Abstract:
본 발명은 복합 발전형 축사에 관한 것으로, 내부에 수용공간이 구비되며 벽체를 형성하는 벽체 구조물, 상기 벽체 구조물의 상측에 구비되는 지붕 구조물, 상기 지붕 구조물에 설치되는 태양광 패널을 이용하여 전기 에너지를 생산하는 태양광 발전부, 상기 벽체 구조물의 후측에 설치되어, 상기 수용 공간의 공기를 외부로 배출시키는 배기부 그리고, 상기 배기부와 인접하여 설치되며 상기 배기부로부터 배기되는 공기를 이용하여 전기 에너지를 생산하는 풍력 발전부를 포함하는 복합 발전형 축사를 제공한다. 본 발명에 의할 경우, 태양광 및 풍력을 이용하여 에너지를 생산함으로써 운영 비용을 절감할 수 있다. 또한, 이와 같이 에너지를 자체 생산함으로써 축사의 에너지 자립도를 향상시켜 정전 등의 비상사태에도 정상적으로 축사 운영이 가능한 장점이 있다.
Abstract:
본 발명은 태양광 축사에 관한 것으로, 내부에 가축이 수용되는 공간이 형성되며, 벽체를 형성하는 벽체 구조물, 상기 벽체 구조물의 상측에 구비되는 지붕 구조물, 상기 지붕 구조물 상에 각각 설치되며 동일한 높이까지 연장 형성되는 복수개의 패널 지지부 그리고, 상기 패널 지지부에 지지되며, 상기 지붕 구조물에 복수의 열을 형성하도록 배치되는 태양광 패널을 포함하는 태양광 발전 축사를 제공한다. 본 발명에 의할 경우, 태양광을 이용하여 에너지를 생산함으로써 운영 비용을 절감할 수 있다. 또한, 축사의 설치 방향과 상관없이 태양광 패널을 설치하는 것이 가능하고, 교체 수리시에도 작업자가 용이하게 유지 보수를 진행할 수 있는 장점이 있다.
Abstract:
결정성 및 휘도를 향상시킬 수 있는 질화물계 발광소자 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 질화물계 발광소자는 성장 기판; 상기 성장 기판 상에 형성되는 격자완충층; 상기 격자완충층 상에 형성되는 p-타입 질화물층; 상기 p-타입 질화물층 상에 형성되는 발광 활성층; 및 상기 발광 활성층 상에 형성되는 n-타입 ZnO층;을 포함하고, 상기 격자완충층은 Wurtzite 구조를 갖는 물질의 파우더로 형성되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 격자완충층은 ZnO 파우더로 형성되어, 질화물 성장시 발생하는 선결함(dislocation)을 최소화할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 템플레이트를 이용한 질화물 반도체 발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 기판 상에 3족 물질을 포함하는 제1 질화물층을 성장시키는 단계, 상기 제1 질화물층의 상측에, 상기 제1 질화물층과 식각 특성이 상이한 다수개의 식각 배리어를 형성하는 단계, 클로라이드 계열의 가스로 상기 제1 질화물층을 상기 식각 배리어의 패턴에 따라 식각하여 기둥 형상의 나노 구조물을 형성하는 단계 및 상기 나노 구조물 상측으로 제2 질화물층을 성장시켜, 내부에 다수개의 공극을 구비하는 질화물 완충층을 형성하는 단계를 포함하는 템플레이트 제조 방법 및 이를 이용한 질화물 반도체 발광소자의 제조방법을 제공한다.
Abstract:
GaN계 발광소자 제조시 발생하는 GaN 식각물을 이용한 GaN 파우더 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 GaN 파우더를 이용한 질화물계 발광소자에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 GaN 파우더 제조 방법은 (a) GaN계 발광소자의 식각 과정에서 발생하는 GaN 식각물을 포집하는 단계; (b) 상기 포집된 GaN 식각물을 세정하는 단계; (c) 상기 세정된 GaN 식각물을 가열하여, 상기 GaN 식각물에 포함된 인듐(In) 성분을 제거하는 단계; 및 (d) 상기 인듐 성분이 제거된 GaN 식각물을 분쇄하여 파우더화하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 템플레이트를 이용한 질화물 반도체 발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 기판상에 제1 질화물층을 성장시키는 단계, 클로라이드 계열의 식각 가스를 공급하여 상기 제1 질화물층의 상면을 식각하는 단계, 상기 제1 질화물층의 상면으로 제2 질화물층을 성장시켜 다수개의 제1 공극을 형성하는 단계, 상기 식각 가스를 공급하여 상기 제2 질화물층의 상면을 식각하는 단계 그리고, 상기 제2 질화물층의 상면으로 제3 질화물층을 성장시켜 다수개의 제2 공극을 형성하는 단계를 포함하는 템플레이트 제조 방법 및 이를 이용한 질화물 반도체 발광소자의 제조방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 의하면, 잉곳 성장 장치는, 외부로부터 공급원료가 공급되는 공급포트를 구비하는 로(furnace); 상기 로의 내부에 설치되며, 시드 및 상기 시드의 상부에 공급원료가 채워지는 도가니; 상기 도가니를 가열하여 상기 시드 및 상기 공급원료를 용융시키는 히터; 그리고 상기 공급포트에 연결되어 상기 도가니에 상기 공급원료를 공급하는 피드유닛을 포함하되, 상기 피드유닛은, 상기 공급원료가 내부에 채워지며, 하부에 형성된 배출포트를 통해 상기 공급원료를 배출하는 호퍼; 그리고 상기 배출포트를 향해 개방된 입구를 가지는 공급튜브와 상기 로의 내부를 향해 하향경사진 배출튜브를 가지는 고정관을 구비한다.
Abstract:
ZnO 파우더와 같은 Wurtzite 격자 구조를 갖는 물질의 파우더를 이용한 질화물계 발광소자 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 질화물계 발광소자는 성장 기판; 상기 성장 기판 상에 형성되는 격자 완충층; 및 상기 격자 완충층 상에 형성되며, 복수의 질화물층이 적층되어 있는 발광 구조체;를 포함하고, 상기 격자 완충층은 Wurtzite 구조를 갖는 물질의 파우더로 형성되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 격자 완충층은 ZnO 파우더로 형성되어, 질화물 성장시 발생하는 선결함(dislocation)을 최소화할 수 있다.
Abstract:
패턴화된 격자 완충층을 이용하여 질화물의 결정성을 향상시킬 수 있으며, 에어 홀을 형성함으로써 휘도를 향상시킬 수 있는 질화물계 발광소자 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 질화물계 발광소자 제조 방법은 (a) 기판 상에 Wurtzite 격자 구조를 갖는 물질을 증착하여, 증착층을 형성하는 단계; (b) 상기 증착층의 표면에 식각 패턴을 형성하여, 패턴화된 격자 완충층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 패턴화된 격자 완충층 상에 질화물을 성장시키는 단계;를 포함하고, 상기 (c) 단계에서 상기 패턴화된 격자 완충층을 제거하여, 상기 제거된 부분에 에어 갭(air gap)을 형성하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
실리콘 기판을 이용한 질화물계 발광소자 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 질화물계 발광소자는 실리콘(Si) 기판; 상기 실리콘 기판 상에 형성되는 질화물 성장용 시드층; 및 상기 질화물 성장용 시드층 상에 형성되며, 복수의 질화물층이 적층되어 있는 발광 구조체;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 특히, 상기 질화물 성장용 시드층을 GaN 파우더로 형성하여 질화물을 성장시킨 결과, 질화물과 실리콘의 격자 상수 차이로 인하여 발생하는 선결함(dislocation)을 최소화할 수 있었다.