Abstract:
Ce procédé de fabrication d'un mélange-maître pour moulage de pièces colorées comprend les étapes suivantes : préparation d'un mélange comprenant une poudre inorganique, avantageusement céramique, et un colorant; soumission du mélange à une étape d'atomisation-séchage pour obtenir une poudre atomisée; soumission de ladite poudre atomisée à une étape de préfrittage; mélange de la poudre préfrittée à un liant organique, avantageusement polymérique, pour obtenir le mélange-maître.
Abstract:
Le mélange-maître pour moulage comprend : • au moins une poudre inorganique, avantageusement céramique ou métallique; • un mélange organique, avantageusement polymérique, comprenant : - un polymère de tenue présentant de bonnes propriétés de ductilité, à hauteur de 30 à 90% en poids du mélange; - un lubrifiant, à hauteur de 5 à 50 % en poids du mélange; - un polymère plastifiant, à hauteur de 5 à 30% en poids du mélange; avec le rapport [% en poids du lubrifiant] / [% en poids du polymère de tenue] inférieur ou égal à 1, avantageusement strictement inférieur à 1.
Abstract:
The method is used to purify metallurgical silicon (3) by directional solidification to obtain solar or photovoltaic-grade silicon (6). A crystallization step uses at least one silicon seed (2), preferably of solar grade (6) or even microelectronic grade, having, for example, a purity that is substantially equal to or greater than a predetermined purity of the solar-grade silicon (6). The silicon seed (2) which covers the bottom of the crucible can come from a previous crystallization or be made up of a silicon wafer. The use of a textured single crystal or multi-crystal seed (2) enables the crystallographic orientation of the solar-grade silicon (6). A solid metallurgical silicon intermediate layer can be arranged on the silicon seed (2) and a metallurgical silicon load (3) is arranged on the intermediate layer.
Abstract:
Procédé de frittage de silicium, sans ajout d'une force extérieure, comportant un positionnement d'un échantillon de silicium dans un four puis un traitement thermique de cet échantillon à au moins une température et au moins une pression partielle d'espèces oxydantes pour contrôler l'épaisseur d'une couche d'oxyde de silicium à sa surface.
Abstract:
Le procédé permet de purifier du silicium métallurgique (3) par solidification dirigée pour obtenir un silicium de qualité solaire ou photovoltaïque (6). Une étape de cristallisation utilise au moins un germe (2) de silicium, de préférence de qualité solaire (6) voire microélectronique, ayant par exemple une pureté sensiblement égale ou supérieure à une pureté prédéterminée du silicium de qualité solaire (6). Le germe (2) de silicium qui tapisse le fond du creuset peut être issu d'une précédente cristallisation ou constitué par une plaquette de silicium. L'utilisation d'un germe (2) monocristallin ou multicristallin texture permet l'orientation cristallographique du silicium de qualité solaire (6). Une couche intermédiaire de silicium métallurgique solide peut être disposée sur le germe (2) de silicium et une charge de silicium métallurgique (3) est disposée sur la couche intermédiaire.