公开(公告)号：WO2010112328A1

公开(公告)日：2010-10-07

申请号：PCT/EP2010/053341

申请日：2010-03-16

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  ZELLNER, Johannes ,  DODOC, Aurelian ,  PRETORIUS, Marco ,  MENKE, Christoph ,  ULRICH, Wilhelm ,  MANN, Hans-Jürgen

Inventor： ZELLNER, Johannes ,  DODOC, Aurelian ,  PRETORIUS, Marco ,  MENKE, Christoph ,  ULRICH, Wilhelm ,  MANN, Hans-Jürgen

IPC: G02B17/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0657 ,  G03F7/70233

Abstract: An imaging optics (7) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A pupil plane (17) is arranged in the imaging beam path between the object field (4) and the image field (8). A stop (20) is arranged in the pupil plane (17). The pupil plane (17) is tilted, in other words adopts an angle (α) with respect to the object plane (5), which is greater than 0.1°. An imaging optics results, with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput for the imaging light is achieved.

Abstract translation: 成像光学器件（7）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。 在物场（4）和图像场（8）之间的成像光束路径中布置瞳平面（17）。 在光瞳平面（17）中设置有一个止动件（20）。 瞳平面（17）倾斜，换句话说，相对于物平面（5）采取大于0.1°的角度（a）。 可以获得成像光学元件，实现了成像光的小成像误差，可管理生产和良好生产量的可处理组合。

公开(公告)号：WO2009053001A1

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：PCT/EP2008/008815

申请日：2008-10-17

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WALTER, Holger ,  LOERING, Ulrich ,  KRAEHMER, Daniel ,  ZELLNER, Johannes

Inventor： WALTER, Holger ,  LOERING, Ulrich ,  KRAEHMER, Daniel ,  ZELLNER, Johannes

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70258

Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Vorrichtung (10) mit verbessertem Abbildungsverhalten sowie ein Verfahren zum Verbessern des Abbildungsverhaltens der optischen Vorrichtung (10). Die optische Vorrichtung (10) weist eine Mehrzahl an optischen Elementen (28a-d) entlang einer Lichtausbreitungsrichtung der optischen Vorrichtung (10) zum Abbilden einer Struktur (20) in einer Objektebene (O) der optischen Vorrichtung (10) auf ein Substrat (22) in einer Bildebene (B) der optischen Vorrichtung (10) auf. Die optische Vorrichtung (10) weist im Kaltzustand zumindest einen ersten Abbildungsfehler auf, der einen zumindest zweiten, während des Betriebs durch Erwärmen zumindest eines der optischen Elemente (28a-d) verursachten Abbildungsfehler der optischen Vorrichtung (10) zumindest teilweise kompensiert.

Abstract translation: 本发明涉及一种光学器件（10）具有改善的成像性能以及用于提高光学装置（10）的成像性能的方法。 所述光学装置（10）包括多个光学元件（28A-D）沿所述光学装置（10）的光的传播方向在基板上的光学装置（10）的物平面（O）成像的结构（20）的（22 ）在该光学装置（10）的像平面（B）。 所述光学装置（10）具有在冷态下至少通过加热光学元件中的至少一个（28A-D）在操作期间，其补偿光学器件（10）包括的像差至少第二，引起至少部分的第一像差。

公开(公告)号：WO2007131161A3

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：PCT/US2007/068227

申请日：2007-05-04

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SHAFER, David ,  DODOC, Aurelian ,  FELDMANN,, Heiko ,  ZELLNER, Johannes ,  ULRICH, Wilhelm ,  WALTER, Holger ,  LOERING, Ulrich ,  KRAEHMER, Daniel ,  FUERTER, Gerhard

Inventor： SHAFER, David ,  DODOC, Aurelian ,  FELDMANN,, Heiko ,  ZELLNER, Johannes ,  ULRICH, Wilhelm ,  WALTER, Holger ,  LOERING, Ulrich ,  KRAEHMER, Daniel ,  FUERTER, Gerhard

IPC: G02B13/14 ,  G02B13/26 ,  G03F7/20

Abstract: The invention features a system for microlithography that includes a mercury light source configured to emit radiation at multiple mercury emission lines, a projection objective positioned to receive radiation emitted by the mercury light source, and a stage configured to position a wafer relative to the projection objective. During operation, the projection objective directs radiation from the light source to the wafer, where the radiation at the wafer includes energy from more than one of the emission lines. Optical lens systems for use in said projection objective comprise four lens groups, each having two lenses comprising silica, the first and second lens groups on one hand and the third and fourth lens groups on the other hand are positioned symmetrically with respect to a plane perpendicular to the optical axis of said lens system.

公开(公告)号：WO2011141284A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：PCT/EP2011/056348

申请日：2011-04-20

Applicant: CARL ZEISS AG ,  SHAFER, David ,  ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Reinhold

Inventor： SHAFER, David ,  ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Reinhold

IPC: G02B25/00 ,  G02B27/01

CPC classification number: G02B25/001 ,  G02B27/0172

Abstract: Es wird bereitgestellt ein Okularsystem zum Abbilden eines Objektes als virtuelles Bild, mit einer Relayoptik (4), die eine Linse (6) und einen Umlenkspiegel (7) aufweist, und einem drei optische Flächen (8, 9, 10) aufweisenden Prisma (5), das der Relayoptik (4) so nachgeordnet ist, daß zur Abbildung der Strahlengang vom Objekt (2) zur Relayoptik (4) und von dort über die erste optische Fläche (8) in das Prisma (5) eintritt, durch Reflexionen an der zweiten und dritten optischen Fläche (9, 10) im Prisma (5) genau zweimal gefaltet ist und über die zweite Fläche (9) aus dem Prisma (5) austritt und bis zur Austrittspupille (3) des Okularsystems (1) verläuft, wobei der Strahlengang in der Relayoptik (4) durch den Umlenkspiegel (7) genau einmal gefaltet ist und somit zweimal durch die Linse (6) geht.

Abstract translation: 本发明提供一种目镜的对象作为虚像的成像，具有中继光学系统（4）具有透镜（6）和一个偏转镜（7），并具有棱镜的三个光学表面（8，9，10）（5 ），其被布置在所述中继光学器件的下游（4），使得发生从所述对象（2）成像到中继光学器件（4），并从那里通过在棱镜（5）的第一光学表面（8）通过在反射的光束路径 第二和第三光学表面（9,10）设置在棱镜通过第二表面折叠（5）正好两次并退出（9）的棱镜（5）和高达出射光瞳（3）的目镜（1），其中，所述的 在中继光学器件（4）由所述偏转反射镜的光路（7）被折叠一次，从而穿过透镜的两倍（6）通过。

公开(公告)号：WO2010149487A2

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：PCT/EP2010/057971

申请日：2010-06-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  MANN, Hans-Jürgen ,  ZELLNER, Johannes ,  DODOC, Aurelian ,  PRETORIUS, Marco ,  MENKE, Christoph ,  ULRICH, Wilhelm ,  ENDRES, Martin

Inventor： MANN, Hans-Jürgen ,  ZELLNER, Johannes ,  DODOC, Aurelian ,  PRETORIUS, Marco ,  MENKE, Christoph ,  ULRICH, Wilhelm ,  ENDRES, Martin

IPC: G02B17/06

CPC classification number: G02B17/0663 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70233

Abstract: An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.

Abstract translation: 成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。 至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。 对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。 在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。 用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。 结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

公开(公告)号：WO2010028748A1

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：PCT/EP2009/006171

申请日：2009-08-26

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  MANN, Hans-Jürgen ,  SCHÖPPACH, Armin ,  ZELLNER, Johannes

Inventor： MANN, Hans-Jürgen ,  SCHÖPPACH, Armin ,  ZELLNER, Johannes

IPC: G02B17/06 ,  G02B5/10 ,  G02B7/182 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B7/181 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G02B21/04 ,  G02B26/06 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70266

Abstract: An imaging optical system (31) with a plurality of mirrors (Ml to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9), according to either one of the following configurations : a) a connecting axis (32), which is perpendicular to the object plane (5) and runs through the geometric centre point of the mirror (M2), which is spatially most closely adjacent to the object field (4), the mirror (M2) most closely adjacent to the object field (4), is arranged at a spacing (A) from the object field (4), which is greater than a spacing (B) of an entry pupil plane (30) of the imaging optical system (31), said pupil plane (30) lying in the beam path of the imaging light (3) upstream of the object field (4), from the object field (4); b) - with an entry pupil plane (30), which lies in the beam path of the imaging light (30) upstream of the object field (4), wherein the imaging light (3) is reflected on the object plane (5), - with a connecting axis (32) which is perpendicular to the object plane (5) and runs through the geometric centre point of the entry pupil, - wherein an intersection point (C) of the connecting axis (32) with the entry pupil plane (30) is closer to the object plane (5) than a first intersection point (D) in the beam path of the imaging light (3) downstream of the object field (4), of a main beam (33) of a central object field point with the connecting axis (32), - wherein at least one of the mirrors (M5, M6) has a through-opening (18, 19) for imaging light (3) to pass through; c) the imaging optical system (7; 31), spaced apart from a first mirror (M5), which is most closely adjacent to one of the two fields (4, 8) and is designated a neighbouring mirror, has a deformable further mirror (M3), which is arranged in a plane, which is optically conjugated to an arrangement plane of the neighbouring mirror (M5) in the imaging optical system (7; 31); d) a support body (21) of a mirror (M5), which is most closely adjacent to one of the two fields (4, 8), of the neighbouring mirror, is made of a material, the modulus of elasticity of which is at least twice as great as the modulus of elasticity of the material of the support body (22) of at least one of the other mirrors (M 1 to M4, M6).

Abstract translation: 一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（31），其将目标平面（5）中的物体场（4）成像到图像平面（9）中的图像场（8），根据 以下配置之一：a）垂直于物平面（5）并穿过反射镜（M2）的几何中心点的连接轴线（32），空间上最接近物体场 （4）中，与物场（4）最紧密相邻的反射镜（M2）以与入射光瞳面（B）的间隔（B）大的距离物距离（A）的距离（A） （30）在所述物场（4）的上游位于所述成像光（3）的光束路径中的所述成像光学系统（31）的所述光束平面（30）中。 b） - 具有入射光瞳平面（30），其位于物场（4）上游的成像光（30）的光束路径中，其中成像光（3）在物平面（5）上被反射， - 具有垂直于物平面（5）并穿过入射光瞳的几何中心点的连接轴线（32），其中连接轴线（32）与入射光瞳的交点（C） 平面（30）比物位（4）下游的成像光（3）的光束路径中的第一交点（D）更靠近物平面（5），主光束 具有连接轴（32）的中心物体场点， - 其中至少一个反射镜（M5，M6）具有用于使光（3）成像通过的通孔（18,19） c）与第二反射镜（M5）间隔开的成像光学系统（7; 31），其与两个场（4,8）中的一个最接近并被指定为相邻的反射镜，具有可变形的另外的反射镜 （M3），其布置在与所述成像光学系统（7; 31）中的相邻反射镜（M5）的配置平面光学共轭的平面中; d）与邻近反射镜的两个场（4,8）中的一个最紧密相邻的反射镜（M5）的支撑体（21）由材料制成，其弹性模量为 是至少一个其它反射镜（M 1至M4，M6）的支撑体（22）的材料的弹性模量的至少两倍。

公开(公告)号：WO2009152959A1

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：PCT/EP2009/004006

申请日：2009-06-04

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  HAUF, Markus ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  MIGURA, Sascha ,  MANN, Hans-Juergen ,  ENKISCH, Hartmut ,  ZELLNER, Johannes ,  SCHOTTNER, Michael ,  KRAEHMER, Daniel ,  TOTZECK, Michael ,  DODOC, Aurelian ,  HETZLER, Jochen ,  BEIERL, Helmut ,  ULRICH, Wilhelm

Inventor： HAUF, Markus ,  BLEIDISTEL, Sascha ,  MIGURA, Sascha ,  MANN, Hans-Juergen ,  ENKISCH, Hartmut ,  ZELLNER, Johannes ,  SCHOTTNER, Michael ,  KRAEHMER, Daniel ,  TOTZECK, Michael ,  DODOC, Aurelian ,  HETZLER, Jochen ,  BEIERL, Helmut ,  ULRICH, Wilhelm

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70266

Abstract: The invention relates to a projection exposure apparatus (16) for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element (1,100), wherein the optical element (1,100) has a front side (2) for the reflection of electromagnetic radiation and a rear side (3,103), and wherein thermal actuators (4) for influencing the optical properties of the optical element (1,100) are present, which act on the optical element (1,100) from the rear side (3,103) thereof.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置（16），包括用于光学元件（1,100）的热操纵的装置，其中光学元件（1,100）具有用于反射电磁辐射的前侧（2） 后侧（3,103），并且其中存在用于影响光学元件（1,100）的光学特性的热致动器（4），其从其后侧（3,103）作用在光学元件（1,100）上。

公开(公告)号：WO2009115180A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：PCT/EP2009/001448

申请日：2009-02-28

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  ZELLNER, Johannes ,  MANN, Hans-Jürgen ,  ENDRES, Martin

Inventor： ZELLNER, Johannes ,  MANN, Hans-Jürgen ,  ENDRES, Martin

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70316 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233

Abstract: A projection objective (7) for microlithography is used for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The projection objective (7) comprises at least six mirrors (M1 to M6) of which at least one mirror has a freeform reflecting surface. According to one aspect of the invention, the ratio between an overall length (T) of the projection objective (7) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 12. According to another aspect of the invention, the image plane (9) is the first field plane of the projection objective (7) downstream of the object plane (5). According to another aspect of the invention, the projection objective has a plurality of mirrors (M1 to M6), wherein the ratio between an overall length (T) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 2.

Abstract translation: 用于微光刻的投影物镜（7）用于将物平面（5）中的物场（4）成像为图像平面（9）中的图像场（8）。 投影物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形反射表面。 根据本发明的一个方面，投影物镜（7）的总长（T）与物体像偏移（dOIS）之间的比率小于12.根据本发明的另一方面，图像平面（9 ）是物平面（5）下游的投影物镜（7）的第一场平面。 根据本发明的另一方面，投影物镜具有多个反射镜（M1至M6），其中总长度（T）和物体图像偏移（dOIS）之间的比率小于2。

公开(公告)号：WO2005040925A1

公开(公告)日：2005-05-06

申请号：PCT/EP2003/010761

申请日：2003-09-27

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DINGER, Udo ,  EISERT, Frank ,  KOEHLER, Stefan ,  OCHSE, Andreas ,  ZELLNER, Johannes ,  LOWISCH, Martin ,  LAUFER, Timo

Inventor： DINGER, Udo ,  EISERT, Frank ,  KOEHLER, Stefan ,  OCHSE, Andreas ,  ZELLNER, Johannes ,  LOWISCH, Martin ,  LAUFER, Timo

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B1/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/181 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

Abstract: Ein Projektionsobjektiv (1) für kurze Wellenlängen, insbesondere für Wellenlängen λ

Abstract translation: 投影透镜（1），用于短的波长，特别是对于波长的λ<具有多个反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6），其位于精确地定位于光轴（5）的157纳米，提供。 反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6）包括多层涂层。 至少两种不同的反射镜的材料作为温度的在过零的热膨胀系数的范围内的功能，特别是在尺寸的符号，不同之处设置系数的热膨胀的斜率。

公开(公告)号：WO2013044936A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：PCT/EP2011/004859

申请日：2011-09-29

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

Inventor： ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

IPC: G03F7/20 ,  H01S5/00

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70891 ,  H01S5/005 ,  H01S5/0064 ,  H01S5/4025

Abstract: A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42) comprising a refractive optical element (44; 44a, 44b) that has two opposite optical surfaces (46, 48), through which projection light passes, and a circumferential rim surface (50) extending between the two optical surfaces (46, 48). A first and a second optical system (OS1, OS2) are configured to direct first and second heating light (HL1, HL2) to different portions of the rim surface (50) such that at least a portion of the first and second heating light enters the refractive optical element (44; 44a, 44b). A temperature distribution caused by a partial absorption of the heating light (HL1, HL2) results in a refractive index distribution inside the refractive optical element (44; 44a, 44b) that corrects a wavefront error. At least the first optical system (OS1) comprises a focusing optical element (55) that focuses the first heating light in a focal area (56) such that the first heating light emerging from the focal area (56) impinges on the rim surface (50).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括波阵面校正装置（42），其包括折射光学元件（44; 44a，44b），该折射光学元件具有两个相对的光学表面（46,48），投射光通过该光学表面 轮缘表面（50）在两个光学表面（46,48）之间延伸。 第一和第二光学系统（OS1，OS2）被配置为将第一和第二加热光（HL1，HL2）引导到边缘表面（50）的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入 折射光学元件（44; 44a，44b）。 由加热光（HL1，HL2）的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件（44; 44a，44b）内的折射率分布，其校正波前误差。 至少第一光学系统（OS1）包括聚焦光学元件（55），其将第一加热光聚焦在聚焦区域（56）中，使得从聚焦区域（56）出射的第一加热光照射在边缘表面上 50）。