公开(公告)号：WO2006137205A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：PCT/JP2006/307123

申请日：2006-04-04

Applicant: 国立大学法人 東京工業大学 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  大場 吾郎

Inventor： 沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  大場 吾郎

IPC: G01N1/28 ,  G01N21/73 ,  G01N27/62

CPC classification number: B01J19/087 ,  B01J19/08 ,  B01J2219/0877 ,  G01N21/73 ,  G01N27/62 ,  H05H1/42

Abstract: 　液体導入プラズマシステムは、プラズマが生じるプラズマ室と、プラズマ室でプラズマを生成するプラズマ生成装置と、液体を直線上に噴出してプラズマ室に入れる噴出装置と、を備えている、液体導入プラズマシステムであり、微少量の液体をプラズマに供給でき、プラズマを発生する電力を低減できるものである。

Abstract translation: 一种液体引入等离子体系统，包括其中产生等离子体的等离子体室，在等离子体室中产生等离子体的等离子体产生装置以及将液体线性地喷射到等离子体室中的喷射装置。 该系统可以向等离子体供应少量的液体以减少用于产生等离子体的电力。

公开(公告)号：WO2008084660A1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：PCT/JP2007/074696

申请日：2007-12-21

Applicant: 国立大学法人 東京工業大学 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  景安 泰千

Inventor： 沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  景安 泰千

IPC: H03H7/38 ,  H05H1/30 ,  H05H1/46

CPC classification number: H03H7/383 ,  H01J37/32183 ,  H05H1/46

Abstract: 　高周波整合調整器の信頼性の向上を得ることを目的として、高周波発生装置と負荷装置の整合を調整する整合調整回路を形成する高周波整合調整器において、筐体と、整合調整回路の電気部品と、電気部品の端子に接続する配線材と、を備え、電気部品を配線材により筐体から浮かせてある、高周波整合調整器にある。  

Abstract translation: 提供了一种高频匹配调节器，其中形成用于调节高频发生装置和负载装置的匹配的匹配调节电路，以提高高频匹配调节器的可靠性。 调节器设置有壳体，匹配调节电路的电气部件和连接到电气部件的端子的配线材料。 电气部件允许通过布线材料从壳体浮动。

公开(公告)号：WO2007148470A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：PCT/JP2007/058593

申请日：2007-04-20

Applicant: リバーベル株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学 ,  鐘ヶ江 正巳 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一

Inventor： 鐘ヶ江 正巳 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一

IPC: H01L21/304 ,  B01J19/08 ,  B08B3/02 ,  B08B5/00 ,  B08B7/00 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/24

CPC classification number: H05H1/30 ,  B08B3/08 ,  B08B7/00 ,  B08B7/0035 ,  G03F7/42 ,  G03F7/427 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6708

Abstract: A treating apparatus, and method of treating, being capable of shortening the lead time and being more reliable in treating performance than in the prior art. There is provided an apparatus comprising chamber (1); holding means (3) for holding of treatment object (2), disposed in the chamber; active atom feeding means (4) for feeding of active atoms into the chamber; and chemical solution feeding means (5) for feeding of a solution of chemical into the chamber so as to carry out not only dry treatment by the active atoms fed by the active atom feeding means but also wet treatment by the solution of chemical fed by the chemical solution feeding means on the surface of the treatment object.

Abstract translation: 一种处理装置和处理方法，其能够缩短交货时间并且在处理性能方面比现有技术更可靠。 提供了一种包括腔室（1）的装置; 用于保持处理物体（2）的保持装置（3），设置在所述腔室中; 用于将活性原子进料到所述室中的活性原子进料装置（4） 以及化学溶液供给装置（5），用于将化学溶液供给到室中，以便不仅由活性原子进料装置供给的活性原子进行干燥处理，而且还通过由 化学溶液进料装置在处理对象的表面上。