEFAN

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70883

    Abstract: Optical arrangement having a plurality of optical elements (8, 8'), the optical elements (8, 8') being capable of transmitted a beam (10), and there being provided at least one partial housing (9, 9') which extends from a surface of an optical element (8, 8') in the direction of the beam emanating from the optical element (8,8'), or of the beam incident on the optical element, and whose shape is adapted to the shape of the beam, the at least one partial housing (9, 9') being surrounded at least partially by a measurement structure (11) mechanically decoupled therefrom, and the measurement structure (11) having at least one sensor (12, 17).

    Abstract translation: 具有多个光学元件（8,8'）的光学装置，光学元件（8,8'）能够透射光束（10），并且设置有至少一个部分壳体（9,9'），其中 从光学元件（8,8'）的光束元件（8,8'）发射的光束的方向或入射到光学元件上的光束从光学元件（8,8'）的表面延伸，并且其形状适于形状 所述至少一个部分壳体（9,9'）至少部分地由与其机械分离的测量结构（11）包围，并且所述测量结构（11）具有至少一个传感器（12,17）。

    RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    6.
    发明申请
    RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    辐射源，光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：WO2010017892A1

    公开(公告)日：2010-02-18

    申请号：PCT/EP2009/005509

    申请日：2009-07-30

    Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  LOOPSTRA, Erik, Roelof ,  MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina

    Inventor： BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  LOOPSTRA, Erik, Roelof ,  MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina

    IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

    CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003

    Abstract: A lithographic apparatus (1) includes a radiation source (SO) configured to produce extreme ultraviolet radiation, the radiation source (SO) including a chamber (210) in which a plasma (225) is generated; a collector mirror (270) configured to reflect radiation emitted by the plasma (225); and a debris mitigation system (230) including a gas supply system (235) configured to supply a first gas flow (240) toward the plasma, the first gas flow (240) being selected to thermalize debris generated by the plasma (225), and a plurality of gas manifolds (247) arranged at a location proximate the collector mirror (270), the gas manifolds configured to supply a second gas flow (250) in the chamber (210), the second gas flow (250) being directed toward the plasma (225) to prevent thermalized debris from depositing on the collector mirror (270).

    Abstract translation: 光刻设备（1）包括被配置为产生极紫外辐射的辐射源（SO），所述辐射源（SO）包括其中产生等离子体（225）的腔室（210） 被配置为反射由所述等离子体（225）发射的辐射的收集器反射镜（270）; 以及包括气体供应系统（235）的碎片减缓系统（230），所述气体供应系统（235）被配置为朝向所述等离子体供应第一气流（240），所述第一气体流（240）被选择为热等离子体（225）产生的碎片， 和多个气体歧管（247），其布置在靠近收集器反射镜（270）的位置处，所述气体歧管被配置为在所述腔室（210）中提供第二气流（250），所述第二气体流（250）被引导 朝向等离子体（225），以防止热碎的碎屑沉积在收集器反射镜（270）上。

    EXPOSURE APPARATUS
    8.
    发明申请
    EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    曝光装置

    公开(公告)号：WO2009041702A2

    公开(公告)日：2009-04-02

    申请号：PCT/JP2008/067778

    申请日：2008-09-24

    Applicant: NIKON CORPORATION ,  SHIBAZAKI, Yuichi

    Inventor： SHIBAZAKI, Yuichi

    CPC classification number: G03F7/709 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70991 ,  H02J5/005

    Abstract: Electric power is generated by using a generator (38) equipped with: a coil unit (38A) that is arranged on a barrel platform (50) and incorporates coils(39); and a magnet unit (38B) that has a magnet section (44) arranged on a protruding section (33a) of a column (30) separated from the barrel platform (50) in terms of vibration and generates an electromotive force in a non-contact state with the coils (39), and a motor (43) that drives the magnet section, and thus a wiring that supplies electric power to the barrel platform (50) does not have to be used. Accordingly, vibration that has been propagated to the barrel platform through the wiring can be precluded.

    Abstract translation: 通过使用配备有：线圈单元（38A）的发电机（38A）产生电力，线圈单元（38A）布置在筒平台（50）上并且包括线圈（39）; 以及磁体单元（38B），其具有设置在与所述机筒平台（50）分离的列（30）的突出部（33a）上的磁体部（44），并且产生非磁性的电动势， 与线圈（39）的接触状态和驱动磁体部的电动机（43），从而不需要使用向筒平台（50）供给电力的配线。 因此，可以防止通过布线传播到筒平台的振动。

    DEBRIS PREVENTION SYSTEM, RADIATION SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
    9.
    发明申请
    DEBRIS PREVENTION SYSTEM, RADIATION SYSTEM, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
    防破坏系统，辐射系统和平面设备

    公开(公告)号：WO2009011579A1

    公开(公告)日：2009-01-22

    申请号：PCT/NL2008/050480

    申请日：2008-07-16

    Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus ,  SOER, Wouter, Anthon ,  GIELISSEN, Kurt

    Inventor： VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus ,  SOER, Wouter, Anthon ,  GIELISSEN, Kurt

    IPC: G03F7/20 ,  G21K1/00 ,  H05G2/00

    CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70983

    Abstract: A debris prevention system is constructed and arranged to prevent debris that emanates from a radiation source (2) from propagating with radiation from the radiation source (2) into or within a lithographic apparatus. The debris prevention system includes an aperture (3) that defines a maximum emission angle (α) of the radiation coming from the radiation source (2), and a first debris barrier (4, 4') having a radiation transmittance. The first debris barrier (4. 41) includes a rotatable foil trap. The debris prevention system also includes a second debris barrier (5) that has a radiation transmittance. The first debris barrier (4, 4') is configured to cover a part of the emission angle and the second debris barrier (5) is configured to cover another part of the emission angle (θ).

    Abstract translation: 构造和布置防碎片系统，以防止从辐射源（2）发出的碎屑不会从辐射源（2）的辐射传播到光刻设备内或其内。 碎片防止系统包括限定来自辐射源（2）的辐射的最大发射角（a）的孔（3）和具有辐射透射率的第一碎片屏障（4,4'）。 第一个碎片屏障（4.41）包括一个可旋转的箔片捕获器。 碎片防止系统还包括具有辐射透射率的第二碎片屏障（5）。 第一碎片屏障（4,4'）构造成覆盖一部分发射角，并且第二碎片屏障（5）构造成覆盖发射角（θ）的另一部分。

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