발광 소자 제조용 템플릿 및 자외선 발광 소자 제조 방법
    1.
    发明申请
    발광 소자 제조용 템플릿 및 자외선 발광 소자 제조 방법 审中-公开
    用于制造发光装置的模板和用于制造超紫外线发光装置的方法

    公开(公告)号:WO2015016507A1

    公开(公告)日:2015-02-05

    申请号:PCT/KR2014/006452

    申请日:2014-07-16

    IPC分类号: H01L33/04 H01L33/12 H01L33/02

    摘要: 발광 소자 제조용 템플릿 및 이를 이용한 발광 소자 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 발광 소자 제조용 템플릿은, 성장 기판, 성장 기판 상에 위치하는 GaN층, GaN층 상에 위치하는 AlN층, AlN층 상에 위치하며, n형 Al x Ga (1-x) N(0<x<1)을 포함하는 제1 n형 반도체층, 및 제1 n형 반도체층 상에 위치하며, Al y a (1-y) N층(0<y<1)/Al z a (1-z) N층(0<z<1)을 포함하는 제2 초격자층을 포함한다. 이에 따라, 상기 템플릿 상에 형성되는 반도체층들의 결정성을 우수하게 할 수 있다.

    摘要翻译: 公开了用于制造发光器件的模板以及使用该发光器件的发光器件的制造方法。 根据本发明的用于制造发光器件的模板包括生长衬底,设置在生长衬底上的GaN层,设置在GaN层上的AlN层,设置在AlN层上的第一n型半导体层, n型Al x Ga(1-x)N(0

    기판 재생 방법 및 재생 기판
    2.
    发明申请
    기판 재생 방법 및 재생 기판 审中-公开
    基板再生方法和再生基板

    公开(公告)号:WO2014196759A1

    公开(公告)日:2014-12-11

    申请号:PCT/KR2014/004717

    申请日:2014-05-27

    IPC分类号: H01L21/20 H01L33/12 H01L33/22

    摘要: 기판 재생 방법 및 재생 기판이 개시된다. 이 기판 재생 방법은, 에피층으로부터 분리된 표면을 갖는 기판을 준비하는 것을 포함한다. 분리된 표면은 돌출부와 오목부를 포함하고, 돌출부는 오목부에 비해 상대적으로 평탄하다. 분리된 표면 상에 결정성 복원층이 성장된다. 결정성 복원층은 돌출부에서 성장된다. 나아가, 결정성 복원층 상에 연속적인 표면을 갖도록 표면 거칠기 향상층이 성장된다. 이에 따라, 물리적인 연마나 화학적인 식각 기술을 이용하지 않으면서 평탄한 표면을 갖는 재생 기판을 제공할 수 있다.

    摘要翻译: 公开了基板再生方法和再生基板。 基板再生方法包括制备具有与外延层分离的表面的基板。 分离面包括凸部和凹部,凸部比凹部比较平坦。 在分离的表面上生长晶体恢复层。 晶体恢复层在凸部上生长。 此外,在结晶恢复层上生长表面粗糙度改善层,从而提供连续的表面。 因此,可以提供具有平坦表面的再生基板,而不使用物理抛光或化学蚀刻技术。