公开(公告)号：WO2018022652A1

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：PCT/US2017/043784

申请日：2017-07-25

申请人： KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： VANHOOMISSEN, William ,  ESTRIN, Valeryan ,  JONG, Eric

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC分类号： B08B1/04 ,  B08B7/02 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/6735 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68735

摘要： A cleaning assembly for cleaning one or more wafer edge handling contact surfaces of wafer handling equipment includes a substrate and a cleaning ring. The substrate includes an edge portion that extends about the body of the substrate. The cleaning ring is reversibly attachable to the edge portion of the substrate. The cleaning ring is formed from a deformable material. The substrate and cleaning ring are sized for compatibility with a front opening unified pod (FOUP) or a wafer cassette of a semiconductor fabrication facility.

摘要翻译： 用于清洁晶片处理设备的一个或多个晶片边缘处理接触表面的清洁组件包括基板和清洁环。 衬底包括围绕衬底的主体延伸的边缘部分。 清洁环可逆地附着到基板的边缘部分。 清洁环由可变形材料形成。 基板和清洁环的尺寸与半导体制造设施的前开口统一舱（FOUP）或晶圆盒兼容。

公开(公告)号：WO2016152276A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/JP2016/053490

申请日：2016-02-05

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 小合　玄己

IPC分类号： B65G1/04 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/677 ,  B65G1/04 ,  H01L21/6735 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/68

摘要： 　高さが異なる複数の物品を位置決めすると共に落下を防止し、かつ背の高い物品が背が低い物品の落下防止を妨げないようにする。支持装置（４）は、第１の物品（５２）の上方に位置し、第１の物品（５２）が上昇して位置決めが解除されることを防止する第１の落下防止部材（４４）と、第２の物品（６４）の上方に位置し、第２の物品（６４）が上昇して位置決めが解除されることを防止する第２の落下防止部材（４６）とを備える。第１及び第２の落下防止部材（４４，４６）の側の第１の物品（５２）の端部を、第２の物品（６４）の端部と同じか、あるいは第２の物品（６４）の端部よりも、第１及び第２の落下防止部材（４４，４６）に近い側に位置決めする。第１の位置決め部材（１２，１６）が第１の物品（５２）を位置決めしている際に、第２の落下防止部材（４６）は第１の物品（５２）の前記端部から退避する。

摘要翻译： 本发明的目的是定位多个不同高度的物品，并防止物品掉落，并防止高高度的物品干扰防止低高度物品掉落。 该支撑装置（4）配备有：第一防坠落构件（44），其位于第一物品（52）的上方，并且防止由于第一物品（52）的上升引起的定位的释放; 以及位于第二制品（64）上方的第二坠落防止构件（46），并且防止由于第二制品（64）的上升引起的定位的释放。 第一物品（52）朝向第一和第二防坠落构件（44,46）的端部与第二物品（64）的端部相同或更靠近第一和第二坠落防止构件（44,46） ）比第二条（64）的结尾。 利用第一定位构件（12,16）来定位第一制品（52），第二防跌落构件（46）从第一制品（52）的端部缩回。

公开(公告)号：WO2016130224A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/US2015/067903

申请日：2015-12-29

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： SHAVIV, Roey ,  LAM, John ,  BOCHMAN, Timothy

IPC分类号： H01L21/288 ,  H01L21/677

CPC分类号： C25D17/001 ,  C25D3/12 ,  C25D5/10 ,  C25D5/18 ,  C25D5/50 ,  C25D7/123 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/6723 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67769

摘要： A wafer electroplating system has at least one first electroplating chamber having a first electrolyte containing cobalt ions, and is adapted to electroplate a cobalt film onto a wafer at a first deposition rate. A second electroplating chamber has a second electrolyte containing cobalt ions, and is adapted to electroplate a cobalt film onto the wafer at a second deposition rate faster than the first deposition rate. The first and second electroplating chambers are within an enclosure of a processing system. A robot moves a wafer among the first and second electroplating chambers.

摘要翻译： 晶片电镀系统具有至少一个第一电镀室，其具有含有钴离子的第一电解质，并且适于以第一沉积速率将钴膜电镀到晶片上。 第二电镀室具有包含钴离子的第二电解质，并且适于以比第一沉积速率更快的第二沉积速率将钴膜电镀到晶片上。 第一和第二电镀室位于处理系统的外壳内。 机器人在第一和第二电镀室之间移动晶片。

公开(公告)号：WO2016039023A1

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：PCT/JP2015/071010

申请日：2015-07-23

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 福島　正純

IPC分类号： B65G1/04

CPC分类号： B65G1/0464 ,  B65G1/04 ,  B65G1/0478 ,  B65G1/0492 ,  B65G2201/0297 ,  H01L21/67733 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67769

摘要： 　大容量でかつ物品をスムーズに搬出入できる一時保管システムを提供する。一時保管システム（２）は、処理装置（５３）の上部でかつロードポート（５４）の直上部を除く位置に、格子状の走行レール（９，１１）とバッファ（６）とを備えて、ローカル台車（８）を走行させる。ローカル台車（８）の走行部（２４）は、縦方向の走行ユニット（３５）と、横方向の走行ユニット（３５）と、縦横いずれかの走行ユニット（３５）を走行レール（９，１１）に支持される位置に選択的に進出させる出退機構（２８，３０）とを備えて、走行レール（９，１１）上を縦横に走行し、移載部（２６）はホイスト（４５）とホイスト（４５）を水平移動させるアーム（４０）とを備える。ローカル台車（８）は、ロードポート（５４）に対応する位置に停止し、アーム（４０）をロードポート（５４）側に進出させることにより、ロードポート（５４）との間で物品（５０）を移載する。

摘要翻译： 提供了一种具有大容量的临时存储系统，可以平稳地加载和卸载货物。 临时存储系统（2）在位于处理装置（53）上方并且直接位于加载端口（54）上方的位置处设有格栅状轨道（9,11）和缓冲器（6），并且 临时存储系统导致本地车（8）行驶。 每个局部推车（8）的行进部分（24）由于行进部分设置有纵向行进单元（35），横向行进单元（35），纵向和横向地在行进轨道（9,11）上行进 （35），以及选择性地使所述纵向或横向移动单元（35）前进到所述行进单元（35）被所述行驶轨道（9,11）支撑的位置的前进/后退机构（28,30）。 传递部分（26）设有提升机（45）和使升降机（45）水平移动的臂（40）。 本地推车（8）在对应于装载口（54）的位置处停止，并通过使臂（40）朝向装载方向前进而在本地车（8）和装载口（54）之间传送货物（50） 港（54）。

公开(公告)号：WO2015174181A1

公开(公告)日：2015-11-19

申请号：PCT/JP2015/061322

申请日：2015-04-13

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 池田　昌弘 ,  福島　正純 ,  伊藤　靖久

IPC分类号： B65G1/04 ,  B65G1/00

CPC分类号： B65G1/0464 ,  B65G37/02 ,  B65G2201/0297 ,  B66C19/00 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67733 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769

摘要： 　多数のバッファ(22)と、走行経路を自由に選択できる多数のローカル台車(16)とを用いて、柔軟にロードポート(14)に物品を搬出入する。天井走行車(4)の走行ルート(6)に沿って、ホイスト(50)を有する複数の天井走行車(4)を走行させる。天井走行車(4)の走行ルートの下部及び複数のロードポート(14)の上部で、ロードポート(14)よりも高い位置にローカル台車(16)の走行ルート(20)を配置し、ホイスト(50)を備えている複数のローカル台車(16)を走行させ、ローカル台車(16)の走行ルート(20)に沿って複数のバッファ(22)を設ける。ローカル台車(16)の走行ルート(20)は平行に複数設けられ、かつローカル台車(16)の走行ルート(20)間で、ローカル台車(16)が分岐及び合流自在である。ローカル台車(16)により、ロードポート(14)とバッファ(22)との間で、前記コントローラの制御に基づいて物品を搬送し、天井走行車(4)により、ロードポート(14)もしくはバッファ(22)に対し、前記コントローラの制御により物品を移載し、かつローカル台車(16)の走行ルート(20)から外 れた区間との間で物品を搬送する。

摘要翻译： 本发明的目的是使用多个缓冲器（22）和多个本地托架（16）来灵活地将物品运送到或离开装载端口（14），为此可以自由地选择其输送路径。 每个具有起重机（50）的多个架空运输车辆（4）被制造成用于架空运输车辆（4）的运输路线（6）。 位于高架运输车辆（4）的运输路线（6）的下方和多个装载口（14）上方的位于比装载口（14）更高的位置处的运输路线（20） ，并且使各具有升降机（50）的多个局部滑架（16）在其上行进。 多个缓冲器（22）沿着用于局部托架（16）的运输路线（20）设置。 本地托架（16）的多个运送路线（20）平行设置，并且局部托架（16）能够在本地托架（16）的运输路线（20）之间彼此自由地分开并相遇 ）。 本地托架（16）在控制器的控制下，在装载端口（14）和缓冲器（22）之间携带物品。 架空运输车辆（4）在控制器的控制下将物品转移到装载端口（14）或缓冲器（22），物品在架空运输车辆（4）和远离运输路线的区域（20）之间运载 ）当地车厢（16）。

公开(公告)号：WO2015045582A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/JP2014/069018

申请日：2014-07-17

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 村田　正直 ,  徳本　光哉 ,  山路　孝 ,  安達　成人

IPC分类号： H01L21/673

CPC分类号： H01L21/67393 ,  G01N33/0036 ,  G05D7/0617 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67389 ,  H01L21/67769

摘要： 作業者の安全を確保し、かつパージを停止する範囲を最小限にする。装置の内部スペースを、作業エリアと非作業エリアとに分割し、作業エリアでの物品へのパージを停止し、非作業エリアでの物品へのパージを続行する。作業エリア内の酸素濃度を測定し、作業エリア内の酸素濃度が所定値以下に低下すると、非作業エリアでの物品へのパージを停止する。

摘要翻译： 本发明的目的是确保操作者的安全性并使清洗停止的区域最小化。 设备的内部空间分为工作区域和非工作区域，并且在非工作区域中产品的清洗进行时，停止在工作区域中的产品清洗。 测量工作区域的氧浓度，如果工作区域的氧浓度降低到规定值以下，则停止在非工作区域中的产品的清洗。

公开(公告)号：WO2014067177A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/CN2012/084711

申请日：2012-11-15

申请人： 深圳市华星光电技术有限公司

发明人： 陈增宏 ,  吴俊豪 ,  林昆贤 ,  齐明虎 ,  郭振华 ,  杨卫兵

IPC分类号： B65G1/04 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67766 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67736 ,  H01L21/67769

摘要： 一种搬运卡匣的方法和装置，用于在仓储柜的堆垛机、装载加工口和卸载加工口之间搬运卡匣，其通过在装载加工口和卸载加工口前段设置搬运口区（7），并在搬运口区（7）设置水平搬运机构和垂直搬运机构，将装载加工口处的空卡匣搬运至预定的卸载加工口。该方法和装置可以减少仓储柜中堆垛机的搬运量，有效地解决现有仓储柜中堆垛机搬运量过大的瓶颈，提升产能。

公开(公告)号：WO2014030421A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：PCT/JP2013/067083

申请日：2013-06-21

申请人： 村田機械株式会社

发明人： 村田　正直 ,  山路　孝

IPC分类号： B65G1/14 ,  B65G1/00 ,  H01L21/673

CPC分类号： B08B5/02 ,  B65G1/00 ,  B65G45/00 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  Y10T137/4238

摘要： 　パージ機能を備えた間口と備えない間口とが共存でき、かつパージ機能を備えない間口をパージ機能を備えた間口に容易に変更できるストッカを提供する。上下方向あるいは水平方向に沿って、クリーンガスの供給用ノズルを備えない棚受けを複数取り付け自在なストッカのフレームに、ストッカユニットのベースが取り付けられている。ストッカユニットは、ベースに沿って設けられているクリーンガスの供給用のパイプと、ベースに取り付けられ、かつ上下方向あるいは水平方向に沿って配列されている、複数のパージ機能付き棚受けとを備え、棚受けはコンテナを支持自在で、かつコンテナにパイプからクリーンガスを供給するノズルを備えている。

摘要翻译： 本发明提供了能够具有提供清除功能的细胞的储存器，并且没有提供清洗功能的细胞共存，并且能够容易地将未提供清除功能的细胞改变到具有清除功能的细胞。 储料器单元的基座安装在储料器的框架上，其上安装有垂直或水平布置的多个搁架托盘，没有设置有用于供应清洁气体的喷嘴。 储料器单元包括用于供应沿着基部设置的清洁气体的管道，以及多个具有清洗功能的搁板托架，安装在基座上并沿垂直或水平方向布置。 搁板托盘能够支撑容器，并且设置有用于从管道向容器提供清洁气体的喷嘴。

公开(公告)号：WO2014003286A1

公开(公告)日：2014-01-03

申请号：PCT/KR2013/001412

申请日：2013-02-22

申请人： 주식회사 엔제닉

发明人： 송병호

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/67781 ,  H01L21/67313 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769

摘要： 이상 상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 웨이퍼 푸셔에 보관된 웨이퍼를 양측에서 접근하는 방식으로 잡음과 동시에, 웨이퍼의 하부를 지지하므로 웨이퍼의 무게를 3곳에서 분산하여 웨이퍼의 하중에 의한 변형이 최소화되는 장점이 있다.

摘要翻译： 根据如上所述的本发明，通过从两侧接近存储在晶片推动器中的晶片，同时支撑晶片的下部，使得晶片的重量分布在三个位置 并且由于加载导致的晶片的变形被最小化。

公开(公告)号：WO2014003285A1

公开(公告)日：2014-01-03

申请号：PCT/KR2013/001411

申请日：2013-02-22

申请人： 주식회사 엔제닉

发明人： 송병호

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC分类号： H01L21/67769 ,  H01L21/67781

摘要： 이상 상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 웨이퍼를 들어올리는 핑거블럭의 핑거의 상부가 원뿔형상으로 제작되고 하부의 횡단면이 몸통부보다 작게 제작되어 카세트에서 웨이퍼를 들어올리는 과정에서 발생될 수 있는 웨이퍼의 파손을 최소화 할 수 있을 뿐만 아니라, 웨이퍼에서 발생되는 칩이 하부로 원활하게 배출될 수 있는 장점이 있다.

摘要翻译： 根据如上所述的本发明，提升晶片的手指块的手指的上部具有圆锥形状，并且下部的横截面形成为比身体单位更小的尺寸 从而可以最小化晶片从盒中提起晶片时可能引起的损坏，并且可以将在晶片中产生的切屑平滑地排出到下部。