PROCESS FOR PRODUCING COLD EMISSION POINTS
    1.
    发明申请
    PROCESS FOR PRODUCING COLD EMISSION POINTS 审中-公开
    PROCESS场发射尖端的制备

    公开(公告)号:WO1997027607A1

    公开(公告)日:1997-07-31

    申请号:PCT/DE1996002246

    申请日:1996-11-22

    CPC classification number: H01J9/025

    Abstract: The proposal is for a process for producing cold emission points in which a plurality of holes (2) is made in an insulating material (1) and then filled with a metal. Metal bodies (3) are thus formed which, owing to the small diameter of the holes (2), form the cold emission points. The typical diameter of the holes (2) is from a few to a few tens of nanometres.

    Abstract translation: 它提出了一种用于场发射尖端的制造方法,其特征在于在绝缘材料(1)具有多个(2)产生空穴,并且随后填充有金属。 有这样形成的金属体(3)形成,由于这些孔的小直径的场致发射峰(2)。 孔(2)典型地具有直径为几纳米到几十纳米。

    VERFAHREN ZUR BEEINFLUSSUNG DER RUSSANLAGERUNG AUF SENSOREN
    2.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR BEEINFLUSSUNG DER RUSSANLAGERUNG AUF SENSOREN 审中-公开
    程序影响RUSSANLAGERUNG上的传感器

    公开(公告)号:WO2005124313A1

    公开(公告)日:2005-12-29

    申请号:PCT/EP2005/051664

    申请日:2005-04-15

    CPC classification number: G01N15/0656

    Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Steuerung der Russanlagerung auf Sensoren. Es ist ein Sensorelement (1) vorgesehen, welches eine erste Elektrode (3) und eine zweite Elektrode (4) umfasst. An das Sensorelement (1) sind unterschiedliche Messspannungen U 1 , und U 2 anlegbar. Während einer ersten Zeitspanne t 1 , wird das Sensorelement (1) mit einer erhöhten Spannung U, bis zum Überschreiten einer Auslöseschwelle AP des Sensorelements (1) betrieben, während dieses innerhalb einer zweiten Zeitspanne t 2 mit einer von der erhöhten Spannung U 1 , verschiedenen Spannung U 2 , die geringer ist als die Spannung U 1 , betrieben wird.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于在传感器控制Russanlagerung的方法。 提供了一种传感器元件(1),包括第一电极(3)和第二(4)电极。 是在传感器元件(1)不同的测量电压U1,U2和应用。 在第一时间段t1中,传感器元件(1)具有增加的电压U,直到超过所述传感器元件的AP跳闸阈值(1),而这在从电压U1增加操作的第二时间段t2内,不同的电压U2, 小于电压U1,被操作。

    ANORDNUNG ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATS
    3.
    发明申请
    ANORDNUNG ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATS 审中-公开
    安排用于涂布基材

    公开(公告)号:WO2013087338A1

    公开(公告)日:2013-06-20

    申请号:PCT/EP2012/072677

    申请日:2012-11-15

    CPC classification number: C23C14/544

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung (10) zum Beschichten eines Substrats (12), umfassend eine Beschichtungskammer (18) und wenigstens zwei an jeweils gegenüberliegenden Seiten der Beschichtungskammer derart angeordnete Strahlungsöffnungen (20, 22) aufweist, dass ein Lichtstrahl (24) durch die Strahlungsöffnungen (20, 22) einen Beschichtungskegel (14) zwischen Verdampfungsbehälter (16) und Substrat (12) durchstrahlt. Wenigstens zwei Spiegelkammern (26, 28), sind jeweils außerhalb der Beschichtungskammer (18) angeordnet und weisen jeweils eine Öffnung (30, 32) auf, die mit einer Strahlungsöffnung (20, 22) verbunden ist. In jeder der Spiegelkammern ist ein Kammerspiegel (34, 36) derart ausgerichtet, dass der Lichtstrahl zwischen den in unterschiedlichen Spiegelkammern angeordneten Kammerspiegeln einkoppelbar ist. Wenigstens ein Kammerspiegel ist teildurchlässig. Wenigstens ein Detektor (44, 46, 48) detektiert den aus den Kammerspiegeln ausgekoppelten Lichtstrahl. Eine derartige Anordnung (10) erlaubt eine genaue Ermittlung der Dampfdichte in der Beschichtungskammer und damit eine genaue Ermittlung der Beschichtungsrate.

    Abstract translation: 本发明涉及一种装置(10)用于涂覆衬底(12)包括一个涂层室(18)和至少两个上涂覆室的相应的相对两侧,以便布置辐射孔(20,22),该光束(24)穿过 辐射的开口(20,22)具有在蒸发容器(16)和基片(12)之间的涂层锥体(14)照射。 至少两个反射镜腔室(26,28)分别设置在涂布室(18)外部,并且每一个都具有开口(30,32),其连接到辐射孔(20,22)。 在每个腔室的定向,使得布置在不同的腔室腔的反射镜的反射镜之间的光束可以耦合一个镜室的反射镜(34,36)。 至少一个腔室是部分透射镜。 至少一个检测器(44,46,48)检测出耦合从腔室的反射镜的光束。 这样的布置(10),允许精确确定在涂层室中的密度的,并因此精确确定的被覆率的。

    MAGNETORESISTIVE MAGNETSENSORANORDNUNG
    5.
    发明申请
    MAGNETORESISTIVE MAGNETSENSORANORDNUNG 审中-公开
    磁阻磁传感器装置

    公开(公告)号:WO2005054886A1

    公开(公告)日:2005-06-16

    申请号:PCT/EP2004/052441

    申请日:2004-10-05

    CPC classification number: B82Y25/00 G01R33/093

    Abstract: Es wird eine Magnetsensoranordnung mit mindestens einer magnetfeldempfindlichen Sensorschicht (6) in einem Multilagen-Schichtstapel vorgeschlagen, bei der elektrische Widerstand von magnetfeldempfindlichen Sensorelementen (2,3,4,5) der Sensorschicht (6) in Abhängigkeit von einem äußeren Magnetfeld (H„,t) veränderbar ist. Ferner ist eine Bias-Schicht zur Erzeugung eines magnetischen Hilfsfeldes (Mini) vorhanden. Die Sensorelemente sind aus mikrostrukturierten Messstreifen (2,3,4,5) in der Sensorschicht (6) gebildet und die Magnetsensoranordnung ist derart ausgebildet, dass die Richtung der Magnetisierung (Mini) der Bias-Schicht und die Richtung des äußeren Magnetfeldes (H„,t) nahezu senkrecht zu der Längserstreckung der mikrostrukturierten Messstreifen (2,3,4,5) verlaufen.

    Abstract translation: 它提出了一种具有至少一个磁场敏感传感器层(6)的多层片堆叠,磁性传感器阵列,其中,响应于外部磁场的传感器层(6)的磁场敏感的传感器元件(2,3,4,5)的电阻(H“ t是)改变。此外,用于生成磁辅助场(迷你)的偏置层存在。所述传感器元件(来自于所述传感器层的微结构化仪2,3,4,5)(6)形成,并且在形成在磁传感器阵列这样的方式 磁化的偏置层(迷你)和外部磁场的方向(H”,T)的方向上延伸几乎垂直于微结构化表压(2,3,4,5)的纵向延伸。

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