公开(公告)号：WO2005017829A1

公开(公告)日：2005-02-24

申请号：PCT/JP2004/002646

申请日：2004-03-03

Applicant: 学校法人 早稲田大学 ,  藤田 努 ,  三島 克彦 ,  菅野 淳 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  内海 京丈

Inventor： 藤田 努 ,  三島 克彦 ,  菅野 淳 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  内海 京丈

IPC: G06T1/00

CPC classification number: G06T5/003 ,  H04N5/217 ,  H04N5/23229

Abstract: ぼけの形状が各画素で異なることを考慮した画像改質処理を行うことができ、画像改質効果をより一層高めることができる画像改質処理方法およびその装置、プログラム、並びにデータ記録媒体である。各座標（ｍ，ｎ）についての畳み込み演算行列Ｑ m,n の各要素Ｑ m,n （ｘ，ｙ）のうち少なくとも非零要素を含む行列部分の値を畳み込み演算行列記憶手段（３２），（３３）に記憶しておき、二焦点レンズ（２１）で被写体を撮像した際に、再生演算手段（３６）により、画像素子（２４）の出力信号Ｚ（ｍ＋ｘ，ｎ＋ｙ）の値と、畳み込み演算行列記憶手段（３２），（３３）に記憶したＱ m,n （ｘ，ｙ）とを用いて畳み込み演算処理を行うことにより被写体行列Ａの各要素Ａ（ｍ，ｎ）の値を算出し、ピントの合った画像を求めるようにした。

Abstract translation: 考虑到各像素中的模糊形状不同，提供了能够进行视频质量改进的视频质量改进方法，其设备，程序和数据记录介质，从而进一步提高视频改进效果。 卷积计算矩阵存储装置（32,33）存储卷积计算矩阵Q m，n的各个元素Q m，n（x，y）中的至少非零元素的矩阵部分的值，各自的坐标（m ，n）。 当通过双焦点透镜（21）拾取物体时，再现计算装置（36）通过使用视频元件（24）的输出信号Z（m + x，n + y）的值和 存储在卷积计算矩阵存储装置（32,33）中的Qm，n（x，y），从而计算对象矩阵A的每个元素A（m，n）的值，以获得良好聚焦的图像 。

公开(公告)号：WO2006137355A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：PCT/JP2006/312227

申请日：2006-06-19

Applicant: リバーベル株式会社 ,  松下電器産業株式会社 ,  藤田 努 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  佐野 みさ ,  西澤 眞人 ,  今岡 卓也

Inventor： 藤田 努 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  佐野 みさ ,  西澤 眞人 ,  今岡 卓也

IPC: G02B5/18 ,  G02B3/08 ,  G02B3/10 ,  H04N5/225 ,  H04N5/232 ,  H04N101/00

CPC classification number: H04N5/2254 ,  G02B3/08 ,  G02B3/10

Abstract: 　撮影対象となる被写体までの距離が異なっても、ピントのぼけ方の状態が略同じになり、被写体までの距離にかかわらず画像改質処理を同じデータを使った処理で実現することができる多焦点レンズおよび撮像システムを提供する。 　複数の焦点距離を持つ多焦点レンズ（例えば２つの焦点距離を持つ多焦点レンズ５２１）を構成するにあたり、第１の焦点距離を持つ複数の第１のレンズ部から、第Ｎ（Ｎは２以上の整数）の焦点距離を持つ複数の第Ｎのレンズ部までのそれぞれ焦点距離の異なる各レンズ部を一体化した。この際、例えば円形状や楕円形状の第１のレンズ部を中心として第１～第Ｎのレンズ部を同心状に複数回繰り返して配置した。なお、各レンズ部は、回折レンズにより形成してもよい。

Abstract translation: 尽管距离要被拍摄的物体不同的距离，能够提供几乎相同的模糊状态的多焦点透镜，并且在使用相同的数据的处理中实现图像修改处理，而不管距离物体的距离。 和成像系统。 当要配置具有多个焦点距离的多焦点透镜（例如，具有两个焦距的多焦点透镜（521））时，具有分别具有不同焦距的各个透镜单元从具有第一焦点距离的多个第一透镜单元 多个具有N（N，2或更大的整数2）焦距的第N个透镜单元被集成。 例如，第一至第N透镜单元以圆形或椭圆形的第一透镜单元为中心重复多次重复排列。 各透镜单元可以由衍射透镜形成。

公开(公告)号：WO2007148470A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：PCT/JP2007/058593

申请日：2007-04-20

Applicant: リバーベル株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一

Inventor： 鐘ヶ江 正巳 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一

IPC: H01L21/304 ,  B01J19/08 ,  B08B3/02 ,  B08B5/00 ,  B08B7/00 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/24

CPC classification number: H05H1/30 ,  B08B3/08 ,  B08B7/00 ,  B08B7/0035 ,  G03F7/42 ,  G03F7/427 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6708

Abstract: A treating apparatus, and method of treating, being capable of shortening the lead time and being more reliable in treating performance than in the prior art. There is provided an apparatus comprising chamber (1); holding means (3) for holding of treatment object (2), disposed in the chamber; active atom feeding means (4) for feeding of active atoms into the chamber; and chemical solution feeding means (5) for feeding of a solution of chemical into the chamber so as to carry out not only dry treatment by the active atoms fed by the active atom feeding means but also wet treatment by the solution of chemical fed by the chemical solution feeding means on the surface of the treatment object.

Abstract translation: 一种处理装置和处理方法，其能够缩短交货时间并且在处理性能方面比现有技术更可靠。 提供了一种包括腔室（1）的装置; 用于保持处理物体（2）的保持装置（3），设置在所述腔室中; 用于将活性原子进料到所述室中的活性原子进料装置（4） 以及化学溶液供给装置（5），用于将化学溶液供给到室中，以便不仅由活性原子进料装置供给的活性原子进行干燥处理，而且还通过由 化学溶液进料装置在处理对象的表面上。

公开(公告)号：WO2010082561A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：PCT/JP2010/050218

申请日：2010-01-12

Applicant: リバーベル株式会社 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  加藤 恭一 ,  尾上 薫 ,  福岡 大輔

Inventor： 鐘ヶ江　正巳 ,  加藤　恭一 ,  尾上　薫 ,  福岡　大輔

IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/507 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/30

CPC classification number: B01J19/088 ,  B01J2219/0809 ,  B01J2219/083 ,  B01J2219/0871 ,  B01J2219/0884 ,  B01J2219/0898 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2456 ,  H05H2001/2462 ,  H05H2240/10 ,  H05H2240/20

Abstract: 【課題】高清浄・高純度で、安定した高密度プラズマを生成し、継続的に安定なプラズマを維持できるプラズマ装置を提供する。 【解決手段】ガス供給口１２及びプラズマ出口１３を有する第１のプラズマ生成室１０と、第１のプラズマ生成室内の空間に露出しない状態で配置された第１のプラズマ生成手段１１と、プラズマ出口を通じて第１のプラズマ生成室で発生したプラズマが供給されるプラズマ供給口２２を有する第２のプラズマ生成室２０と、第２のプラズマ生成室内の空間に露出しない状態で配置され、第１のプラズマ生成室で発生したプラズマよりも高密度のプラズマを第２のプラズマ生成室内に発生させるための第２のプラズマ生成手段２１とを有するプラズマ生成装置。

Abstract translation: 公开了一种能够产生高洁净性和高纯度的稳定高密度等离子体的等离子体装置，能够连续地维持稳定的等离子体。 具体公开了一种等离子体制造装置，其包括：具有气体供给开口（12）和等离子体出口（13）的第一等离子体产生室（10）。 第一等离子体产生装置（11），其布置成不暴露于第一等离子体产生室内的空间; 具有等离子体供应开口（22）的第二等离子体产生室（20），等离子体产生室中产生的等离子体通过等离子体供给口通过等离子体出口提供; 以及第二等离子体产生装置（21），其布置成不暴露于第二等离子体产生室内的空间并在第二等离子体产生室内产生等离子体，所述等离子体在第二等离子体产生 室具有比在第一等离子体产生室中产生的等离子体更高的密度。