公开(公告)号：WO2005050725A1

公开(公告)日：2005-06-02

申请号：PCT/JP2004/017258

申请日：2004-11-19

Applicant: 株式会社日立国際電気 ,  笠原 修 ,  前田 喜世彦 ,  米田 秋彦

Inventor： 笠原 修 ,  前田 喜世彦 ,  米田 秋彦

IPC: H01L21/31

CPC classification number: H01J37/32834 ,  C23C16/4401 ,  H01J2237/022 ,  H01L21/3185 ,  Y10S438/935

Abstract: Disclosed is a method for producing a semiconductor device wherein particles can be effectively removed from a reaction chamber during the substrate carrying-in step and/or the substrate carrying-out step. In a step for carrying a wafer (200) in a reaction chamber (201) and/or a step for carrying the wafer (200) out from the chamber, air is discharged from the reaction chamber (201) at a higher rate than the air discharging rate during the processing step of wafer (200). During the wafer (200) carrying-in step and/or the wafer (200) carrying-out step, it is preferable to discharge air from the reaction chamber (201) while introducing an inert gas into the chamber.

Abstract translation: 公开了一种用于制造半导体器件的方法，其中在衬底进入步骤和/或衬底执行步骤期间可以从反应室中有效地除去颗粒。 在用于在反应室（201）中携带晶片（200）和/或用于将晶片（200）从室中输出的步骤的步骤中，空气以比所述反应室（201）更高的速率从反应室（201）排出 在晶片（200）的处理步骤期间的排气速率。 在晶片（200）携带步骤和/或晶片（200）进行步骤期间，优选在将惰性气体引入室内的同时从反应室（201）排出空气。

公开(公告)号：WO2007086458A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：PCT/JP2007/051162

申请日：2007-01-25

Applicant: 株式会社日立国際電気 ,  米田 秋彦

Inventor： 米田 秋彦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01L21/67769 ,  G05B19/409 ,  G05B2219/45031

Abstract: 　レシピの遷移状況を確実に知らせることができる基板処理装置を提供する。基板を処理するための制御指示を送信する主制御部３１２と、この主制御部３１２からの制御指示に従って装置の制御を行う副制御部３１４とを有する基板処理装置１００において、主制御部３１２は、複数のレシピを格納する記憶部３１７と、複数のレシピのうち任意のレシピを実行させる実行指示を受け付ける表示制御部３３６と、表示制御部３３６により指示された任意のレシピを操作画面３０８に表示する表示部３３４とを有し、任意のレシピを実行中に前記レシピ格納手段に格納された他のレシピを実行させる実行指示を受けると、この他のレシピを実行させる実行指示が発生した要因と共に前記任意のレシピと他のレシピとを操作画面３０８に表示する。

Abstract translation: 一种用于可靠地报告配方的变化状态的基板处理装置。 基板处理装置（100）包括用于发送用于处理基板的控制命令的主控制单元（312）和用于根据来自主控制单元（312）的控制命令来控制装置的子控制单元（314） 。 主控制单元（312）具有用于存储食谱的存储部（317），用于从配方中接收实现给定食谱的实现命令的显示控制部（336），以及显示部 在操作画面（308）上由显示控制部（336）指定的给定食谱。 当在给定配方的实施期间接收到实现存储在配方存储装置中的另一配方的实现命令时，导致执行命令实现另一个配方，给定配方和另一个配方的因素显示在操作屏幕上 （308）。

公开(公告)号：WO2007034957A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：PCT/JP2006/319014

申请日：2006-09-26

Applicant: 株式会社日立国際電気 ,  飯田 宰 ,  米田 秋彦 ,  猪島 かおり

Inventor： 飯田 宰 ,  米田 秋彦 ,  猪島 かおり

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G05B23/0267 ,  G05B2219/31455 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67253

Abstract:   装置の稼動状態を確実に知らせることができる基板処理装置を提供する。稼動状態を示すシグナル表示機器を備えた基板処理装置１００において、シグナル表示機器３０６が動作する少なくとも一つの動作条件を設定し、複数の動作条件のいずれかにより動作するシグナル表示機器３０６と、シグナル表示機器３０６の動作時に、動作原因が複数の動作条件のいずれかであることを表示する表示器３１４とを備える。

Abstract translation: 提供了能够可靠地报告设备操作状态的基板处理设备。 衬底处理装置（100）包括指示操作状态的信号显示装置。 基板处理装置（100）还包括：信号显示装置（306），其用于设定所述信号显示装置（306）在多个操作条件中的一个操作条件下操作和操作的至少一个操作条件; 以及用于识别操作的操作状态的显示装置（314），其在信号显示装置（306）工作时引起。