半透過型液晶表示装置及びその製造方法
    1.
    发明申请
    半透過型液晶表示装置及びその製造方法 审中-公开
    透明液晶显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:WO2007129480A1

    公开(公告)日:2007-11-15

    申请号:PCT/JP2007/050104

    申请日:2007-01-09

    Abstract:  アクティブマトリクス基板(20a)を備えた半透過型液晶表示装置(50a)であって、アクティブマトリクス基板(20a)は、複数のソース線(2)と、各ソース線(2)にTFT(5)を介して接続された第1透明電極(2c)と、第1透明電極(2c)上に設けられ開口部(12a)を有する層間絶縁膜(12)と、層間絶縁膜(12)上に開口部(12a)を介して第1透明電極(2c)に接続された反射電極(6a)と、反射電極(6a)及び第1透明電極(2c)に重畳して反射電極(6a)及び第1透明電極(2c)に接続された第2透明電極(7a)とを備え、各画素において、反射電極(6a)及び第2透明電極(7a)の各外周端(E)は、一致している。

    Abstract translation: 半透明液晶显示装置(50a)包括有源矩阵基板(20a)。 有源矩阵基板(20a)包括多个源极线(2),经由TFT(5)连接到每个源极线(2)的第一透明电极(2c),层间绝缘膜(12) 布置在第一透明电极(2c)上并且具有开口(12a),布置在层间绝缘膜(12)上的反射电极(6a),并且经由开口(12a)连接到第一透明电极(2c) 和连接到反射电极(6a)和第一透明电极(2c)的第二透明电极(7a),同时叠加在反射电极(6a)和第一透明电极(2c)上。 在每个像素中,反射电极(6a)和第二透明电极(7a)的外周端(E)相匹配。

    液晶表示装置
    2.
    发明申请
    液晶表示装置 审中-公开
    液晶显示装置

    公开(公告)号:WO2009072331A1

    公开(公告)日:2009-06-11

    申请号:PCT/JP2008/065741

    申请日:2008-09-02

    Abstract:  透過電極(23)によって透過モードの表示を行う透過表示部と、反射電極(24)によって反射モードの表示を行う反射表示部とを含む液晶表示装置であって、複数の画素(10)のそれぞれには、上記透過表示部に対応するTFT(1)と、上記反射表示部に対応するTFT(2)とが設けられている。これにより、半透過型の液晶表示装置において、構成を複雑化することなく、反射表示部と透過表示部との各最適対向電圧からのずれに起因するフリッカの発生を低減することを可能にする。

    Abstract translation: 液晶显示装置包括透射显示部分,其中通过反射电极(24)进行反射模式显示的透射电极(23)和反射显示部分进行透射模式显示。 在液晶显示装置中,为多个像素(10)中的每一个设置与透射显示部相对应的TFT(1)和与反射显示部对应的TFT(2)。 在半透射型液晶显示装置中,由于能够减少因反射显示部和透射显示部的各最佳相对电压的偏离而导致的闪烁的发生而不会使结构复杂化。

    表示装置用基板及び液晶表示装置
    3.
    发明申请
    表示装置用基板及び液晶表示装置 审中-公开
    显示器件基板和液晶显示器件

    公开(公告)号:WO2010010744A1

    公开(公告)日:2010-01-28

    申请号:PCT/JP2009/057490

    申请日:2009-04-14

    Abstract: 本発明は、反射層をパターニングするためのレジスト剥離工程における反射層のダメージの発生を抑制することができる表示装置用基板及び液晶表示装置を提供する。本発明の表示装置用基板は、表示領域に反射層が設けられた表示装置用基板であって、上記表示装置用基板は、端子領域を除いて上記表示領域よりも外側の領域で、かつ上記反射層と同じ面側に配置されるパターン膜を有し、上記パターン膜は、上記反射層の材料とイオン化のしやすさが同じ材料、又は、上記反射層の材料よりもイオン化しやすい材料を含む表示装置用基板である。

    Abstract translation: 提供一种能够防止在用于图案化反射层的抗蚀剂剥离步骤中对反射层的损害的产生的显示装置基板和液晶显示装置。 在显示区域中设置有反射层的显示器件基板包括布置在除了端子区域之外的区域,在显示区域外部并且在与反射层相同的表面侧上的图案膜。 图案膜包含与反射层的材料一样容易地电离的材料或比反射层的材料更容易离子化的材料。

    アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の製造方法、液晶表示装置および電子機器
    4.
    发明申请
    アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の製造方法、液晶表示装置および電子機器 审中-公开
    有源矩阵基板,主动矩阵基板,液晶显示装置和电子设备的制造方法

    公开(公告)号:WO2008099535A1

    公开(公告)日:2008-08-21

    申请号:PCT/JP2007/070415

    申请日:2007-10-19

    CPC classification number: G02F1/133555 G02F2001/13629 G02F2201/123

    Abstract:  本発明のアクティブマトリクス基板(30)は、絶縁基板(10)上に設けられた複数のTFT素子(2)と、上記各TFT素子(2)と電気的に接続された画素電極(7)とを有する。上記画素電極(7)は、第1の透明電極層(7a)と、上記第1の透明電極層(7a)上に積層され、該第1の透明電極層(7a)よりも小さい面積の反射電極層(7b)と、上記反射電極層(7b)を少なくとも覆うように積層された第2の透明電極層(7c)とを有する。これにより、フリッカの発生を抑制して表示品位の高い半透過型液晶表示装置を実現し得る。

    Abstract translation: 有源矩阵基板(30)包括绝缘基板(10),设置在绝缘基板(10)上的多个TFT元件(2)和与每个TFT元件(2)电连接的像素电极(7)。 像素电极(7)包括第一透明电极层(7a),层叠在第一透明电极层(7a)上并具有比第一透明电极层(7a)更小的表面积的反射电极层(7b) 以及层叠以至少覆盖反射电极层(7b)的第二透明电极层(7c)。 可以提供减少发生闪烁现象并具有高显示质量的半透射型液晶显示装置。

    金属材料およびその製造方法、薄膜装置およびその製造方法、素子側基板およびその製造方法、液晶表示装置およびその製造方法
    5.
    发明申请
    金属材料およびその製造方法、薄膜装置およびその製造方法、素子側基板およびその製造方法、液晶表示装置およびその製造方法 审中-公开
    金属材料及其制造方法,薄膜装置及其制造方法,元件基板及其制造方法和液晶显示及其制造方法

    公开(公告)号:WO2006095577A1

    公开(公告)日:2006-09-14

    申请号:PCT/JP2006/303332

    申请日:2006-02-23

    Abstract:  製造工程数増加や光学性能低下を生じることなく、異なる金属薄膜間の仕事関数の差を抑制する。  画素電極64に反射電極62と透過電極63を有する半透過反射型液晶表示装置1において、反射電極62の表面にプラズマ処理を行って仕事関数を元の値から少なくとも0.1eV制御して、透過電極63の仕事関数に対して±0.2eV以内とすることができる。これによって、従来のように製造工程数増加や光学性能低下を生じることなく、反射電極62および透過電極63の一方に最適な直流オフセット電圧を印加しても、他方の電極に最適な直流オフセット電圧との差による画像表示品位の低下を少なくできて、液晶表示装置1の表示品位を向上させることができる。

    Abstract translation: 不同金属薄膜的工作功能之间的差异不会增加制造步骤数量和降低光学性能。 一种具有由反射电极(62)和透射电极(63)组成的像素电极(64)的半透射反射液晶显示器(1)。 通过对反射电极(62)的表面进行等离子体处理,将反射电极(62)的功函数从发送电极(63)的功函数的±0.2eV内的原始值控制在至少0.1eV 62)。 这样,与传统方法不同,即使不增加制造步骤的数量和降低光学性能,即使应用最适合于反射和发射电极(62,63)中的一个的DC偏移电压, 可以减少由于与最适合于其他电极的DC偏移电压的差异引起的显示图像,并且可以提高液晶显示器(1)的显示清晰度。

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