Abstract:
The proposal is for a process for producing cold emission points in which a plurality of holes (2) is made in an insulating material (1) and then filled with a metal. Metal bodies (3) are thus formed which, owing to the small diameter of the holes (2), form the cold emission points. The typical diameter of the holes (2) is from a few to a few tens of nanometres.
Abstract:
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Steuerung der Russanlagerung auf Sensoren. Es ist ein Sensorelement (1) vorgesehen, welches eine erste Elektrode (3) und eine zweite Elektrode (4) umfasst. An das Sensorelement (1) sind unterschiedliche Messspannungen U 1 , und U 2 anlegbar. Während einer ersten Zeitspanne t 1 , wird das Sensorelement (1) mit einer erhöhten Spannung U, bis zum Überschreiten einer Auslöseschwelle AP des Sensorelements (1) betrieben, während dieses innerhalb einer zweiten Zeitspanne t 2 mit einer von der erhöhten Spannung U 1 , verschiedenen Spannung U 2 , die geringer ist als die Spannung U 1 , betrieben wird.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung (10) zum Beschichten eines Substrats (12), umfassend eine Beschichtungskammer (18) und wenigstens zwei an jeweils gegenüberliegenden Seiten der Beschichtungskammer derart angeordnete Strahlungsöffnungen (20, 22) aufweist, dass ein Lichtstrahl (24) durch die Strahlungsöffnungen (20, 22) einen Beschichtungskegel (14) zwischen Verdampfungsbehälter (16) und Substrat (12) durchstrahlt. Wenigstens zwei Spiegelkammern (26, 28), sind jeweils außerhalb der Beschichtungskammer (18) angeordnet und weisen jeweils eine Öffnung (30, 32) auf, die mit einer Strahlungsöffnung (20, 22) verbunden ist. In jeder der Spiegelkammern ist ein Kammerspiegel (34, 36) derart ausgerichtet, dass der Lichtstrahl zwischen den in unterschiedlichen Spiegelkammern angeordneten Kammerspiegeln einkoppelbar ist. Wenigstens ein Kammerspiegel ist teildurchlässig. Wenigstens ein Detektor (44, 46, 48) detektiert den aus den Kammerspiegeln ausgekoppelten Lichtstrahl. Eine derartige Anordnung (10) erlaubt eine genaue Ermittlung der Dampfdichte in der Beschichtungskammer und damit eine genaue Ermittlung der Beschichtungsrate.
Abstract:
Es wird ein Sensorelement für Gassensoren insbesondere zur Bestimmung von Partikeln in Gasgemischen beschrieben mit mindestens einem dem zu bestimmenden Gasgemisch ausgesetzten elektrochemischen Messelement und mindestens einem in das Sensorelement integrierten Temperaturmesselement (30) . Das Temperaturmesselement (30) umfasst eine Widerstandsleiterbahn, die einen elektrischen Widerstand von weniger als 180 Ohm bei 0°C aufweist. Dies erlaubt eine Herstellung der Widerstandsleiterbahn mittels Dickschichttechnik, beispielsweise durch Siebdruck.
Abstract:
Es wird eine Magnetsensoranordnung mit mindestens einer magnetfeldempfindlichen Sensorschicht (6) in einem Multilagen-Schichtstapel vorgeschlagen, bei der elektrische Widerstand von magnetfeldempfindlichen Sensorelementen (2,3,4,5) der Sensorschicht (6) in Abhängigkeit von einem äußeren Magnetfeld (H„,t) veränderbar ist. Ferner ist eine Bias-Schicht zur Erzeugung eines magnetischen Hilfsfeldes (Mini) vorhanden. Die Sensorelemente sind aus mikrostrukturierten Messstreifen (2,3,4,5) in der Sensorschicht (6) gebildet und die Magnetsensoranordnung ist derart ausgebildet, dass die Richtung der Magnetisierung (Mini) der Bias-Schicht und die Richtung des äußeren Magnetfeldes (H„,t) nahezu senkrecht zu der Längserstreckung der mikrostrukturierten Messstreifen (2,3,4,5) verlaufen.