公开(公告)号：WO2006009003A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：PCT/JP2005/012784

申请日：2005-07-11

Applicant: 国立大学法人東北大学 ,  ステラケミファ株式会社 ,  大見 忠弘 ,  寺本 章伸 ,  菊山 裕久 ,  二井 啓一 ,  山本 雅士

Inventor： 大見 忠弘 ,  寺本 章伸 ,  菊山 裕久 ,  二井 啓一 ,  山本 雅士

IPC: H01L21/308

CPC classification number: H01L21/02063

Abstract: 本発明の目的は、半導体表面の原子溶出が少なく、清浄かつ平坦な半導体表面を作成できる処理液、処理方法および半導体製造装置を提供することにある。本発明はアルコール類またはケトン類のうち少なくとも１種類を含む水溶液を用いることにより、半導体表面からの溶出の少ない処理および清浄かつ平坦な表面を実現する処理液、処理方法および半導体製造装置が得られる。

Abstract translation: 公开了一种处理液体，其仅使半导体表面的原子几乎不溶解，并且能够形成清洁且平坦的半导体表面。 还公开了一种用于制造半导体的处理方法和装置。 具体公开了一种处理液体，其通过使用含有至少一种醇或酮的水溶液使半导体表面的原子几乎不溶解，从而实现清洁平坦的表面。

公开(公告)号：WO2005003108A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：PCT/JP2004/009623

申请日：2004-06-30

Applicant: 大塚化学株式会社 ,  ステラケミファ株式会社 ,  西田 哲郎 ,  田代 康貴 ,  富崎 恵 ,  山本 雅士 ,  平野 一孝 ,  鍋島 亮浩 ,  徳田 弘晃 ,  佐藤 健児 ,  肥後野 貴史

Inventor： 西田 哲郎 ,  田代 康貴 ,  富崎 恵 ,  山本 雅士 ,  平野 一孝 ,  鍋島 亮浩 ,  徳田 弘晃 ,  佐藤 健児 ,  肥後野 貴史

IPC: C07D295/08

CPC classification number: C07D207/08 ,  H01G9/038 ,  H01G11/60 ,  H01G11/62 ,  H01M6/164 ,  H01M6/166 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0567 ,  H01M10/0568 ,  H01M10/0569 ,  H01M2300/0025 ,  Y02E60/13 ,  Y02T10/7011 ,  Y02T10/7022

Abstract: Disclosed are a quaternary ammonium salt represented by the formula (1) below, an electrolyte, and a electrochemical device. (wherein R represents a straight chain or branched alkyl group having 1-4 carbon atoms; R represents a methyl group or an ethyl group; and X represents a fluorine-containing anion.)

Abstract translation: 公开了由下式（1）表示的季铵盐，电解质和电化学装置。 （其中R 1表示具有1-4个碳原子的直链或支链烷基; R 2表示甲基或乙基; X'表示含氟阴离子。）