公开(公告)号：WO2010038972A3

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：PCT/KR2009/005584

申请日：2009-09-30

Applicant: 주식회사 테라세미콘 ,  이병일 ,  장석필 ,  박경완 ,  송종호

Inventor： 이병일 ,  장석필 ,  박경완 ,  송종호

IPC: H01L21/205

Abstract: 화학기상 증착법에 의한 박막 증착시 원료가 되는 소스물질을 가스화하여 증착챔버 내로 공급하는 소스가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 소스가스 공급장치(200)는 소스물질을 가열하여 소스가스를 생성하는 소스가스 생성부(210); 및 소스가스 생성부(210)에서 생성된 소스가스가 유입되어 응축되는 소스가스 응축부(240)를 포함하되, 소스가스 응축부(240)에 응축된 소스가스의 응축량이 포화 응축량에 도달할 때까지 소스가스 생성부(210)로부터 소스가스 응축부(240)로 소스가스의 유입을 진행하여 소스가스 응축부(240)에 소스가스를 응축시키고, 소스가스 응축부(240)에 응축된 소스가스의 응축량이 포화 응축량에 도달한 이후는 소스가스 생성부(210)로부터 소스가스 응축부(240)로 소스가스의 유입을 차단하고 소스가스 응축부(240)에 응축되어 있던 소스가스를 증착챔버(250)로 유입시키는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：WO2011136604A3

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：PCT/KR2011/003193

申请日：2011-04-29

Applicant: 주식회사 테라세미콘 ,  강호영 ,  송종호

Inventor： 강호영 ,  송종호

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/683

Abstract: 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판 홀더의 사용이 필수적으로 요구되는 공정에만 기판 홀더가 이용되므로, 기판의 처리 공정의 효율성이 향상되는 효과가 있다. 또한, 복수개의 기판을 동시에 처리하므로, 기판의 처리 공정의 생산성이 향상되는 효과가 있다. 또한, 기판의 냉각이 이루어지는 냉각부의 공간 활용을 극대화하는 효과가 있다. 또한, 기판과 기판 홀더의 분리 과정에서 기판 홀더의 관통홀과 기판 지지핀의 얼라인이 맞지 않아 발생하는 기판 및/또는 기판 홀더의 파손이 방지되는 효과가 있다.

公开(公告)号：WO2012030032A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/KR2011/001318

申请日：2011-02-25

Applicant: 주식회사 테라세미콘 ,  송종호 ,  강호영

Inventor： 송종호 ,  강호영

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/6734 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309

Abstract: 배치식 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 배치식 기판 처리 장치(1)는 기판(10)을 처리하는 기판 처리부(400); 기판(10)을 이송하는 이송부(200, 300); 및 기판(10) 처리된 기판(10)을 냉각하는 냉각부(500)를 포함하며, 기판 처리부(400)는, 기판(10)이 기판(10) 처리되는 공간을 제공하는 챔버(430); 챔버(430)의 내부에 설치되고, 기판(10)이 다층으로 적재되는 보트(440); 보트(440)에 다층으로 탈착 가능하게 설치되며, 기판(10)을 지지하는 홀더(450); 및 홀더(450) 상에 구비되어 기판(10)을 지지하는 복수개의 기판 지지대(460)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 公开了一种间歇式基板处理装置。 根据本发明的一个实施例的分批式基板处理装置（1）包括：用于处理基板（10）的基板处理单元（400）; 用于输送基板（10）的输送单元（200,300）; 以及用于冷却已经被处理的基板（10）的基板（10）的冷却单元（500），其中所述基板处理单元（400）包括：提供用于处理所述基板的基板（10）的空间的室（430） 10）; 安装在所述室（430）内的船（440），并且其中所述基板（10）装载在多层中; 保持器（450），其以可附接/可拆卸的方式多层安装在所述船（440）上，并且支撑所述基板（10）; 以及设置在所述保持器（450）上以支撑所述基板（10）的多个基板支架（460）。

公开(公告)号：WO2011065688A3

公开(公告)日：2011-06-03

申请号：PCT/KR2010/007872

申请日：2010-11-09

Applicant: 주식회사 테라세미콘 ,  이병일 ,  박경완 ,  허관선 ,  강호영 ,  송종호

Inventor： 이병일 ,  박경완 ,  허관선 ,  강호영 ,  송종호

IPC: C30B33/02

Abstract: 다결정 실리콘 형성 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 장치는, 기판 상에 형성된 비정질 실리콘을 열처리하여 다결정 실리콘을 형성하는 장치로서, 비정질 실리콘을 예열(pre-heating)하는 예열부(200); 및 예열부(200)에서 예열된 비정질 실리콘을 결정화 열처리하는 열처리부(300)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：WO2011025256A2

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：PCT/KR2010/005695

申请日：2010-08-25

Applicant: 주식회사 테라세미콘 ,  이병일 ,  박경완 ,  강호영 ,  김철호 ,  송종호

Inventor： 이병일 ,  박경완 ,  강호영 ,  김철호 ,  송종호

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 반도체 소자나 평판 디스플레이 제조를 위한 박막 증착 공정 시에 매 증착 공정마다 균일한 양의 증착가스가 공급될 수 있도록 하는 증착가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 증착가스 공급장치(100)는, 증착물질이 저장되는 증착물질 저장부(200), 증착물질에 열을 인가하여 증착가스를 발생시키는 증착물질 증발부(300) 및 운반가스를 공급하는 운반가스 공급부(400)를 포함하는 증착가스 공급장치(100)로서, 증착물질 저장부(200)와 증착물질 증발부(300) 사이에 배치되는 증착물질 공급부(500)를 더 포함하고, 증착물질 공급부(500)는 매 증착 공정 마다 증착물질 증발부(300)로 일정 양의 증착물질을 공급하는 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 公开了一种沉积气体供给装置，当进行薄膜沉积以制造半导体器件或平板显示器时，能够为每个沉积工艺提供恒定量的沉积气体。 根据本发明的沉积气体供应装置（100）包括：沉积材料存储单元（200），其中存储沉积材料; 沉积材料蒸发单元（300），其向所述沉积材料施加热量以产生蒸发气体; 以及供给载气的载气供给单元（400）。 沉积气体供给装置（100）还包括插入在沉积材料存储单元（200）和沉积材料蒸发单元（300）之间的沉积材料供应单元（500）。 沉积材料供给单元（500）为每个沉积处理向沉积材料蒸发单元（300）供应恒定量的沉积材料。