磁场增强装置
    2.
    发明申请
    磁场增强装置 审中-公开

    公开(公告)号:WO2022170751A1

    公开(公告)日:2022-08-18

    申请号:PCT/CN2021/113664

    申请日:2021-08-20

    Abstract: 一种磁场增强装置(20),第一电极层(110)设置于第一表面(101),第二电极层(120)设置于第一表面(101),并位于第一电容区(11),第二电极层(120)与第一电极层(110)位于第一电容区(11)的部分间隔设置,第三电极层(130)设置于第一表面(101),并位于第二电容区(12),第三电极层(130)与第一电极层(110)位于第二电容区(12)的部分间隔设置,第一谐振电容(911)的一端与第二电极层(120)电连接,第一谐振电容(911)的另一端与第一电极层(110)位于第一电容区(11)的部分电连接,相邻两个磁场增强组件(10)的第二电极层(120)与第一电极层(110)位于第一电容区(11)的部分连接,第二谐振电容(921)的一端与第三电极层(130)电连接,第二谐振电容(921)的另一端与第一电极层(110)位于第二电容区(12)的部分电连接,相邻两个磁场增强组件(10)的第三电极层(130)与第一电极层(110)位于第二电容区(12)的部分连接。

    基于超材料的太赫兹二次谐波产生器件和产生方法

    公开(公告)号:WO2022179491A1

    公开(公告)日:2022-09-01

    申请号:PCT/CN2022/077243

    申请日:2022-02-22

    Applicant: 清华大学

    Inventor: 文永正 王陈 周济

    Abstract: 一种基于超材料的太赫兹二次谐波产生器件和产生方法。该器件包括超材料。超材料包括:衬底(3),设置在衬底(3)上的单个谐振单元或者以阵列形式设置在衬底(3)上的多个谐振单元;谐振单元包括场增强结构(1)和耦合结构(2),并且耦合结构(2)处于场增强结构(1)的局域磁场增强的位置和/或局域电场增强的位置。结构紧凑,设计自由度高,可在室温下产生太赫兹二次谐波,并可与现有微纳加工工艺兼容。

Patent Agency Ranking