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    SPIEGEL FÜR DEN EUV SPEKTRALBEREICH
    1.
    发明申请
    SPIEGEL FÜR DEN EUV SPEKTRALBEREICH 审中-公开
    EUV光谱区域的镜子

    公开(公告)号：WO2017137216A1

    公开(公告)日：2017-08-17

    申请号：PCT/EP2017/050891

    申请日：2017-01-17

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ENKISCH, Hartmut ,  MÜLLENDER, Stephan

    Inventor： ENKISCH, Hartmut ,  MÜLLENDER, Stephan

    IPC: G02B5/08 ,  G03F7/00

    CPC classification number: G02B5/0808 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095 ,  H01J37/00

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Element mit einem Substrat (105), wenigstens einer Reflexionsschicht (120), wobei die Reflexionsschicht eine Mehrzahl von Zonen (221, 222) aus unterschiedlichem Material aufweist, und einer adhäsionsverbessernden Schicht (110), welche zwischen dem Substrat (105) und der Reflexionsschicht (120, 220) angeordnet ist wobei diese adhäsionsverbessernde Schicht (110) ausschließlich aus Elementen besteht, die im Substrat (105) und/oder in der Reflexionsschicht (120) enthalten sind.

    Abstract translation: 本发明涉及一种光学元件，其包括基板（105），至少一个反射层（120），所述反射层具有多个不同材料的区域（221,222），以及粘合增强层 其中该粘合改进层（110）完全由存在于衬底（105）中和/或反射层（110）中的元素构成，所述层设置在衬底（105）和反射层（120,220） （120）都包含在内。

    EUV MULTILAYER MIRROR, OPTICAL SYSTEM INCLUDING A MULTILAYER MIRROR AND METHOD OF MANUFACTURING A MULTILAYER MIRROR
    6.
    发明申请
    EUV MULTILAYER MIRROR, OPTICAL SYSTEM INCLUDING A MULTILAYER MIRROR AND METHOD OF MANUFACTURING A MULTILAYER MIRROR 审中-公开
    EUV多层镜子，包括多层镜子的光学系统和制造多层镜子的方法

    公开(公告)号：WO2016128029A1

    公开(公告)日：2016-08-18

    申请号：PCT/EP2015/052767

    申请日：2015-02-10

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： HUANG, Qiushi ,  LOUIS, Eric ,  BIJKERK, Frederik ,  DE BOER, Meint Jelle ,  VON BLANCKENHAGEN, Gisela

    IPC: G21K1/06

    CPC classification number: G21K1/062 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/065 ,  G21K1/067

    Abstract: A multilayer mirror (M) reflecting extreme ultraviolet (EUV) radiation from a first wave-length range in a EUV spectral region comprises a substrate (SUB) and a stack of layers (SL) on the substrate, the stack of layers comprising layers comprising a low index material and a high index material, the low index material having a lower real part of the refractive index than the high index material at a given operating wavelength in the first wavelength range. The stack of layers further comprises a spectral purity filter on top of the stack of layers, the spectral purity filter effective as an anti-reflection layer for ultraviolet (UV) radiation from a second wavelength range in a UV spectral region to increase a EUV-UV-reflectivity ratio of the multilayer mirror. The spectral purity filter (SPF) comprises a non-diffracting graded-index anti-reflection layer (GI-AR) effective to reduce reflectivity in the second wavelength range.

    Abstract translation: 在EUV光谱区域中反射来自第一波长范围的极紫外（EUV）辐射的多层反射镜（M）包括在基底上的基底（SUB）和层叠层（SL），所述层叠层包括 低折射率材料和高折射率材料，所述低折射率材料在所述第一波长范围内在给定工作波长处具有比所述高折射率材料的折射率的实部更低的实部。 层叠层还包括在层叠层顶部的光谱纯度滤光片，光谱纯度滤光器作为用于紫外光谱区域中的第二波长范围的紫外（UV）辐射的抗反射层有效，以增加EUV- 多层反射镜的紫外反射率。 光谱纯度滤光片（SPF）包括有效减少第二波长范围内反射率的非衍射渐变折射率抗反射层（GI-AR）。

    SYSTEM AND METHOD FOR CORRECTING THE FOCUS OF A LASER BEAM
    8.
    发明申请
    SYSTEM AND METHOD FOR CORRECTING THE FOCUS OF A LASER BEAM 审中-公开
    用于校正激光束焦点的系统和方法

    公开(公告)号：WO2015075551A2

    公开(公告)日：2015-05-28

    申请号：PCT/IB2014003010

    申请日：2014-11-06

    Applicant: ASML NETHERLANDS BV

    Inventor： PATE CHRISTOPHER P ,  ARCAND JASON M

    CPC classification number: G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B26/0825 ,  G02B27/40 ,  H05G2/008

    Abstract: Focus of a laser optical system can be corrected using a variable radius mirror having a focusing cavity and a separate cooling cavity. Pressure of a focusing material at a sufficiently low mass flow in the focusing cavity deforms a reflective surface mounted to the focusing cavity, changing its radius. Cooling material provided to the cooling cavity cools the variable radius mirror, A laser beam is reflected by the deformed reflecting surface to focusing optics, focusing the reflected laser beam on an EUV-emitting target, and minimizing a laser focus error by one or more of: maximizing a measured EUV power or minimizing a measured laser beam divergence. Providing focusing material at a deformation pressure and at a sufficiently low mass flow, and providing a separate cooling cavity, avoids perturbations in the reflective surface which would otherwise affect laser beam focus.

    Abstract translation: 使用具有聚焦腔和独立冷却腔的可变半径反射镜可以校正激光光学系统的焦点。 聚焦材料在聚焦腔中具有足够低质量流量的压力会使安装在聚焦腔上的反射表面变形，从而改变其半径。 提供给冷却腔的冷却材料冷却可变半径反射镜。激光束被变形的反射表面反射到聚焦光学器件，将反射的激光束聚焦在EUV发射目标上，并且通过以下一项或多项使激光聚焦误差最小化： ：最大化测量的EUV功率或最小化测量的激光束发散。 在变形压力和足够低的质量流量下提供聚焦材料并且提供独立的冷却腔，避免反射表面中的干扰，否则干扰会影响激光束聚焦。

    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    9.
    发明申请
    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
    MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备

    公开(公告)号：WO2015062919A1

    公开(公告)日：2015-05-07

    申请号：PCT/EP2014/072576

    申请日：2014-10-21

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HUBER, Peter

    Inventor： HUBER, Peter

    IPC: G03F7/20 ,  G02B1/10 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/28 ,  C23C28/00

    CPC classification number: G03F7/702 ,  C23C8/20 ,  C23C28/322 ,  C23C28/341 ,  G02B1/14 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/085 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/28 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßer Spiegel weist eine optische Wirkfläche (10a), ein Spiegelsubstrat (11) und einen Reflexionsschichtstapel (12) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung auf, wobei auf der der optischen Wirkfläche (10a) zugewandten Seite des Reflexionsschichtstapels (12) eine metallische Diffusionsbarriereschicht (13) angeordnet ist, wobei auf der der optischen Wirkfläche (10a) zugewandten Seite dieser Diffusionsbarriereschicht (13) eine Stabilisierungsschicht (14) angeordnet ist, welche bei Bestrahlung der optischen Wirkfläche (10a) mit elektromagnetischer Strahlung eine Deformation der Diffusionsbarriereschicht (13) im Vergleich zu einem analogen Aufbau ohne diese Stabilisierungsschicht (14) reduziert, wobei diese Stabilisierungsschicht (14) eine Porosität aufweist, wobei für die Stabilisierungsschicht (14) die relative Dichte, welche als Verhältnis aus geometrischer Dichte und Reindichte definiert ist, nicht mehr als 80% beträgt.

    Abstract translation: 本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。 根据本发明的反射镜具有一个光学有效区域（10a）中，反射镜衬底（11）和用于反射到入射的电磁辐射的光学活性表面（10A），一个反射层堆叠（12），其中，在朝向所述反射层堆叠的一侧的光学有效区域（10a）的 （12）的金属扩散阻挡层（13）布置，在其中，所述扩散阻挡层（13）的面对的一侧的光学活性表面（10A）包括具有变形的电磁辐射的稳定层（14）被布置，在光学有效区域（10A）的照射 扩散阻挡层（13）在没有稳定层（14）具有类似的结构相比，减少，所述稳定层（14）具有的孔隙率，其中，所述稳定化层（14），相对密度，其被定义为几何密度和真密度之比 ，没有人 第80％。

    VIELSCHICHTSTRUKTUR FÜR EUV-SPIEGEL
    10.
    发明申请
    VIELSCHICHTSTRUKTUR FÜR EUV-SPIEGEL 审中-公开
    多层结构的EUV明镜

    公开(公告)号：WO2015058931A1

    公开(公告)日：2015-04-30

    申请号：PCT/EP2014/070877

    申请日：2014-09-30

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： MEDVEDEV, Vyacheslav ,  YAKSHIN, Andrey E. ,  KRIVTSUN, Vladimir ,  BIJKERK, Frederik

    IPC: G02B5/08 ,  G21K1/06

    CPC classification number: G02B5/0891 ,  G02B5/0833 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vielschichtstruktur (1) für EUV-Spiegel, umfassend: - erste Schichten (2, 6, 10), - zweite Schichten (4, 8), wobei jeweils abwechselnd eine der ersten Schichten (2, 6, 10) und eine der zweiten Schichten (4, 8) übereinander angeordnet sind, Zwischenschichten (3, 5, 7, 9), welche jeweils zwischen einer ersten Schicht (2, 6, 10) und einer zweiten Schicht (4, 8) angeordnet sind, wobei wenigstens eine der Zwischenschichten (3, 5, 7, 9) Phosphor aufweist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种多层结构（1），用于EUV反射镜，其包括： - 第一层（2,6，10）， - 第二层（4,8），其中第一层中的每个交替酮（2,6，10）和 所述第二层中的一个（4,8）的一个布置在另一个，中间层（3，5，7，9），每个第一层（2,6，10）和第二层之间的（4,8）被布置，其特征在于，上述 中间层（3，5，7，9）包括磷中的至少一种。

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