公开(公告)号：WO2014097621A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：PCT/JP2013/007433

申请日：2013-12-18

申请人： ASAHI GLASS COMPANY LIMITED

发明人： TIXHON, M. Eric ,  MICHEL, M. Eric ,  LECLERCQ, M. Joseph

IPC分类号： C23C16/40 ,  C03C17/00 ,  C23C16/509 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32348 ,  C03C17/002 ,  C03C17/245 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/15 ,  C03C2218/153 ,  C23C16/402 ,  C23C16/509 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/332

摘要： The present invention concerns a device (10) for the surface treatment of a substrate (1) by dielectric barrier discharge that enables the generation of a cold filamentary plasma at atmospheric pressure, comprising a reaction chamber, in which are positioned means for supporting and/or moving the substrate (2) and at least two electrodes (3, 4) arranged in parallel on either side of the means for supporting and/or moving the substrate (2), of which one electrode (3) is intended to be brought to high voltage and a counter-electrode (4) to be earthed. It is characterised in that the counter-electrode (4) has a width (l ce ) and a length (L ce ) that are respectively smaller than the width (l e ) and the length (L e ) of the electrode (3), and in that the counter-electrode (4) is positioned so that it is enclosed in an orthogonal projection (5) of the electrode (3) on a plane containing the counter-electrode (4). The invention also concerns a surface treatment process, in particular for layer deposition, that calls for such a device.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于通过能够在大气压下产生冷丝状等离子体的电介质阻挡放电来对衬底（1）进行表面处理的器件（10），其包括反应室，其中定位有用于支撑和/ 或移动基板（2）和至少两个平行布置的电极（3,4），用于支撑和/或移动基板（2）的装置的两侧，其中一个电极（3）将被带入 到高电压和对电极（4）接地。 其特征在于，对电极（4）的宽度（lce）和长度（Lce）分别小于电极（3）的宽度（le）和长度（Le），因此， 相对电极（4）被定位成使其被包围在包含对电极（4）的平面上的电极（3）的正交突起（5）中。 本发明还涉及要求这种装置的表面处理方法，特别是用于层沉积的表面处理方法。

公开(公告)号：WO2014008383A1

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：PCT/US2013/049300

申请日：2013-07-03

申请人： 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY ,  BROWN, Katherine A. ,  NARUM, Timothy N. ,  JING, Naiyong ,  HEBRINK, Timothy J.

发明人： BROWN, Katherine A. ,  NARUM, Timothy N. ,  JING, Naiyong ,  HEBRINK, Timothy J.

IPC分类号： C03C17/00 ,  C03C17/22 ,  C09D5/16

CPC分类号： C03C17/02 ,  C03C17/007 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/478 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/111 ,  C03C2218/114 ,  C03C2218/118 ,  C03C2218/32 ,  C08K3/36 ,  C09D5/00 ,  C09D5/1681 ,  C09D7/67

摘要： The present disclosure relates generally to anti-soiling compositions, methods of applying anti-soiling compositions, and equipment for applying anti-soiling compositions. In some embodiments, the present disclosure relates to a method of forming a durable coating on a glass substrate, comprising: (1) applying a coating composition to a glass substrate, the applied coating composition having a thickness of greater than 4 microns; the coating composition consisting essentially of about 0.25% to about 10% by weight of non-oxidizing nanoparticles, an acid, and water; (2) allowing the coating composition to remain on the glass substrate for at least an amount of time sufficient to permit at least some of the nanoparticles to bond to the glass substrate; (3) reducing the thickness of the coating composition to about 0.25 to 4 microns, and (4) evaporating at least some of the water to form the durable coating.

摘要翻译： 本公开一般涉及防污染组合物，施用抗污染组合物的方法，以及用于施用抗污染组合物的设备。 在一些实施方案中，本公开内容涉及在玻璃基底上形成耐久涂层的方法，其包括：（1）将涂料组合物施加到玻璃基底上，所涂覆的涂料组合物具有大于4微米的厚度; 涂层组合物基本上由约0.25％至约10％重量的非氧化性纳米颗粒，酸和水组成; （2）允许涂料组合物保留在玻璃基材上至少一定量的时间，足以允许至少一些纳米颗粒结合到玻璃基底; （3）将涂料组合物的厚度减小至约0.25至4微米，和（4）蒸发至少一些水以形成耐久涂层。

公开(公告)号：WO2013161827A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/JP2013/061947

申请日：2013-04-23

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： ▲桑▼原　雄一 ,  森　勇介 ,  阿部　啓介 ,  米田　貴重

IPC分类号： C03C17/25 ,  C03C17/34 ,  H01L31/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  G02B5/02

CPC分类号： C03C17/25 ,  B05D3/104 ,  B05D3/107 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/007 ,  C03C17/009 ,  C03C17/34 ,  C03C17/3411 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/70 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/127 ,  G02B5/02 ,  H01L31/048 ,  Y02E10/50

摘要： 　目的の光学特性に応じて所望の粒子径の無機微粒子を用いることができ、かつ無機微粒子の選択の幅が広い、無機微粒子含有酸化ケイ素膜付ガラス基板の製造方法を提供する。　ガラス基板１０上に、無機微粒子１４と、アルコキシシランの加水分解物と、水および（ポリ）エチレングリコールのいずれか一方または両方とを含むコーティング液を塗布し、無機微粒子含有酸化ケイ素膜１２を形成する；または、溶融ガラスをガラスリボンに成形し、ガラスリボンを徐冷し、ついで切断してガラス基板を製造する際に、ガラスリボン上に、無機微粒子と、アルコキシシランの加水分解物と、水および（ポリ）エチレングリコールのいずれか一方または両方とを含むコーティング液を塗布し、無機微粒子含有酸化ケイ素膜を形成する。

摘要翻译： 提供一种具有含有无机微粒的氧化硅膜的玻璃基板的制造方法，其中可以根据客观光学特性使用具有所需粒径的无机细颗粒，并且对于无机细颗粒具有广泛的选择。 通过在玻璃基板（10）上涂布涂布液，形成无机微粒子的氧化硅膜（12），所述涂布液含有无机微粒（14），烷氧基硅烷的水解产物和水和/或 （聚乙二醇; 或者，当通过将熔融玻璃熔融到玻璃带中并缓慢冷却然后切割玻璃带来制造玻璃基板时，通过将涂布液施加到玻璃带上来形成含有无机细颗粒的氧化硅膜，所述涂布液含有 无机细颗粒，烷氧基硅烷的水解产物和水和/或（聚）乙二醇。

公开(公告)号：WO2013131995A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：PCT/EP2013/054573

申请日：2013-03-07

申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

发明人： WEBER, Jürgen ,  TRAEGER, Norbert ,  SCHEICH, Gerrit ,  WERDECKER, Waltraud ,  SCHENK, Christian ,  PEEKHAUS, Joachim ,  MEYER-MERGET, Kerstin ,  PANKALLA, Sebastian

IPC分类号： C01B33/12 ,  C01B33/157 ,  C01B33/187

CPC分类号： C01B33/1417 ,  B05D5/005 ,  B05D2203/35 ,  B05D2601/22 ,  B82Y30/00 ,  C01B33/158 ,  C01P2004/64 ,  C03B19/066 ,  C03C3/076 ,  C03C8/02 ,  C03C17/25 ,  C03C2205/00 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/30

摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer pastösen SiO 2 -Masse unter Verwendung eines SiO 2 -Schlickers, das einfache Zwischenlager- und Transportbedingungen zulässt ohne dass dadurch die Verarbeitbarkeit des Schlickers zur pastösen SiO 2 -Masse beeinträchtigt wird. Erfindungsgemäß wird dazu vorgeschlagen, dass ein homogenisierter SiO 2 -Grundschlicker einem Trocknungsschritt unter Bildung einer SiO 2 -Trockenmasse unterzogen und anschließend mittels eines Wiederbefeuchtungsschrittes zu der pastösen SiO 2 -Masse weiterverarbeitet wird, wobei der Wiederbefeuchtungsschritt die Zugabe von Flüssigkeit auf die SiO 2 -Trockenmasse unter Ausbildung einer pastösen knetbaren SiO 2 -Masse mit einem Feststoffgehalt von mehr als 85 Gew.-% umfasst. Die Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung einer pastösen SiO 2 -Masse als Reparaturmasse.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产使用的SiO 2料浆，其允许容易中间储存和运输条件，而不影响浆料的可加工性受到影响的糊状物质的SiO 2糊状物质的SiO 2。 根据本发明，意味着经历干燥步骤一均匀化的SiO 2 - 基极浆料，形成的SiO 2的固体，然后由一个Wiederbefeuchtungsschrittes的手段糊状的SiO 2质量进一步处理时，Wiederbefeuchtungsschritt添加液体到SiO 2系干质量，以形成糊状 具有.-超过85％（重量），其包括的固体含量的SiO 2捏合质量。 本发明还涉及到使用糊状物质的SiO 2作为修复块。

公开(公告)号：WO2013094662A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/JP2012/082989

申请日：2012-12-20

申请人： コニカミノルタ株式会社 ,  高橋 伸明 ,  大谷 直久 ,  末安 清隆 ,  村上 淳 ,  落合 永次

发明人： 高橋　伸明 ,  大谷　直久 ,  末安　清隆 ,  村上　淳 ,  落合　永次

IPC分类号： C03C17/245

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/153 ,  C23C16/24 ,  C23C16/513

摘要： 　薄膜ガラスの端面にプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により保護層を成膜する。これにより、薄膜ガラスの強度を向上させることができる。

摘要翻译： 在本发明中，通过在薄膜玻璃的端面上的等离子体化学气相沉积（CVD）形成保护层。 结果，可以提高薄膜玻璃的强度。

公开(公告)号：WO2013094479A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/JP2012/082108

申请日：2012-12-11

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 岡畑　直樹 ,  中川　浩司 ,  ▲桑▼原　雄一 ,  小林　大介

IPC分类号： C03C17/245 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30 ,  C03C21/00

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C17/25 ,  C03C21/00 ,  C03C21/002 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/1525 ,  Y10T428/315

摘要： 　本発明は、短時間で製膜が可能であり、製膜後に化学強化処理することが可能な膜をガラス基板の表面に形成させた化学強化用ガラス基板を提供することを目的とする。本発明は、フロート法により成形されたガラス基板であって、Ｈ原子濃度が１．０×１０ １５ ～１．０×１０ １９ ａｔｏｍ／ｍｍ ３ の範囲にある無機物からなる膜が少なくとも１面に形成されている化学強化用ガラス基板に関する。

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种用于化学增强的玻璃基板，其中在玻璃基板的表面上形成能够在短时间内形成并且可以在其形成之后化学强化的膜。 本发明涉及一种用于化学增强的玻璃基板，其通过浮法形成，并且在其至少一个表面上形成包含H原子浓度为1.0×1015至1.0的无机材料的膜 ×1019原子/ mm3。

公开(公告)号：WO2013041840A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：PCT/GB2012/052266

申请日：2012-09-13

申请人： PILKINGTON GROUP LIMITED ,  NELSON, Douglas Martin

发明人： NELSON, Douglas Martin

IPC分类号： C03C17/00 ,  C03C17/245 ,  C03C17/34 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C17/002 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/1525 ,  C23C16/402 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/545

摘要： A chemical vapor deposition process for the deposition of a silica layer on a glass substrate is provided. The process includes providing a glass substrate. The process also includes forming a gaseous precursor mixture comprising a silane compound, oxygen, water vapor, and a radical scavenger and directing the precursor mixture toward and along the glass substrate. The mixture reacts over the glass substrate to form a silica coating thereon.

摘要翻译： 提供了用于在玻璃基板上沉积二氧化硅层的化学气相沉积工艺。 该方法包括提供玻璃基底。 该方法还包括形成包含硅烷化合物，氧气，水蒸气和自由基清除剂的气态前体混合物，并将前体混合物导向玻璃基板并沿玻璃基板引导。 混合物在玻璃基板上反应以在其上形成二氧化硅涂层。

公开(公告)号：WO2013023782A2

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：PCT/EP2012/003472

申请日：2012-08-15

申请人： CENTROSOLAR GLAS GMBH & CO. KG ,  SONTHEIMER, Thomas ,  HOFMANN, Thomas ,  GLAUBITT, Walther

发明人： SONTHEIMER, Thomas ,  HOFMANN, Thomas ,  GLAUBITT, Walther

IPC分类号： C03C17/00

CPC分类号： C03C17/007 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/425 ,  C03C2218/113

摘要： Ein Glas (1), versehen mit einer Korrosions-Schutzschicht (2), soll insbesondere für technische Anwendungen besonders geeignet sein und durch die aufgebrachte Korrosions-Schutzschicht (2) mit vergleichsweise einfachen Mitteln besonders wirksam gegen Korrosionseffekte und insbesondere gegen unerwünschte Auslaugung geschützt sein. Dazu ist die Korrosions-Schutzschicht (2) erfindungsgemäß porös ausgeführt und weist eine Porosität, gemessen durch den Anteil des Porenvolumens am Gesamtvolumen der Schicht (2), von mindestens 30 % auf.

摘要翻译： 玻璃（1），设置有一个防腐蚀层（2），特别是旨在由抗腐蚀效果特别有效的相对简单的装置被保护，特别是对不希望的浸出特别适于技术应用，并通过施加防腐蚀层（2）。 对于这一点，（2）是根据本发明设计的腐蚀保护层是多孔的并具有的孔隙率，如通过孔体积与所述层（2）的总体积的至少30％，比重测定。

公开(公告)号：WO2013017268A1

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：PCT/EP2012/003259

申请日：2012-07-31

申请人： LINDE AKTIENGESELLSCHAFT ,  CARNEY, Stephen ,  REISS, Werner

发明人： CARNEY, Stephen ,  REISS, Werner

IPC分类号： C03C17/25

CPC分类号： C03C17/25 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/23 ,  C03C2217/732 ,  C03C2218/112

摘要： The invention relates to a method for producing a porous coating on a glass surface, wherein an aqueous potassium silicate solution is applied to the glass surface and a porous silicate coating is formed on said glass surface. The pH of the potassium silicate solution is controlled and the formation of the silicate coating is carried out in a process atmosphere of which the relative humidity is controlled.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在玻璃表面上制备多孔涂层的方法，其中将硅酸钾水溶液施加到玻璃表面上并且在所述玻璃表面上形成多孔硅酸盐涂层。 控制硅酸钾溶液的pH值，并在控制相对湿度的处理气氛中进行硅酸盐涂层的形成。

公开(公告)号：WO2012137744A1

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：PCT/JP2012/059002

申请日：2012-04-02

申请人： 旭硝子株式会社 ,  阿部 啓介 ,  ▲桑▼原 雄一 ,  河合 洋平

发明人： 阿部　啓介 ,  ▲桑▼原　雄一 ,  河合　洋平

IPC分类号： C03C17/25 ,  C03C17/23 ,  B32B7/02 ,  B32B17/06 ,  B60J1/00

CPC分类号： C03C1/008 ,  C03C17/007 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/452 ,  C03C2217/465 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/113

摘要： 　本発明は、マトリックスと中空微粒子とを含む単層の低反射膜（１４）を、ガラス板（１２）の表面に有する低反射膜付きガラス板（１０）であって、波長３００～１，２００ｎｍの範囲内における低反射膜（１４）の最低反射率が、１．７％以下であり、低反射膜（１４）の表面における水接触角が、９７°以上であり、低反射膜（１４）の表面におけるオレイン酸接触角が、５０°以上であり、低反射膜（１４）の表面におけるオレイン酸転落角が、２５°以下である、前記低反射膜付きガラス板（１０）に関する。本発明によれば、反射率が充分に低く、かつ油脂汚れの除去性が良好である単層の低反射膜をガラス板の表面に有する低反射膜付きガラス板、前記低反射膜付きガラス板を製造できる製造方法、及び前記低反射膜付きガラス板を有する表示装置を提供できる。

摘要翻译： 本发明涉及一种具有低反射膜的玻璃板（10），其具有在玻璃板（12）的表面上含有基质和中空微粒的单层的低反射膜（14），其中反射率最低 在300〜1200nm的波长范围内的低反射膜（14）为1.7％以下，低反射膜（14）表面的水接触角为97°以上，油酸接触角 在低反射膜（14）的表面中为50°以上，低反射膜（14）表面的油酸滑动角为25°以下。 本发明提供一种玻璃板，其具有反射率低，油污去除性能好的单层的低反射膜，具有低反射膜的玻璃板的制造方法以及具有玻璃板的显示装置 低反射膜。