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    ZIRCONIUM OXIDE BASED SPUTTERING TARGET
    1.
    发明申请
    ZIRCONIUM OXIDE BASED SPUTTERING TARGET 审中-公开
    氧化锆基溅射靶材

    公开(公告)号：WO2017108271A1

    公开(公告)日：2017-06-29

    申请号：PCT/EP2016/077709

    申请日：2016-11-15

    Applicant: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH

    Inventor： SIMONS, Christoph ,  HERZOG, Andreas ,  SCHULTHEIS, Markus ,  SCHOTT, Anna

    IPC: C23C14/34

    CPC classification number: C23C14/3414 ,  C01G25/02 ,  C01P2002/72 ,  C23C14/08

    Abstract: The present invention relates to a sputtering target, which comprises a zirconium oxide as a sputtering material, wherein the zirconium oxide -has an oxygen deficiency, compared to the oxygen content of its fully oxidized form, of at least 0.40 wt%, -has a total amount of metal elements other than zirconium of less than 3.0 wt%, based on the total amounts of metal elements including zirconium, and -has an X-ray powder diffraction pattern having a peak P1 at 28.2° +/-0.2° 2-theta, a peak P2 at 31.4° +/-0.2° 2-theta, and a peak P3 at 30.2° +/-0.2° 2-theta.

    Abstract translation: 溅射靶技术领域本发明涉及溅射靶，其包含作为溅射材料的氧化锆，其中氧化锆与其完全氧化形式的氧含量相比具有氧不足 基于包括锆在内的金属元​​素的总量，具有小于3.0重量％的除锆以外的金属元素的总量为至少0.40重量％，并且具有在28.2的峰值P1的X射线粉末衍射图 ＆度; +/- 0.2＆度; 2θ，在31.4°处的峰P2， +/- 0.2＆度; 2θ和在30.2°处的峰值P3。 +/- 0.2＆度; 2-θ。

    SPUTTERTARGET ZUR HERSTELLUNG EINER LICHT ABSORBIERENDEN SCHICHT
    2.
    发明申请
    SPUTTERTARGET ZUR HERSTELLUNG EINER LICHT ABSORBIERENDEN SCHICHT 审中-公开
    用于制造光吸收层的溅射靶

    公开(公告)号：WO2018046552A1

    公开(公告)日：2018-03-15

    申请号：PCT/EP2017/072372

    申请日：2017-09-06

    Applicant: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH

    Inventor： SCHLOTT, Martin ,  SCHULTHEIS, Markus ,  HERZOG, Andreas

    IPC: C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/18 ,  C23C14/34 ,  C22C29/12

    Abstract: Es ist ein Sputtertarget zur Herstellung einer Licht absorbierenden Schicht be- kannt, das aus einem Target-Werkstoff besteht, der eine Oxidphase enthält und einen im Vergleich zur stöchiometrischen Zusammensetzung reduzierten Sauer­ stoffgehalt aufweist. Um davon ausgehend, ein Sputtertarget bereitzustellen, das eine elektrisch leitfähige Phase enthält und Aufladungen und Partikelbildung ver­ meidet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der Target-Werkstoff eine metallische Phase aus Molybdän (Mo-Phase) enthält, und dass die Oxidphase Zinkoxid (ZnO-Phase) und eine Mischoxidphase mit der Formel MNO n-x enthält, wobei M die Hauptkomponente Zink (Zn) repräsentiert, und N mindestens eine der Nebenkomponenten Niob (Nb) und/oder Titan (Ti), und wobei x größer als Null ist und n die Anzahl von Sauerstoffatomen der stöchiometrischen Zusam- mensetzung der Mischoxidphase bezeichnet.

    Abstract translation: 已知有用于制造由化学计量组成比含有氧化物相且酸度降低的靶材构成的光吸收层的溅射靶。 有物质含量。 首先，提供含有导电相并促进电荷和颗粒形成的溅射靶。 避免，符合本发明。 提出目标材料包括钼（Mo相）的金属相并且氧化物相包含氧化锌（ZnO相）和具有式MNO nx x的混合氧化物相; 其中M是主要成分锌（Zn），N是次要成分铌（Nb）和/或钛（Ti）中的至少一种，并且其中x大于0且n是该基团的氧原子数 化学计量组成的混合氧化物相。

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