公开(公告)号：WO2020158272A1

公开(公告)日：2020-08-06

申请号：PCT/JP2019/050892

申请日：2019-12-25

Applicant: JSWアフティ株式会社

Inventor： 鳥居　博典 ,  影山　浩二

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H05H1/46

Abstract: ターゲット部材の長寿命化を図る。ターゲット（ＴＡ２）の構造を対称構造にすることにより、反転可能な構成を実現する。これによれば、プラズマ密度が高いプラズマ生成部側において、ターゲット部材（７１）の消費が大きくなっても、ターゲット（ＴＡ２）を反転させることにより、プラズマ密度が低い成膜対象物側に位置している消費の少ないターゲット部材（７１）の部位をプラズマ密度の高いプラズマ生成部側に再配置することができる。

公开(公告)号：WO2015050172A1

公开(公告)日：2015-04-09

申请号：PCT/JP2014/076322

申请日：2014-10-01

Applicant: JSWアフティ株式会社

Inventor： 鷲尾　圭亮

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  H01L21/318

CPC classification number: C23C16/45544 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45548 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228 ,  H01L22/12 ,  H01L22/26

Abstract: 　膜厚を基板の全領域において均一に制御する原子層堆積装置を提供する。 基板上に薄膜を形成する原子層堆積装置であって、内部に基板が配置されるとともに、内部の気体を排出する複数の排気口が互いに間隔を空けて前記基板の薄膜が形成される面と平行に配列されて設けられた成膜容器と、前記薄膜の原料ガスを前記成膜容器内に供給する原料ガス供給部と、前記基板に吸着した原料ガスの成分と反応して前記薄膜を形成する反応ガスを前記成膜容器内に供給する反応ガス供給部と、前記各排気口に接続された排気バルブと、前記複数の排気バルブを制御することで前記各排気口からの排気量を制御する制御部と、を備えることを特徴とする原子層堆積装置。

Abstract translation: 提供一种原子层沉积装置，其控制在基板的整个区域上均匀的膜厚度。 原子层沉积装置在衬底上形成薄膜，所述原子层沉积装置的特征在于具有：沉积容器，其中衬底设置在其内部，并且其上排放有多个排气口 来自内部的气体彼此间隔开以设置成与已经形成有基板的薄膜的表面平行地布置; 原料气体供给单元，其将用于所述薄膜的原料气体供给到所述沉积容器内; 反应气体供给单元，其向所述沉积容器内供给反应气体，所述反应气体与所述基板上吸附的原料气体的成分反应形成所述薄膜; 连接到每个排气口的排气阀; 以及控制单元，其通过控制多个排气阀来控制来自每个排气口的排气量。