公开(公告)号：WO2011020690A2

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：PCT/EP2010/061148

申请日：2010-07-30

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HETZLER, Jochen ,  MUELLER, Ralf ,  SINGER, Wolfgang

Inventor： HETZLER, Jochen ,  MUELLER, Ralf ,  SINGER, Wolfgang

CPC classification number: G02B17/0647 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70958

Abstract: The invention relates to a mirror (M) of a projection exposure apparatus for rnicrolithography for the structured exposure of a light-sensitive material and to a method for producing a mirror (M), The mirror (M) according to the Invention has a substrate body (B), a first mirror surface (S) and a second mirror surface (S5). The first mirror surface (S) is formed on a first side (VS) of the substrate body (3). The second mirror surface (S') is formed on a second side (RS) of the substrate body (B), said second side being different from the first side of the substrate body (B). The mirror (M) according to the invention can be embodied, in particular, such that the substrate body (B) is produced from a glass ceramic material.

Abstract translation: 本发明涉及用于感光材料的结构曝光的微光刻用投影曝光装置的反射镜（M）及其制造方法（M）。根据本发明的反射镜（M）具有基板 主体（B），第一镜面（S）和第二镜面（S5）。 第一镜面（S）形成在基体（3）的第一侧（VS）上。 第二镜面（S'）形成在基板主体（B）的第二侧（RS）上，所述第二侧与基板主体（B）的第一侧不同。 根据本发明的镜子（M）可以具体地实现，使得基底主体（B）由玻璃陶瓷材料制成。

公开(公告)号：WO2008110239A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：PCT/EP2008/001022

申请日：2008-02-11

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SCHULTE, Stefan ,  HETZLER, Jochen ,  FREIMANN, Rolf ,  DREHER, Matthias ,  DÖRBAND, Bernd

Inventor： SCHULTE, Stefan ,  HETZLER, Jochen ,  FREIMANN, Rolf ,  DREHER, Matthias ,  DÖRBAND, Bernd

IPC: G01B9/02 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32

CPC classification number: G02B27/4233 ,  G01N21/4788 ,  G01N2021/4792 ,  G02B5/1819 ,  G02B5/1823 ,  G02B27/4261

Abstract: A diffractive component comprises a grating (25) including plural regions (A, A', B) of different types, wherein the gratings in the different regions differ with respect to lattice period and orientation. The different regions can be arranged according to an irregular pattern. Further, the gratings of the different types can be inverse to each other, or parameters of grating forming structures can vary between regions of the different types. A structural parameter of a dual grating is determined using a first phase function of the dual grating. A deviation of a surface of an optical element from a target surface is determined in an interferometric measurement using a second phase function of the dual grating taking into account the determined structural parameter of the grating. In an interferometric method using a diffraction grating harbouring different phase functions in different types of regions arranged in a superlattice for measuring a surface of an object perturbing superlattice diffraction orders are destructively interfered by adapting the diffraction grating having a periodicity of the superlattice that varies across the grating.

Abstract translation: 衍射分量包括包括不同类型的多个区域（A，A'，B）的光栅（25），其中不同区域中的光栅相对于晶格周期和取向不同。 可以根据不规则图案布置不同的区域。 此外，不同类型的光栅可以彼此相反，或者光栅形成结构的参数可以在不同类型的区域之间变化。 使用双光栅的第一相位函数来确定双光栅的结构参数。 考虑到确定的光栅的结构参数，使用双光栅的第二相位函数在干涉测量中确定光学元件与目标表面的偏差。 在使用在布置在超晶格中的不同类型的区域中具有不同相位函数的衍射光栅的干涉测量方法中，用于测量物体扰动超晶格衍射级的表面的衍射光栅通过使具有超过晶格周期性变化的周期性的衍射光栅受到破坏性干扰 光栅。

公开(公告)号：WO2022037898A1

公开(公告)日：2022-02-24

申请号：PCT/EP2021/070725

申请日：2021-07-23

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  SIEGLER, Steffen ,  DJURIC-RISSNER, Ferdinand ,  RUND, Armin ,  HETZLER, Jochen ,  LAUTER, Roland

Inventor： SIEGLER, Steffen ,  DJURIC-RISSNER, Ferdinand ,  RUND, Armin ,  HETZLER, Jochen ,  LAUTER, Roland

IPC: G01B9/02

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen einer Interferogramm-Messreihe an dem optischen Element durch Überlagerung jeweils einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an wenigstens einem diffraktiven Element erzeugten und an dem optischen Element reflektierten Prüfwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten, über ein Referenzelement verlaufenden Referenzwelle, Durchführen weiterer Interferogramm-Messreihen an einer Mehrzahl von Kalibrierspiegeln zur Ermittlung von Kalibrierkorrekturen durch Überlagerung jeweils einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an dem wenigstens einen diffraktiven Element erzeugten und an dem jeweiligen Kalibrierspiegel reflektierten Kalibrierwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten, über das Referenzelement verlaufenden Referenzwelle, und Bestimmen der Passe des optischen Elements basierend auf der an dem optischen Element durchgeführten Interferogramm-Messreihe und den ermittelten Kalibrierkorrekturen, wobei bei Auswertung der durchgeführten Interferogramm- Messreihen ein unterschiedlicher Phasenbezug der Interferogramm-Messreihen in seinem Einfluss auf die Ermittlung der Kalibrierkorrekturen wenigstens teilweise kompensiert wird.

公开(公告)号：WO2019233685A1

公开(公告)日：2019-12-12

申请号：PCT/EP2019/061533

申请日：2019-05-06

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HETZLER, Jochen ,  WOLF, Alexander

Inventor： HETZLER, Jochen ,  WOLF, Alexander

IPC: G03F7/20 ,  G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02 ,  G01B11/24 ,  G03H1/22

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Computer-generiertes Hologramm (CGH) sowie ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Gemäß einem Aspekt weist ein CGH einen wenigstens eine Nutzstruktur (A) aufweisenden ersten Bereich (121, 321, 421) und einen von diesem ersten Bereich (121, 321, 421) räumlich separierten zweiten Bereich (122, 322, 422) auf, wobei dieser zweite Bereich einen Kontrollbereich zur Detektion einer sich auf dem CGH (120, 320, 420, 520) ausbildenden Kontamination bildet.

公开(公告)号：WO2013185822A1

公开(公告)日：2013-12-19

申请号：PCT/EP2012/061295

申请日：2012-06-14

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  BODEMANN, Axel ,  HETZLER, Jochen ,  GÖHNERMEIER, Aksel

Inventor： BODEMANN, Axel ,  HETZLER, Jochen ,  GÖHNERMEIER, Aksel

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70308

Abstract: The invention relates to a maskless lithographic apparatus (1), comprising: a light modulator (7) having a plurality of micromirrors arranged in a micromirror array for modulating an exposure beam (5) according to an exposure pattern, and an exposure optical system (8) for delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2). The apparatus (1) comprises a tilt error compensation unit (15) for compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array. The invention also relates to a corresponding method for generating an exposure pattern on a substrate (2), comprising: modulating an exposure beam (5) according to the exposure pattern using a plurality of micromirrors of a micromirror array, and delivering the modulated exposure beam (5) onto a substrate (2) in the form of a beam-spot array (40), wherein at least one of the modulating step and the delivering step comprises compensating for tilt errors of the micromirrors of the micromirror array.

Abstract translation: 本发明涉及一种无掩模光刻设备（1），包括：光调制器（7），其具有布置在微镜阵列中的多个微镜，用于根据曝光图案调制曝光光束（5），以及曝光光学系统 8），用于将调制的曝光束（5）输送到衬底（2）上。 装置（1）包括用于补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差的倾斜误差补偿单元（15）。 本发明还涉及用于在衬底（2）上产生曝光图案的相应方法，包括：使用多个微镜阵列的微镜根据曝光图案调制曝光光束（5），并且传送经调制的曝光光束 （5）以束 - 点阵列（40）的形式存在于衬底（2）上，其中调制步骤和传送步骤中的至少一个包括补偿微镜阵列的微镜的倾斜误差。

公开(公告)号：WO2011020690A3

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：PCT/EP2010061148

申请日：2010-07-30

Applicant: ZEISS CARL SMT GMBH ,  HETZLER JOCHEN ,  MUELLER RALF ,  SINGER WOLFGANG

Inventor： HETZLER JOCHEN ,  MUELLER RALF ,  SINGER WOLFGANG

IPC: G02B13/14 ,  G02B17/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0647 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70958

Abstract: The invention relates to a mirror (M) of a projection exposure apparatus for rnicrolithography for the structured exposure of a light-sensitive material and to a method for producing a mirror (M), The mirror (M) according to the Invention has a substrate body (B), a first mirror surface (S) and a second mirror surface (S5). The first mirror surface (S) is formed on a first side (VS) of the substrate body (3). The second mirror surface (S') is formed on a second side (RS) of the substrate body (B), said second side being different from the first side of the substrate body (B). The mirror (M) according to the invention can be embodied, in particular, such that the substrate body (B) is produced from a glass ceramic material.

Abstract translation: 本发明涉及用于光敏材料的结构化曝光的用于微光刻的投射曝光装置的反射镜（M）以及用于制造反射镜（M）的方法。根据本发明的反射镜（M）具有基板 （B），第一镜面（S）和第二镜面（S5）。 第一镜面（S）形成在基板主体（3）的第一侧（VS）上。 第二镜面（S'）形成在基板主体（B）的第二侧（RS）上，所述第二侧不同于基板主体（B）的第一侧。 根据本发明的反射镜（M）尤其可以实施为使得基板主体（B）由玻璃陶瓷材料制成。

公开(公告)号：WO2010124791A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：PCT/EP2010/002236

申请日：2010-04-10

Applicant: CARL ZEISS SMS GMBH ,  KERWIEN, Norbert ,  HETZLER, Jochen

Inventor： KERWIEN, Norbert ,  HETZLER, Jochen

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7019 ,  G03F1/42 ,  G03F7/70516 ,  G03F9/7011

Abstract: A method for calibrating an apparatus (10) for the position measurement of measurement structures (14) on a lithography mask (12) comprises the following steps: qualifying a calibration mask (40) comprising diffractive structures (42) arranged thereon by determining positions of the diffractive structures (42) with respect to one another by means of interferometric measurement, determining positions of measurement structures (14) arranged on the calibration mask (40) with respect to one another by means of the apparatus, and calibrating the apparatus (10) by means of the positions determined for the measurement structures (14) and also the positions determined for the diffractive structures (42).

Abstract translation: 一种用于校准用于光刻掩模（12）上的测量结构（14）的位置测量的装置（10）的方法包括以下步骤：通过确定位于所述光刻掩模（12）上的位置来确定包括衍射结构（42）的校准掩模（40） 通过干涉测量相对于彼此的衍射结构（42），通过所述装置确定布置在校准掩模（40）上的测量结构（14）的位置，并校准装置（10） ）通过为测量结构（14）确定的位置以及为衍射结构（42）确定的位置。

公开(公告)号：WO2009007087A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：PCT/EP2008/005547

申请日：2008-07-08

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  HETZLER, Jochen ,  SCHILLKE, Frank ,  SCHULTE, Stefan ,  FREIMANN, Rolf ,  DÖRBAND, Bernd

Inventor： HETZLER, Jochen ,  SCHILLKE, Frank ,  SCHULTE, Stefan ,  FREIMANN, Rolf ,  DÖRBAND, Bernd

IPC: B24B13/06

CPC classification number: G01B9/021 ,  G01B9/02039 ,  G01B11/2441 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  Y10T29/49771

Abstract: An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.

Abstract translation: 光学元件具有光学表面，该光学表面适于非球形目标形状，使得光学表面的实际形状相对于目标形状的长波变化被限制为最大值0， 2nm，其中长波变化仅包括具有等于或大于10mm的最小空间波长的空间波长的振荡。

公开(公告)号：WO2012041461A3

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：PCT/EP2011004750

申请日：2011-09-22

Applicant: ZEISS CARL SMT GMBH ,  HETZLER JOCHEN ,  BLEIDISTEL SASCHA ,  GRUNER TORALF ,  HARTJES JOACHIM ,  SCHWAB MARKUS ,  WOLF ALEXANDER

Inventor： HETZLER JOCHEN ,  BLEIDISTEL SASCHA ,  GRUNER TORALF ,  HARTJES JOACHIM ,  SCHWAB MARKUS ,  WOLF ALEXANDER

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70133 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70733 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7049

Abstract: A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).

Abstract translation: 用于曝光衬底（20）的用于微光刻的投影曝光工具（10）包括用于在曝光衬底（20）暴露之前确定衬底（20）的表面形貌的投影物镜（18）和光学测量装置（40）。 测量装置（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量装置，其被配置为在基板表面上的多个点处同时确定地形测量值（ 21）。

公开(公告)号：WO2012041457A2

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：PCT/EP2011/004741

申请日：2011-09-22

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HETZLER, Jochen ,  GÖHNERMEIER, Aksel

Inventor： HETZLER, Jochen ,  GÖHNERMEIER, Aksel

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70675 ,  G01B9/02015 ,  G01B11/14 ,  G01B2290/65 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7049

Abstract: A projection exposure tool (10) for microlithography for imaging mask structures (22) of an image-providing substrate (20) onto a substrate (30) to be structured comprises a measuring apparatus (40) which is configured to determine a relative position of measurement structures (32) disposed on a surface of one of the substrates (20; 30) in relation to one another in at least one lateral direction in respect of the substrate surface and to thereby simultaneously measure a number of measurement structures (32) disposed laterally offset in relation to one another.

Abstract translation: 用于将用于将图像提供基板（20）的掩模结构（22）成像到要构造的基板（30）上的用于微光刻的投影曝光工具（10）包括测量装置（40），该测量装置 被配置为确定在相对于所述衬底表面的至少一个横向方向上相对于彼此确定布置在所述衬底（20; 30）之一的表面上的测量结构（32）的相对位置，并且由此同时测量 测量结构（32）的数量相对于彼此侧向偏置。