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公开(公告)号：WO2016021799A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/KR2015/003041
申请日：2015-03-27
IPC分类号： C23C24/00 , C23C16/44 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/22 , C09D5/03 , C23C16/4404 , C23C16/4405 , C23C16/455 , C23C16/45563 , C23C16/46
摘要： 본 발명은 「화학기상증착(CVD; chemical vapor deposition) 공정챔버의 내부에 위치한 부품(component)으로서, 상기 부품은 알루미늄 원소가 포함된 재질로 구성된 3차원 물체이고, 상기 부품의 3차원 표면을 따라 균열이 없는 불화알루미늄(AlF 3 ) 생성방지막이 형성되어 있으며, 상기 불화알루미늄 생성방지막은 이트륨(Y, yttrium)을 포함하거나 SiC, ZrO 2 , ZrC, TiO 2 , TiN, TiC, TiCN, TiCl 2 , HfO 2 중 어느 하나 이상의 성분으로 구성된 세라믹 파우더가 상기 부품의 표면에 분사 코팅됨으로써 형성된 것이고, 상기 부품의 모서리 및 면에서 탈리현상이 발생하지 않는 것을 특징으로 하는 CVD 공정챔버 부품」에 관한 것이다.
摘要翻译： 本发明涉及位于化学气相沉积（CVD）处理室内的化学气相沉积（CVD）处理室组件，其中该组件是由含有铝元素的材料形成的三维物体; 沿着该部件的三维表面形成不产生裂纹的氟化铝（AlF 3）阻挡膜; 通过用含有钇（Y）或由SiC，ZrO 2，ZrC，TiO 2，TiN，TiC，TiCN，TiCl 2和HfO 2中的至少一种构成的陶瓷粉末喷涂组分的表面而形成氟化铝生成阻挡膜 ; 并且在组件的边缘和表面处不发生分层现象。
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公开(公告)号：WO2010011076A2
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/KR2009/004041
申请日：2009-07-21
CPC分类号： C23C24/04 , B05B7/144 , B05B7/1454
摘要： 본 발명은 고상의 파우더를 균등 분산시켜 기재에 균일하게 연속적으로 증착하여 균일한 박막을 형성할 수 있는 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 고상 파우더 입자의 크기, 형태 및 비중에 상관없이 수송관에 단위 시간당 일정한 유량의 수송기체와 단위 시간당 일정한 양의 고상파우더를 공급하여 생성된 밀도, 속도, 유량이 일정한 에어로졸을 연속적으로 노즐에 유입시켜 기재의 재질 및 크기에 상관없이 기재 단면 전체에 걸쳐 균등하게 연속적으로 고상파우더를 증착하여 박막을 형성시킬 수 있는 방법 및 그 장치를 제공한다.
摘要翻译： 本发明涉及一种方法和装置，其中固体粉末均匀分散并且均匀且连续地气相沉积到基底上，使得可以形成均匀的薄膜。 更具体地说，本发明提供了一种用于形成薄膜的方法和装置，其中固体粉末通过使用基板的材料或尺寸而均匀且连续地气相沉积在基板的整个表面上 喷嘴，连续地喷射通过以每单位时间以预定量供给固体粉末和载体气体以每单位时间的预定流量在载体管中产生的预定密度，速度和流速的气溶胶，而不管尺寸如何， 固体粉末颗粒的稠度和比重。
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3.发明申请
公开(公告)号：WO2016072724A1
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：PCT/KR2015/011755
申请日：2015-11-04
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/56
CPC分类号： C23C4/11 , C23C4/02 , C23C4/134 , C23C4/18 , C23C24/04 , H01J37/32477 , H01J37/32495 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H01L21/56 , H01L21/67069
摘要： 본 발명은 반도체 또는 디스플레이 제조장비의 공정부품이 플라즈마에 노출되어 식각되는 문제를 해결하기 위한 것으로서, 공정부품에 대한 세라믹 파우더 코팅 전·후 표면(공정부품 본체의 표면 및 코팅막의 표면)의 골(valley)과 피크(peak)의 제거를 통해 플라즈마 내식각성을 향상시키는 방법과 이로 인해 플라즈마 내식각성이 향상된 공정부품에 관한 것이다. 본 발명은 「플라즈마에 노출되는 반도체 또는 디스플레이 제조장비 공정부품으로서, 골(valley)과 피크(peak)의 일부 또는 전부가 제거된 본체의 표면에 코팅막이 형성되고, 상기 코팅막 표면에서 골(valley)과 피크(peak)의 일부 또는 전부가 제거된 것을 특징으로 하는 플라즈마 내식각성이 향상된 공정부품」을 제공한다.
摘要翻译： 本发明是为了解决处理暴露于等离子体和蚀刻的半导体或显示器制造设备的部件的问题，本发明涉及一种提高等离子体耐蚀刻性的方法以及具有改进的耐等离子体耐蚀刻性的处理部件 方法，其中除去陶瓷粉末涂覆之前和之后的处理组分表面（处理组分的主体的表面和涂膜的表面）的谷和峰。 本发明提供“处理部件，其是暴露于等离子体的半导体或显示制造设备的处理部件，其具有形成在其主体的表面上的涂膜，其具有部分或全部的谷和峰被去除 并且具有改进的等离子体蚀刻电阻，其特征在于从涂膜表面去除部分或全部的谷和峰。
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公开(公告)号：WO2015005705A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/KR2014/006217
申请日：2014-07-10
摘要： 본 발명은 진공상태의 코팅챔버 내에 배치된 기재에 고상파우더를 분사코팅하는 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대기압 상태의 기체를 흡입한 흡입기체와 기체공급장치로부터 공급된 공급기체를 함께 상기 고상파우더의 수송기체로 사용할 수 있도록 구성된 고상파우더 코팅장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 「고상파우더(4)의 수송로를 제공하는 수송관(10); 기체공급장치(20)에서 공급하는 공급기체의 유로가 되는 기체공급관(15); 상기 수송관(10) 또는 기체공급관(20)의 말단에 결합된 분사노즐(30); 상기 분사노즐(30)을 수용하는 코팅챔버(40); 대기압 상태가 유지되는 환경에서 수용된 고상파우더(4)를 상기 수송관(10)에 공급하는 고상파우더공급부(미도시); 및 상기 코팅챔버(40)의 내부 압력을 조절하는 압력조절장치(50); 를 포함하여 구성되며, 상기 압력조절장치(50)의 구동으로 형성된 상기 코팅챔버(40)의 부압에 의해 대기압 상태의 기체가 상기 수송관(10)에 흡입되도록 구성되어, 흡입기체(1)와 공급기체(2)가 함께 고상파우더(4)의 수송기체(3)로 작용하도록 구성되고, 상기 수송관(10)과 기체공급관(15)은 각각 제1구간(10a, 15a), 제2구간(10b, 15b) 및 제3구간(10c, 15c)이 차례로 연속되도록 구성되되, 상기 제1구간(10a, 15a) 내지 제3구간(10c, 15c)의 직경조건이 1)조건(제1구간=제2구간=제3구간), 2)조건(제1구간≥제3구간≥제2구간) 및 3)조건(제3구간≥제1구간≥제2구간) 중 어느 하나에 부합하도록 구성된 것을 특징으로 하는 고상파우더 코팅장치」를 제공한다.
摘要翻译： 本发明涉及一种在真空状态下将固态粉末喷涂到布置在涂布室内的基材上的装置和方法，更具体地涉及一种用于涂覆固态粉末的装置和方法 形成为使得从气体供给装置供给的吸入大气压的气体和从气体供给装置供给的气体的吸入气体一起用作固体状粉末的输送气体。 本发明提供了一种用于涂覆固体粉末的装置，包括：用于提供固态粉末（4）的输送路径的输送管（10）; 气体供给管（15），其作为由供气装置（20）供给的供给气体的流路; 连接到输送管（10）的端部或气体供应管（20）的喷嘴（30）; 容纳喷嘴（30）的涂布室（40）; 用于在保持大气压的环境中供给容纳在输送管道（10）中的固态粉末（4）的固态粉末供给部（未图示） 以及用于控制所述涂覆室（40）的内部压力的压力控制装置（50），其中，由于在所述涂布室（40）中由于负压而将所述大气压状态下的气体吸入所述输送管（10） 驱动压力控制装置（50），使得吸入气体（1）和供给气体（2）一起起到固体粉末（4）的输送气体（3）的作用，并且其中每个输送管 （10）和气体供给管（15）以顺序的方式设置有第一部分（10a，15a），第二部分（10b，15b）和第三部分（10c，15c），其中 第一部分（10a，15a）至第三部分（10c，15c）的直径满足第一条件（第一部分=第二部分=第三部分），第二条件（第一部分≥第三部分≥第二部分）中的一个， 和第三条件（第三部分≥第一部分≥第二部分）。
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公开(公告)号：WO2018151462A1
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：PCT/KR2018/001701
申请日：2018-02-08
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C16/455 , H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본 발명은 에칭(etching) 공정 또는 증착(deposition) 공정에 사용되는 가스 샤워헤드(gas showerhead)에 관한 것이다. 본 발명은 가스유로가 하면(下面)까지 형성되어 있고, 상기 하면 및 가스유로에 이트륨(Yttrium) 원소를 포함한 코팅막이 균열 없이 형성된 것을 특징으로 하는 가스 샤워헤드를 제공한다.
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公开(公告)号：WO2015037872A1
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：PCT/KR2014/008316
申请日：2014-09-04
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/6833 , B05D1/02 , B05D3/0493 , H01L21/6831 , H02N13/00
摘要： 본 발명은 「베이스 기재; 정전기력을 이용하여 웨이퍼를 흡착하는 흡착부; 상기 흡착부를 상기 베이스 기재에 접착시키는 접착층; 및 상기 접착층의 노출면을 커버하도록 구비된 접착층 침식방지 코팅층;을 포함하여 구성되며, 상기 접착층 침식방지 코팅층은 유량이 일정하게 통제된 수송기체에 연속적으로 정량 공급되는 세라믹 파우더가 0~50℃ 및 진공상태의 조건에서 분사 코팅되는 방식으로 만들어져 기공과 균열이 없는 것을 특징으로 하는 정전척」 및 「(a) 정전기력을 이용하여 웨이퍼를 흡착하는 흡착부를 베이스 기재에 접착시키는 접착층을 형성하는 단계; 및 (b) 유량이 일정하게 통제된 수송기체에 세라믹 파우더를 연속적으로 정량 공급하여 0~50℃ 및 진공상태의 조건에서 분사 코팅하는 방식으로 만들어져 상기 접착층의 노출면을 커버하며 기공과 균열이 없는 접착층 침식방지 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 제조 방법」을 제공한다.
摘要翻译： 本发明提供一种静电卡盘，包括：基材; 用于通过静电力吸附晶片的吸附部分; 粘合剂层，用于将吸附部分粘附到基材上; 以及设置为覆盖粘合剂层的暴露表面的粘合剂层防腐蚀涂层，其中粘合剂层防腐蚀涂层没有孔或裂纹，因为粘合剂层防腐蚀涂层是通过使用 喷涂和涂覆，在0-50℃和真空状态的条件下，连续供应恒定量的陶瓷粉末，以便承载控制固定流量的气体，以及静电卡盘的制造方法， 包括以下步骤：（a）通过使用静电力形成用于将用于将晶片吸附到基材的吸附部分的粘合剂层; 和（b）在0-50℃的条件下形成覆盖粘合剂层的暴露表面并且通过使用喷涂和涂布方法制成的孔或裂纹的粘合剂层防腐蚀涂层， 真空状态，以恒定量连续供给的陶瓷粉末，以承载控制固定流量的气体。
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公开(公告)号：WO2015005735A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/KR2014/006276
申请日：2014-07-11
CPC分类号： C23C24/02
摘要： 본 발명은 기재표면에 형성된 금속산화물(Metal Oxide) 막 구조물에 관한 것으로서, 금속산화물 막을 구성하는 금속원소의 원자수와 산소원소의 원자수가 비화학량론적 특성을 나타내어, 금속산화물 막의 밀도가 코팅 전(前) 금속산화물 밀도의 90%~100%로 치밀하게 형성되고, 균열과 기공이 없는 금속산화물 막 구조물에 관한 것이다. 본 발명은 「기재표면에 형성된 금속산화물 막 구조물로서, X a Y b 로 표기되는 금속산화물(X:금속원소, Y:산소원소, a:금속원소 원자수, b:산소원소 원자수)이 막 구조물로 형성될 때, 상기 금속산화물 막 구조물의 금속원소 원자퍼센트(atomic percent)가 {a/(a+b)}×100(%) 보다 크게 나타나고, 상기 막 구조물은 나노 결정질 입자와 나노 비결정질 입자로 구성되되, 상기 막 구조물을 구성하는 입자는 열에 의한 성장 및 열에 의한 결정질로의 변화를 수반하지 않고, 균열 및 기공이 없는 것을 특징으로 하는 금속산화물 막 구조물」을 제공한다.
摘要翻译： 本发明涉及形成在基材表面上的金属氧化物膜结构，更具体地说，涉及一种金属氧化物膜结构，其中金属元素的原子数和氧元素的原子数构成 金属氧化物膜具有非化学计量特性，致密且形成为使得金属氧化物的密度为涂覆前金属氧化物密度的90-100％，并且不具有裂纹或气泡。 本发明提供了金属氧化物膜结构体，其中，在基材的表面上形成金属氧化物膜结构体，其中，当由XaYb（X：金属元素，Y：氧元素）表示的金属氧化物 金属元素的原子，b：氧元素的原子数）形成为膜结构，金属氧化物膜结构中的金属元素的原子百分比大于{a /（a + b）}×100（％ ），其中所述膜结构包括纳米晶体颗粒和纳米非结晶颗粒，并且其中构成所述膜结构的颗粒不会由于热而生长或由于热而变得结晶，并且不存在裂纹和气泡。
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公开(公告)号：WO2012046898A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/KR2010/006889
申请日：2010-10-08
CPC分类号： B05C19/04 , B05B5/00 , B05B5/032 , B05B7/1486 , C23C24/04
摘要： 본 발명은 별도의 가스 공급장치 없이, 대기압상태에 있는 공기를 흡입시켜 고상파우더를 수송하고, 이 흡입 수송된 고상파우더를 진공상태에서 분사하여 기재에 코팅할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 진공챔버 내부의 압력을 조절하고, 분사노즐 전(前)단부의 압력을 대기압 보다 낮은 압력으로 설정함으로써, 가스 공급장치로부터 압축가스의 공급 없이 대기압 상태에 있는 공기를 자동 흡입하여 고상파우더를 수송하고, 이 흡입 수송된 고상파우더를 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐 출구에서 분사하여 임의의 기재에 코팅할 수 있는 장치를 제공한다.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于通过吸入大气而不使用任何附加气体供给装置来输送固态粉末的装置，并且通过在真空状态下喷射被抽吸和输送的固态粉末来涂覆基材。 自动吸入大气，固体粉末从气体供给装置输送任何压缩气体，并通过控制真空室内的压力，将喷嘴前端的压力设定为低于大气压 。 抽吸和输送的固态粉末通过设置在真空室中的喷嘴的出口喷射以涂覆某些基材。
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