公开(公告)号：WO2014172174A1

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/US2014/033604

申请日：2014-04-10

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  KELKAR, Umesh M. ,  BERA, Kallol ,  RAMANATHAN, Karthik ,  KWONG, Garry K. ,  YUDOVSKY, Joseph

发明人： KELKAR, Umesh M. ,  BERA, Kallol ,  RAMANATHAN, Karthik ,  KWONG, Garry K. ,  YUDOVSKY, Joseph

IPC分类号： H01L21/324 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/46 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/481 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67115

摘要： Described are apparatus and methods for processing a plurality of semiconductor wafers on a susceptor assembly so that the temperature across the susceptor assembly is uniform. A plurality of linear lamps are positioned and controlled in zones to provide uniform heating.

摘要翻译： 描述了用于处理基座组件上的多个半导体晶片的装置和方法，使得基座组件上的温度是均匀的。 多个线性灯被定位和控制在区域中以提供均匀的加热。

公开(公告)号：WO2014130673A1

公开(公告)日：2014-08-28

申请号：PCT/US2014/017399

申请日：2014-02-20

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  YUDOVSKY, Joseph ,  GRIFFIN, Kevin ,  GANGAKHEDKAR, Kaushal

发明人： YUDOVSKY, Joseph ,  GRIFFIN, Kevin ,  GANGAKHEDKAR, Kaushal

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458

CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/28556 ,  H01L22/10

摘要： Described are apparatus and methods for processing a semiconductor wafer in which the gap between the wafer surface and the gas distribution assembly remains uniform and of known thickness. The wafer is positioned within a susceptor assembly and the assembly is lifted toward the gas distribution assembly using actuators. The wafer can be lifted toward the gas distribution assembly by creating a fluid bearing below and/or above the wafer.

摘要翻译： 描述了其中晶片表面和气体分配组件之间的间隙保持均匀并具有已知厚度的半导体晶片的处理装置和方法。 晶片定位在基座组件内，并且使用致动器将组件提升到气体分配组件。 可以通过在晶片下方和/或上方产生流体轴承来将晶片提升到气体分配组件。

公开(公告)号：WO2013082084A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：PCT/US2012/066757

申请日：2012-11-28

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  CHANG, Mei ,  YUDOVSKY, Joseph

发明人： CHANG, Mei ,  YUDOVSKY, Joseph

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC分类号： H01L21/31116 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6776

摘要： Provided are methods of etching a substrate using atomic layer deposition apparatus. Atomic layer deposition apparatus including a gas distribution plate with a thermal element are discussed. The thermal element is capable of locally changing the temperature of a portion of the surface of the substrate to vaporize an etch layer deposited on the substrate.

摘要翻译： 提供了使用原子层沉积装置蚀刻衬底的方法。 讨论了包括具有热元件的气体分布板的原子层沉积设备。 热元件能够局部地改变衬底的表面的一部分的温度以蒸发沉积在衬底上的蚀刻层。

公开(公告)号：WO2012145205A3

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：PCT/US2012033029

申请日：2012-04-11

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH ,  KWONG GARRY K ,  HAAS DIETER ,  MARCUS STEVEN D ,  WEIDMAN TIMOTHY W

发明人： YUDOVSKY JOSEPH ,  KWONG GARRY K ,  HAAS DIETER ,  MARCUS STEVEN D ,  WEIDMAN TIMOTHY W

IPC分类号： H01L21/205

CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45544

摘要： Provided are gas distribution plates for atomic layer deposition apparatus including a hot wire or hot wire unit which can be heated to excite gaseous species while processing a substrate. Methods of processing substrates using a hot wire to excite gaseous precursor species are also described.

摘要翻译： 提供了用于原子层沉积设备的气体分配板，其包括热线或热丝单元，其可以在加工基板的同时被加热以激发气态物质。 还描述了使用热丝处理衬底以激发气态前体物质的方法。

公开(公告)号：WO2012118887A3

公开(公告)日：2013-01-03

申请号：PCT/US2012027102

申请日：2012-02-29

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH

发明人： YUDOVSKY JOSEPH

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67715 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67784

摘要： Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including a gas cushion plate comprising a plurality of openings configured to create a gas cushion adjacent the gas cushion plate so that a substrate can be moved through a processing chamber.

摘要翻译： 提供的原子层沉积装置和方法包括气垫板，其包括多个开口，其被配置为在气垫板附近产生气垫，使得基板能够移动通过处理室。

公开(公告)号：WO2012118953A3

公开(公告)日：2012-11-08

申请号：PCT/US2012027250

申请日：2012-03-01

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH

发明人： YUDOVSKY JOSEPH

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/54

摘要： Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including a rotating wheel with a plurality of substrate carriers for continuous processing of substrates. The processing chamber may have a loading station on the front end which is configured with one or more robots to load and unload substrates from the substrate carriers without needing to stop the rotating wheel.

摘要翻译： 提供了原子层沉积设备和方法，包括具有用于连续处理衬底的多个衬底载体的旋转轮。 处理室可以具有在前端上的装载站，其配置有一个或多个机器人，用于从基板载体加载和卸载基板，而不需要停止旋转的轮。

公开(公告)号：WO2012118953A2

公开(公告)日：2012-09-07

申请号：PCT/US2012/027250

申请日：2012-03-01

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  YUDOVSKY, Joseph

发明人： YUDOVSKY, Joseph

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/54

摘要： Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including a rotating wheel with a plurality of substrate carriers for continuous processing of substrates. The processing chamber may have a loading station on the front end which is configured with one or more robots to load and unload substrates from the substrate carriers without needing to stop the rotating wheel.

摘要翻译： 本发明提供原子层沉积设备和方法，其包括具有用于连续处理基板的多个基板载体的旋转轮。 处理腔室可在前端具有加载站，该加载站配置有一个或多个机器人以从衬底载具装载和卸载衬底，而不需要停止旋转轮。

公开(公告)号：WO2012118946A2

公开(公告)日：2012-09-07

申请号：PCT/US2012027238

申请日：2012-03-01

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH ,  KWONG GARRY K ,  CHANG MEI ,  NGUYEN ANH N ,  THOMPSON DAVID

发明人： YUDOVSKY JOSEPH ,  KWONG GARRY K ,  CHANG MEI ,  NGUYEN ANH N ,  THOMPSON DAVID

IPC分类号： H01L21/205

CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/45527

摘要： Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including a gas distribution plate comprising at least one gas injector unit. Each gas injector unit comprises a plurality of elongate gas injectors including at least two first reactive gas injectors and at least one second reactive gas injector, the at least two first reactive gas injectors surrounding the at least one second reactive gas injector. Also provided are atomic layer deposition apparatuses and methods including a gas distribution plate with a plurality of gas injector units.

摘要翻译： 提供了包括气体分配板的原子层沉积装置和方法，所述气体分配板包括至少一个气体注射器单元 每个气体喷射器单元包括多个细长气体注射器，所述多个细长气体注射器包括至少两个第一反应气体注射器和至少一个第二反应气体注射器，所述至少两个第一反应气体注射器围绕所述至少一个第二反应气体注射器。 还提供了包括具有多个气体注射器单元的气体分配板的原子层沉积装置和方法。

公开(公告)号：WO2012075017A2

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：PCT/US2011062410

申请日：2011-11-29

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH ,  SATO TATSUYA E ,  CHOI KENRIC ,  NGUYEN ANH N ,  GUNGOR FARUK

发明人： YUDOVSKY JOSEPH ,  SATO TATSUYA E ,  CHOI KENRIC ,  NGUYEN ANH N ,  GUNGOR FARUK

IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/455

CPC分类号： C23C16/45565 ,  C23C16/45548 ,  C23C16/45574

摘要： Provided are gas distribution plates (showerheads) for use in an apparatus configured to form a film during, for example, an atomic layer deposition (ALD) process. The gas distribution plate comprises a body defining a thickness and a peripheral edge and has a front surface for facing the substrate. The front surface has a central region with a plurality of openings configured to distribute process gases over the substrate and a focus ring with a sloped region. The focus ring is concentric to the central region such that the thickness at the focus ring is greater than the thickness at the central region.

摘要翻译： 提供用于在例如原子层沉积（ALD）工艺期间配置成形成膜的设备中使用的气体分配板（喷头）。 气体分配板包括限定厚度和周边边缘的主体，并具有用于面对基板的前表面。 该前表面具有中央区域，该中央区域具有多个开口，该多个开口被配置为将处理气体分布在衬底上方以及具有倾斜区域的聚焦环。 聚焦环与中心区域同心，因此聚焦环的厚度大于中心区域的厚度。

公开(公告)号：WO2010056954A2

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：PCT/US2009064332

申请日：2009-11-13

申请人： APPLIED MATERIALS INC ,  YUDOVSKY JOSEPH

发明人： YUDOVSKY JOSEPH

IPC分类号： F16J15/10 ,  C23C16/00 ,  F16J15/06

CPC分类号： F16J15/02 ,  F16J15/025 ,  F16J15/106 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67126

摘要： A sealing apparatus is provided herein. In some embodiments, the sealing apparatus includes an annular body including a first portion having a circular cross-section and a second portion extending radially outward from the first portion, wherein the second portion has a rectangular cross-section. In some embodiments, a sealing apparatus includes a body configured to be retained in a recess of a first surface; an arm extending from the body away from the first surface and configured to provide a force when deflected towards the body by a second surface to form a seal between the first surface and the second surface.

摘要翻译： 这里提供了一种密封装置。 在一些实施例中，密封设备包括环形主体，该环形主体包括具有圆形横截面的第一部分和从第一部分径向向外延伸的第二部分，其中第二部分具有矩形横截面。 在一些实施例中，密封装置包括被配置为保持在第一表面的凹部中的主体; 从所述主体远离所述第一表面延伸的臂，所述臂被配置为当通过第二表面朝所述主体偏转时提供力以在所述第一表面和所述第二表面之间形成密封。