一种LED发光装置
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2019100992A1

    公开(公告)日:2019-05-31

    申请号:PCT/CN2018/115469

    申请日:2018-11-14

    CPC classification number: H01L23/60 H01L33/48

    Abstract: 本实用新型公开了一种LED发光装置,包括:具有凹槽的基板;LED芯片和抗静电元件安装于所述凹槽内,所述基板的上表面具有一导电层,并通过一间隙将所其分成至少两个电性隔离的区域,所述间隙具有至少一个拐角从而将所述间隙分成相连但不在同一直线上的的第一段和第二段,所述第述LED芯片安装于间隙的第一段上,所述抗静电元件安装于间隙的第二段上。

    반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법
    4.
    发明申请
    반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법 审中-公开
    半导体封装的电磁波屏蔽膜形成装置和半导体封装的电磁波屏蔽膜形成方法

    公开(公告)号:WO2017164566A1

    公开(公告)日:2017-09-28

    申请号:PCT/KR2017/002876

    申请日:2017-03-17

    Inventor: 홍승민 김건희

    Abstract: 본 발명은 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 점성 용액을 반도체 부품과 같은 자재의 정확한 영역에 정확한 용량으로 도포하는 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법은, 점성 용액의 도포량을 정확하게 조절하는 것이 가능하고 점성 용액의 도포 영역을 미세하게 조절하는 것이 가능한 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 장치 및 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법을 제공하는 효과가 있다.

    Abstract translation:

    本发明被应用到上形成电磁屏蔽膜形成装置和在半导体封装的半导体封装的方法中的电磁屏蔽膜,并且更具体地涉及一种粘性溶液在正确的剂量在材料的右侧区域,诸如半导体元件, 以及形成半导体封装的电磁波屏蔽膜的方法。 电磁屏蔽膜形成装置和半导体封装件,在本发明的半导体封装的电磁屏蔽膜形成方法,精确地控制粘稠溶液的涂布量是可能的,和精细调节与所述电磁波屏蔽膜形成装置的粘稠溶液施用区域的能力的半导体封装 以及形成半导体封装的电磁波屏蔽膜的方法。

    포켓을 이용한 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법
    7.
    发明申请
    포켓을 이용한 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법 审中-公开
    使用POCKET形成半导体封装电磁波屏蔽膜的方法

    公开(公告)号:WO2016175365A1

    公开(公告)日:2016-11-03

    申请号:PCT/KR2015/004829

    申请日:2015-05-14

    CPC classification number: H01L23/60 H01L2224/16

    Abstract: 본 발명은 포켓을 이용한 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 반도체 패키지의 전자파 차폐막 형성방법에 있어서, 반도체 패키지의 외관 구조를 확인하는 A단계; 상기 A단계에서 확인된 상기 반도체 패키지를 로딩하여 부착하고 이송하기 위한 트레이(Tray)를 준비하는 B단계; 상기 B단계에서 준비된 상기 트레이의 상면(Top Side)에 점착재를 마련하는 C단계; 상기 C단계에서 마련된 상기 점착재의 상면에 포켓(pocket)을 형성시키기 위한 스탬프(Stamp)를 준비하는 D단계; 상기 D단계에서 준비된 상기 스탬프를 이용하여 상기 점착재의 상면에 포켓을 형성시키는 E단계; 및 상기 A단계에서 외관 구조가 확인된 상기 반도체 패키지를 로딩(Loading)수단을 통해 상기 포켓에 로딩시키는 F단계를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及通过使用袋形成半导体封装的电磁波屏蔽膜的方法,根据本发明,形成半导体封装的电磁波屏蔽膜的方法包括:检查步骤A 半导体封装的外部结构; 制备用于装载,附接和输送在步骤A中确认的半导体封装的托盘的步骤B; 在步骤B中制备的托盘的顶侧制备压敏粘合剂的步骤C; 制备在步骤C中制备的压敏粘合剂的顶侧上形成口袋的印模的步骤D; 通过使用在步骤D中制备的印模在压敏粘合剂的顶侧上形成袋的步骤E; 以及步骤F,其通过加载装置将已经在步骤A中确认了外部结构的半导体封装装入口袋。

    OBERFLÄCHENMONTIERBARES HALBLEITERBAUELEMENT UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
    9.
    发明申请
    OBERFLÄCHENMONTIERBARES HALBLEITERBAUELEMENT UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG 审中-公开
    表面贴装半导体元件和方法

    公开(公告)号:WO2015189216A1

    公开(公告)日:2015-12-17

    申请号:PCT/EP2015/062850

    申请日:2015-06-09

    Abstract: Es wird ein oberflächenmontierbares Halbleiterbauelement, mit einem optoelektronischen Halbleiterchip (10), einer Vielzahl von ersten Kontaktelementen (31), einer Vielzahl von zweiten Kontaktelementen (32), und einem Formkörper (40) angegeben. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Vielzahl von ersten Kontaktelementen (31) mit einer ersten Halbleiterschicht (21) und die Vielzahl von zweiten Kontaktelementen (32) mit einer zweiten Halbleiterschicht (22) des optoelektronischen Halbleiterchips (10) elektrisch leitend verbunden ist; der Formkörper (40) den optoelektronischen Halbleiterchip (10) zumindest teilweise umgibt; das Halbleiterbauelement eine Montagefläche (50) aufweist, die zumindest stellenweise durch eine Oberfläche des Formkörpers (40) gebildet ist; und die Vielzahl von ersten und die Vielzahl von zweiten Kontaktelementen im Bereich der Montagefläche durch den Formkörper hindurchragen. Es wird außerdem ein Verfahren zur Herstellung des oberflächenmontierbaren Halbleiterbauelements angegeben.

    Abstract translation: 公开的是具有的光电子半导体芯片(10),多个第一接触元件(31),多个第二接触元件(32),和一个形主体(40)可表面安装的半导体器件。 根据本发明,提供的是具有含所述光电子半导体芯片的第二半导体层(22)(10)的第一半导体层(21)和多个第二接触元件(32),所述多个第一接触元件(31)电连接; 成型体(40)至少部分地围绕所述光电子半导体芯片(10); 该半导体装置具有至少部分地由成型体的表面的地方(40)形成(50)的安装表面; 并在安装表面的区域中的多个第一和多个第二接触元件通过模制体延伸。 还提供了用于表面安装的半导体器件的制造方法。

    半導体装置
    10.
    发明申请
    半導体装置 审中-公开
    半导体器件

    公开(公告)号:WO2015174531A1

    公开(公告)日:2015-11-19

    申请号:PCT/JP2015/064102

    申请日:2015-05-15

    Abstract:  本発明の半導体装置は、第1導電型のSiC層と、前記SiC層上に選択的に形成された電極と、前記SiC層上に形成され、前記SiC層の端部に設定されたダイシング領域に達している絶縁物とを含み、前記絶縁物は、前記電極の下方に配置された電極下絶縁膜および当該電極下絶縁膜を覆うように配置された有機絶縁層を含み、前記有機絶縁層が前記SiC層に接している区間の距離(A)は40μm以上であり、前記電極下絶縁膜上の前記電極と前記SiC層との横方向の距離(B)は40μm以上である。

    Abstract translation: 根据本发明,半导体器件包括第一导电型SiC层,选择性地形成在SiC层上的电极和形成在SiC层上并延伸到设置在SiC层上的定时区域的绝缘体 SiC层的端部。 绝缘体包括布置在电极下方的电极下绝缘膜和布置成覆盖电极下绝缘膜的有机绝缘层。 有机绝缘层与SiC层接触的间隔的长度(A)为40μm以上,沿着电极和SiC层之间的电极下绝缘层的横向距离(B)为40μm以上。

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