Abstract:
The subject of the present invention is a multilayer electrode (3), acid etching thereof and also organic light-emitting devices incorporating it. The multilayer electrode, known as a lower electrode for an organic light-emitting device (10), successively comprises: - a contact layer (31) based on a metal oxide and/or a metal nitride; a functional metallic layer (32) having intrinsic electrical conductivity properties; a thin blocking layer (32) directly on the functional layer, the layer comprising a metallic layer having a thickness less than or equal to 5 nm and/or a layer with a thickness less than or equal to 10 nm, which is based on a substoichiometric metal oxide, substoichiometric metal oxynitride or substoichiometric metal nitride; a coating comprising an overlayer based on a metal oxide (34) for adapting the work function.
Abstract:
The invention relates to a substrate (10) provided with a stack of thin films comprising alternate "n" functional layers (40, 80) with infrared reflection and/or solar radiation reflection properties, and "(n+1)" coatings (20, 60, 200) where n is an integer = 2, said coatings consisting of a plurality of dielectric layers (24, 26; 64, 66; 104) such that each functional layer (40) is arranged between the two coatings (20, 60, 100), at least two functional layers (40, 80) being respectively arranged on a wetting layer (30, 70) which is in turn respectively arranged directly on a subjacent coating (20, 60). The inventive substrate is characterised in that two subjacent coatings (20, 60) each comprise at least one dielectric layer (24, 64) and at least one non-crystallised smoothing layer (26) consisting of a material different from the material of the dielectric layer inside each coating, said smoothing layer (26) being in contact with the subjacent wetting layer (30).The invention is also characterised in that since the two subjacent coatings (20, 60) have different thicknesses, the thickness of the smoothing layer (26, 66) of the subjacent coating (20, 60) having a total thickness which is lower than that of the other subjacent coating is lower than or equal to the thickness of the smoothing layer (66, 26) of said other subjacent coating (60, 20).
Abstract:
The invention relates to a substrate which may be used for as a substrate for the epitaxial growth of layers made from gallium nitride and comprising a support material (11, 21) coated on at least one side by at least one series of layers having at least one layer made from zinc oxide (13, 24). The substrate is coated with a semiconductor structure of the Nl-N or N-Vl type and characterised in that between the support material (11, 21 ) and said at least one layer made from zinc oxide (13, 24) at least one intermediate layer (12, 23) is provided which comprises oxides of at least two elements selected from tin (Sn), zinc (Zn), indium (In), gallium (Ga), or antimony (Sb).
Abstract:
The invention relates to a substrate (1) for an organic light-emitting device (10), especially a transparent glass substrate, comprising, on a first main face (11), a lower electrode coating (3), the electrode coating (3) consisting of a thin-film multilayer comprising, in succession, at least: a contact layer (31) based on a metal oxide and/or metal nitride; a metallic functional layer (32) having an intrinsic electrical conductivity property; and an overlayer (34) based on a metal oxide and/or metal nitride, especially for matching the work function of said electrode coating, said substrate including a bottom layer (2), said bottom layer (2) covering said main face (11).
Abstract:
L'invention se rapporte à un substrat (10), notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une alternance de «n » couches fonctionnelles (40) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment de couches fonctionnelles métalliques à base d'argent, et de « (n + 1 ) » revêtements diélectriques (20, 60), avec n ≥ 1 , lesdits revêtements étant composés d'une ou d'une pluralité de couches (22, 24, 62, 64), de manière à ce que chaque couche fonctionnelle (40) soit disposée entre au moins deux revêtements diélectriques (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins une couche fonctionnelle (40) comporte un revêtement de blocage (30, 50) constitué : o d'une part d'une couche d'interface (32, 52) immédiatement en contact avec ladite couche fonctionnelle, cette couche d'interface étant en un matériau qui n'est pas un métal, o d'autre part, d'au moins une couche métallique (34, 54) en un matériau métallique, immédiatement en contact avec ladite couche d'interface (32, 52).
Abstract:
The invention relates to a glass substrate (10) having, on a main side, a stack of thin layers comprising a functional metallic layer (40) with reflective properties in infrared and/or solar radiation, particularly silver-based or based on a metallic alloy containing silver, and two anti-reflective coatings (20, 60), said coatings each comprising at least one dielectric layer (22, 64) silicon-nitride based, possibly doped with at least one other element, such as aluminum, said functional layer (40) being placed between the two antireflective coatings (20, 60), characterized in that the optical thickness e60 in nm of the underlying antireflective coating (60) is: e60 = 5 x e40 + a, where e40 is the geometric thickness in nm of the functional layer (40) such as 13 4040
Abstract:
The invention relates to a glass substrate (10) provided on a main face with a thin-film multilayer stack comprising a metallic functional layer (40) having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation, especially one based on silver or a silver-containing metal alloy, and two antireflection coatings (20, 60), said coatings each comprising at least one dielectric layer (24, 64) based on silicon nitride, said functional layer (40) lying between the two antireflection coatings (20, 60), the functional layer (40) being deposited directly on an underblocker coating (30) lying between the functional layer (40) and the subjacent antireflection coating (20), and an overblocker coating (50), deposited directly on the functional layer (40), lying between the functional layer (40) and the superjacent antireflection coating (60), characterized in that in order for said substrate to be bendable and/or toughenable after the thin-film multilayer stack has been deposited, the multilayer stack includes a thin nickel-based film in the underblocker coating (30) and/or in the overblocker coating (50), said thin nickel-based film being deposited at a high vacuum pressure, equal to or greater than 2 ´ 10-3 torr, and preferably between 2.5 ´ 10-3 torr and 5 ´ 10-3 torr.
Abstract:
L'invention se rapporte à un substrat (10) verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (24, 64) à base de nitrure de silicium, ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), la couche fonctionnelle (40) étant déposée directement sur un revêtement de sous-blocage (30) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet (20) sous-jacent et la couche fonctionnelle (40) étant déposée directement sous un revêtement de sur-blocage (50) disposé entre la couche fonctionnelle (40) et le revêtement antireflet (60) sus-jacent, caractérisé en ce que pour que ledit substrat soit bombable et/ou trempable après le dépôt de l'empilement de couches minces, l'empilement comporte une couche fine à base de nickel dans le revêtement de sous-blocage (30) et/ou dans le revêtement de sur-blocage (50), ladite couche fine à base de nickel étant déposée à une haute pression de vide, égale ou supérieure à 2.10 -3 Torr, et de préférence comprise entre 2,5.10 -3 Torr et 5.10 -3 Torr.
Abstract:
L'invention se rapporte à un substrat (10), notamment substrat verrier transparent, muni d'un empilement de couches minces comportant une alternance de « n » couches fonctionnelles (40) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment de couches fonctionnelles métalliques à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et de « (n + 1 ) » revêtements diélectriques (20, 60), avec n ≥ 1 , lesdits revêtements étant composés d'une ou d'une pluralité de couches (22, 24, 62, 64), dont au moins une en matériau diélectrique, de manière à ce que chaque couche fonctionnelle (40) soit disposée entre au moins deux revêtements diélectriques (20, 60), caractérisé en ce qu'au moins une couche fonctionnelle (40) comporte un revêtement de blocage (30, 50) constitué d'au moins une couche d'interface (32, 52) immédiatement en contact avec ladite couche fonctionnelle, cette couche d'interface étant à base d'oxyde de titane TiO x .
Abstract:
L'invention se rapporte à un substrat (10) verrier muni sur une face principale d'un empilement de couches minces comportant une couche fonctionnelle (40) métallique à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, notamment à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (20, 60), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (22, 64) à base de nitrure de silicium, éventuellement dopé à l'aide d'au moins un autre élément, comme l'aluminium, ladite couche fonctionnelle (40) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (20, 60), caractérisé en ce que l'épaisseur optique e 60 en nm du revêtement antireflet sus-jacent (60) est : e 60 = 5 x e 40 + α, où e 40 est l'épaisseur géométrique en nm de la couche fonctionnelle (40) telle que 13 40 40