ELECTRODE FOR AN ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE, ACID ETCHING THEREOF, AND ALSO ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE INCORPORATING IT
    1.
    发明申请
    ELECTRODE FOR AN ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE, ACID ETCHING THEREOF, AND ALSO ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE INCORPORATING IT 审中-公开
    用于有机发光器件的电极,其酸蚀刻以及还包括其的有机发光器件

    公开(公告)号:WO2008059185A3

    公开(公告)日:2008-07-10

    申请号:PCT/FR2007052360

    申请日:2007-11-16

    Abstract: The subject of the present invention is a multilayer electrode (3), acid etching thereof and also organic light-emitting devices incorporating it. The multilayer electrode, known as a lower electrode for an organic light-emitting device (10), successively comprises: - a contact layer (31) based on a metal oxide and/or a metal nitride; a functional metallic layer (32) having intrinsic electrical conductivity properties; a thin blocking layer (32) directly on the functional layer, the layer comprising a metallic layer having a thickness less than or equal to 5 nm and/or a layer with a thickness less than or equal to 10 nm, which is based on a substoichiometric metal oxide, substoichiometric metal oxynitride or substoichiometric metal nitride; a coating comprising an overlayer based on a metal oxide (34) for adapting the work function.

    Abstract translation: 本发明的主题是多层电极(3),其酸蚀刻以及并入其中的有机发光装置。 已知作为用于有机发光装置(10)的下电极的多层电极依次包括: - 基于金属氧化物和/或金属氮化物的接触层(31) 具有固有导电性能的功能性金属层(32) - 直接在功能层上的薄阻挡层(32),所述层包括厚度小于或等于5nm的金属层和/或厚度小于或等于10nm的层,其基于 亚化学计量的金属氧化物,亚化学计量的金属氧氮化物或亚化学计量的金属氮化物; 包括基于用于调整功函数的金属氧化物(34)的覆盖层的涂层。

    SUBSTRATE COMPRISING A STACK HAVING THERMAL PROPERTIES
    2.
    发明申请
    SUBSTRATE COMPRISING A STACK HAVING THERMAL PROPERTIES 审中-公开
    包括具有热性能的堆叠的基板

    公开(公告)号:WO2007101963A3

    公开(公告)日:2008-01-31

    申请号:PCT/FR2007050881

    申请日:2007-03-06

    Abstract: The invention relates to a substrate (10) provided with a stack of thin films comprising alternate "n" functional layers (40, 80) with infrared reflection and/or solar radiation reflection properties, and "(n+1)" coatings (20, 60, 200) where n is an integer = 2, said coatings consisting of a plurality of dielectric layers (24, 26; 64, 66; 104) such that each functional layer (40) is arranged between the two coatings (20, 60, 100), at least two functional layers (40, 80) being respectively arranged on a wetting layer (30, 70) which is in turn respectively arranged directly on a subjacent coating (20, 60). The inventive substrate is characterised in that two subjacent coatings (20, 60) each comprise at least one dielectric layer (24, 64) and at least one non-crystallised smoothing layer (26) consisting of a material different from the material of the dielectric layer inside each coating, said smoothing layer (26) being in contact with the subjacent wetting layer (30).The invention is also characterised in that since the two subjacent coatings (20, 60) have different thicknesses, the thickness of the smoothing layer (26, 66) of the subjacent coating (20, 60) having a total thickness which is lower than that of the other subjacent coating is lower than or equal to the thickness of the smoothing layer (66, 26) of said other subjacent coating (60, 20).

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有薄膜叠层的衬底(10),其包括具有红外反射和/或太阳辐射反射特性的“n”个功能层(40,80)和“(n + 1)”涂层(20 ,60,200),其中n是整数= 2,所述涂层由多个电介质层(24,26; 64,66; 104)组成,使得每个功能层(40)布置在两个涂层 至少两个功能层(40,80)分别布置在润湿层(30,70)上,所述润湿层又分别直接布置在下层涂层(20,60)上。 本发明的基底的特征在于,两个相邻的涂层(20,60)各自包括至少一个电介质层(24,64)和至少一个非结晶平滑层(26),该非结晶平滑层由与电介质材料不同的材料组成 所述平滑层(26)与下面的润湿层(30)接触。本发明的特征还在于,由于两个相邻涂层(20,60)具有不同的厚度,所以平滑层的厚度 具有总厚度低于其它下层涂层的总厚度的下层涂层(20,60)的下部涂层(26,66)的厚度小于或等于所述另一个下层涂层的平滑层(66,26)的厚度 (60,20)。

    SUBSTRATE FOR THE EPITAXIAL GROWTH OF GALLIUM NITRIDE
    3.
    发明申请
    SUBSTRATE FOR THE EPITAXIAL GROWTH OF GALLIUM NITRIDE 审中-公开
    氮化镓外延生长基质

    公开(公告)号:WO2009013425A3

    公开(公告)日:2009-03-12

    申请号:PCT/FR2008051316

    申请日:2008-07-11

    Abstract: The invention relates to a substrate which may be used for as a substrate for the epitaxial growth of layers made from gallium nitride and comprising a support material (11, 21) coated on at least one side by at least one series of layers having at least one layer made from zinc oxide (13, 24). The substrate is coated with a semiconductor structure of the Nl-N or N-Vl type and characterised in that between the support material (11, 21 ) and said at least one layer made from zinc oxide (13, 24) at least one intermediate layer (12, 23) is provided which comprises oxides of at least two elements selected from tin (Sn), zinc (Zn), indium (In), gallium (Ga), or antimony (Sb).

    Abstract translation: 本发明涉及一种衬底,该衬底可以用作外延生长由氮化镓制成的层的衬底并且包括在至少一侧上被至少一个系列层涂覆的支撑材料(11,21),所述至少一系列层至少具有 一层由氧化锌制成(13,24)。 衬底涂覆有N1-N或N-V1类型的半导体结构,并且其特征在于在载体材料(11,21)和所述至少一个由氧化锌(13,24)制成的层之间的至少一个中间层 提供包含选自锡(Sn),锌(Zn),铟(In),镓(Ga)或锑(Sb)中的至少两种元素的氧化物的层(12,23)。

    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES.
    5.
    发明申请
    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES. 审中-公开
    带有具有热性能的堆叠的基板

    公开(公告)号:WO2007054655A1

    公开(公告)日:2007-05-18

    申请号:PCT/FR2006/051151

    申请日:2006-11-08

    Abstract: L'invention se rapporte à un substrat (10), notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une alternance de «n » couches fonctionnelles (40) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment de couches fonctionnelles métalliques à base d'argent, et de « (n + 1 ) » revêtements diélectriques (20, 60), avec n ≥ 1 , lesdits revêtements étant composés d'une ou d'une pluralité de couches (22, 24, 62, 64), de manière à ce que chaque couche fonctionnelle (40) soit disposée entre au moins deux revêtements diélectriques (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins une couche fonctionnelle (40) comporte un revêtement de blocage (30, 50) constitué : o d'une part d'une couche d'interface (32, 52) immédiatement en contact avec ladite couche fonctionnelle, cette couche d'interface étant en un matériau qui n'est pas un métal, o d'autre part, d'au moins une couche métallique (34, 54) en un matériau métallique, immédiatement en contact avec ladite couche d'interface (32, 52).

    Abstract translation: 本发明涉及一种衬底(10),例如透明玻璃衬底,其配备有一叠薄层,其包括在红外和/或太阳辐射范围内具有反射特性的n个功能层(40)的交替堆叠, 特别是银基金属功能层和(n + 1)电介质涂层(20,60),其中n = 1,所述涂层由一层或多层(22,24,62,64)形成,使得每个功能性 层(40)设置在至少两个电介质涂层(20,60)之间。 本发明的特征在于,至少一个功能层(40)包括阻挡涂层(30,50),其由以下部分组成:(i)与功能层直接接触并形成的界面层(32,52) 从金属以外的材料,和(ii)由金属材料制成并与界面层(32,52)直接接触的金属层(34,54)。

    SUBSTRATE COMPRISING A STACK WITH THERMAL PROPERTIES
    6.
    发明申请
    SUBSTRATE COMPRISING A STACK WITH THERMAL PROPERTIES 审中-公开
    包含具有热性能的堆叠的衬底

    公开(公告)号:WO2009122090A2

    公开(公告)日:2009-10-08

    申请号:PCT/FR2009050444

    申请日:2009-03-17

    Abstract: The invention relates to a glass substrate (10) having, on a main side, a stack of thin layers comprising a functional metallic layer (40) with reflective properties in infrared and/or solar radiation, particularly silver-based or based on a metallic alloy containing silver, and two anti-reflective coatings (20, 60), said coatings each comprising at least one dielectric layer (22, 64) silicon-nitride based, possibly doped with at least one other element, such as aluminum, said functional layer (40) being placed between the two antireflective coatings (20, 60), characterized in that the optical thickness e60 in nm of the underlying antireflective coating (60) is: e60 = 5 x e40 + a, where e40 is the geometric thickness in nm of the functional layer (40) such as 13 4040

    Abstract translation: 本发明涉及一种玻璃衬底(10),该玻璃衬底(10)在主侧具有包括功能金属层(40)的薄层叠层,所述功能金属层在红外和/或太阳辐射下具有反射特性,特别是银基或基于金属 含有银的合金和两个抗反射涂层(20,60),所述涂层各自包括至少一个基于氮化硅的介电层(22,64),其可能掺杂有至少一种其他元素(例如铝),所述功能 (40)放置在两个抗反射涂层(20,60)之间,其特征在于下面的抗反射涂层(60)的光学厚度e60(nm)为:e60 = 5×e40 + a,其中e40是几何厚度 以功能层(40)的nm为单位,例如134040 <18,并且其中a是数值= 25±15。

    SUBSTRATE PROVIDED WITH A MULTILAYER STACK HAVING THERMAL PROPERTIES
    7.
    发明申请
    SUBSTRATE PROVIDED WITH A MULTILAYER STACK HAVING THERMAL PROPERTIES 审中-公开
    提供具有热属性的多层堆叠的基板

    公开(公告)号:WO2009071810A3

    公开(公告)日:2009-07-23

    申请号:PCT/FR2008052096

    申请日:2008-11-20

    Abstract: The invention relates to a glass substrate (10) provided on a main face with a thin-film multilayer stack comprising a metallic functional layer (40) having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation, especially one based on silver or a silver-containing metal alloy, and two antireflection coatings (20, 60), said coatings each comprising at least one dielectric layer (24, 64) based on silicon nitride, said functional layer (40) lying between the two antireflection coatings (20, 60), the functional layer (40) being deposited directly on an underblocker coating (30) lying between the functional layer (40) and the subjacent antireflection coating (20), and an overblocker coating (50), deposited directly on the functional layer (40), lying between the functional layer (40) and the superjacent antireflection coating (60), characterized in that in order for said substrate to be bendable and/or toughenable after the thin-film multilayer stack has been deposited, the multilayer stack includes a thin nickel-based film in the underblocker coating (30) and/or in the overblocker coating (50), said thin nickel-based film being deposited at a high vacuum pressure, equal to or greater than 2 ´ 10-3 torr, and preferably between 2.5 ´ 10-3 torr and 5 ´ 10-3 torr.

    Abstract translation: 本发明涉及一种玻璃基板(10),其在主面上设置有薄膜多层叠堆,该叠层包括在红外和/或太阳辐射中具有反射特性的金属功能层(40),特别是基于银或 含银金属合金和两个抗反射涂层(20,60),所述涂层各自包含至少一个基于氮化硅的介电层(24,64),所述功能层(40)位于两个抗反射涂层(20,60)之间, 所述功能层(40)直接沉积在位于所述功能层(40)和所述下层抗反射涂层(20)之间的下阻隔涂层(30)上,以及直接沉积在所述功能层(40)上的上阻隔涂层(50) (40)和位于所述功能层(40)和所述上层抗反射涂层(60)之间的层(40),其特征在于,为了在所述薄膜多层叠堆已经沉积之后所述衬底可弯曲和/或可韧化, (30)和/或上阻隔涂层(50)中包含薄镍基薄膜,所述薄镍基薄膜在高真空压力下沉积,所述高真空压力等于或大于2'10- 3托,并且优选在2.5'10-3托与5'10-3托之间。

    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES
    8.
    发明申请
    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES 审中-公开
    底板提供了具有热性能的多层堆叠

    公开(公告)号:WO2009071810A2

    公开(公告)日:2009-06-11

    申请号:PCT/FR2008/052096

    申请日:2008-11-20

    Abstract: L'invention se rapporte à un substrat (10) verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (24, 64) à base de nitrure de silicium, ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), la couche fonctionnelle (40) étant déposée directement sur un revêtement de sous-blocage (30) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet (20) sous-jacent et la couche fonctionnelle (40) étant déposée directement sous un revêtement de sur-blocage (50) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet (60) sus-jacent, caractérisé en ce que pour que ledit substrat soit bombable et/ou trempable après le dépôt de l'empilement de couches minces, l'empilement comporte une couche fine à base de nickel dans le revêtement de sous-blocage (30) et/ou dans le revêtement de sur-blocage (50), ladite couche fine à base de nickel étant déposée à une haute pression de vide, égale ou supérieure à 2.10 -3 Torr, et de préférence comprise entre 2,5.10 -3 Torr et 5.10 -3 Torr.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在主面上设置有薄膜多层堆叠的玻璃基板(10),该薄膜多层叠层包括在红外线和/或太阳辐射中具有反射特性的金属功能层(40),特别是基于银或 含银金属合金和两个抗反射涂层(20,60),所述涂层各自包括基于氮化硅的至少一个电介质层(24,64),所述功能层(40)位于两个抗反射涂层(20, 60),功能层(40)直接沉积在位于功能层(40)和下层防反射涂层(20)之间的阻挡层(30)上,以及直接沉积在功能层上的覆盖层(50) (40),位于所述功能层(40)和所述上部防反射涂层(60)之间,其特征在于,为了使所述基板在所述薄膜多层堆叠已经沉积之后能够弯曲和/或增韧, 层叠层包括在阻挡层涂层(30)和/或覆盖层涂层(50)中的薄镍基膜,所述薄镍基膜在高真空压力下沉积,等于或大于2' 3托,优选在2.5'10 -3托和5'10 -3托之间。

    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES
    9.
    发明申请
    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES 审中-公开
    带有具有热性能的堆叠的基板

    公开(公告)号:WO2007054656A1

    公开(公告)日:2007-05-18

    申请号:PCT/FR2006/051152

    申请日:2006-11-08

    Abstract: L'invention se rapporte à un substrat (10), notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une alternance de « n » couches fonctionnelles (40) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment de couches fonctionnelles métalliques à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et de « (n + 1 ) » revêtements diélectriques (20, 60), avec n ≥ 1 , lesdits revêtements étant composés d'une ou d'une pluralité de couches (22, 24, 62, 64), dont au moins une en matériau diélectrique, de manière à ce que chaque couche fonctionnelle (40) soit disposée entre au moins deux revêtements diélectriques (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins une couche fonctionnelle (40) comporte un revêtement de blocage (30, 50) constitué d'au moins une couche d'interface (32, 52) immédiatement en contact avec ladite couche fonctionnelle, cette couche d'interface étant à base d'oxyde de titane TiO x .

    Abstract translation: 本发明涉及一种衬底(10),例如透明玻璃衬底,其配备有一叠薄层,其包括在红外和/或太阳辐射范围内具有反射特性的n个功能层(40)的交替堆叠, 特别是基于含有银的银或金属合金的金属功能层和(n + 1)介电涂层(20,60),其中n = 1,所述涂层由一层或多层(22,24,62,64)形成, 其中至少一个由介电材料制成,使得每个功能层(40)设置在至少两个电介质涂层(20,60)之间。 本发明的特征在于至少一个功能层(40)包括由至少一个界面层(32,52)组成的阻挡涂层(30,50),该界面层与功能层直接接触并且基于钛 氧化物TiO x。

    SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES

    公开(公告)号:WO2009122090A3

    公开(公告)日:2009-10-08

    申请号:PCT/FR2009/050444

    申请日:2009-03-17

    Abstract: L'invention se rapporte à un substrat (10) verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (22, 64) à base de nitrure de silicium, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium, ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), caractérisé en ce que l'épaisseur optique e 60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent (60) est : e 60 = 5 x e 40 + α, où e 40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle (40) telle que 13 40 40

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