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公开(公告)号：WO2009134031A2
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/KR2009/002015
申请日：2009-04-17
IPC: H01L21/677
CPC classification number: B28D5/0082 , H02N2/02 , H02N2/04
Abstract: 본 발명은 보다 미세한 이동이 가능하고, 강성이 향상된 이송부를 갖는 고강성 듀얼 서보 나노스테이지에 관한 것으로서, 본 발명의 일 형태에 따른 스테이지는, 작업대상물이 놓여지는 작업대, 회전력을 제공하는 모터, 상기 모터에 의해 회전되면서 상기 작업대를 이송시키는 샤프트, 상기 작업대와 치합된 샤프트; 상기 샤프트를 회전시키는 모터, 내부에 상기 샤프트의 일단이 삽입되는 중공이 형성되며, 상기 샤프트와 모터의 사이에 구비되고, 신축함으로써 상기 샤프트를 축방향으로 선형이동시키는 선형이동부, 상기 샤프트가 상기 선형이동부에 의해 이동된 거리만큼 신축하는 신축부를 포함하여 이루어질 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及刚性的双伺服纳米级，其允许更精细的运动并且包括具有改进的刚性的移动平台。 根据本发明的一个方面的舞台包括放置待加工物体的工作平台，提供旋转动力的电动机，在由所述电动机旋转的同时使所述工作平台移动的轴，轴齿轮 所述工作平台和旋转所述轴的电动机。 所述台架还包括直线运动部件，其中形成有所述轴的一端插入的中空部，设置在所述轴和马达之间，所述轴和马达通过伸缩收缩而沿轴向线性移动所述轴; 通过所述线性移动部件使所述轴伸展和收缩相同距离的部分。
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公开(公告)号：WO2017116178A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：PCT/KR2016/015506
申请日：2016-12-29
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: B23Q17/22 , G05B19/401
CPC classification number: B23Q17/22 , G05B19/401
Abstract: 본 발명은 미세가공을 위한 정밀공구 팁을 가공대상물에 접촉시키는 컨텍모듈에 관한 것으로, 상기 가공대상물이 안착되는 제1스테이지 및 상기 제1스테이지와 마주보도록 배치되며 상기 제1스테이지 방향으로 돌출된 상기 정밀공구 팁이 구비된 제2스테이지를 포함하는 스테이지유닛, 상기 정밀공구 팁상에 도포되는 제1도전층을 포함하는 코팅유닛, 적어도 일부가 도전성 물질로 구성되어 상기 제2스테이지상에서 상기 제1스테이지 방향으로 돌출되며 상기 정밀공구 팁과 이격 배치된 제1컨텍부 및 적어도 일부가 도전성 물질로 구성되어 상기 가공대상물과 이격되며 상기 제1스테이지상에서 상기 제2스테이지 방향으로 돌출 형성된 제2컨텍부를 포함하는 컨텍유닛, 상기 제1도전층과 상기 제1컨텍부에 연결되어 전기적 신호가 흐를 수 있도록 하는 제1도전라인 및 상기 제2컨텍부에 연결되어 전기적 신호가 흐를 수 있도록 하는 제2도전라인을 포함하며, 어느 하나에 전기적 신호를 전달하고 감지되는 변화를 통해 상호 접촉여부를 감지하는 감지유닛 및 상기 제2컨텍부에 상기 제1컨텍부와 상기 정밀공구 팁이 연속적으로 접촉하여 이를 통해 상기 제1컨텍부와 상기 정밀공구 팁의 상대위치를 도출하고, 상기 가공대상물에 상기 제1컨텍부의 접촉 후 상기 정밀공구 팁을 상기 상대위치만큼 이동시켜 접촉시키는 제어유닛을 포함하는 컨텍모듈이 개시된다.
Abstract translation:
本发明涉及用于精细处理的精密刀具尖端到物体接触的接触器模块要被处理时，设置为面向所述第一级和其上要处理的对象的第一级安装在所述 的第一涂层单元，以及至少一个部分，其包括施加到第一导电层，所述精密工具台单元到尖端包含具有精密工具的第二阶段tipsang突出台方向由导电性材料，其中的 2，和其中在舞台上的精密刀具尖端与第一接触部分和至少间隔开的部分由导电性材料制成，并且从物体间隔开，以被处理伸入到在第一级中的第二级取向的突出段方向 接触单元，连接到第一导电层和第一接触单元以允许电信号流过; 第一导电线和所述第二接触器单元被连接到并流过第二导电线是电信号，用于检测通过该变化彼此是否接触被传递到的电信号，并且在一个检测单元检测出对 并且第二接触部分连续接触第一接触部分和精密工具尖端，从而导出第一接触部分和精密工具尖端之间的相对位置， 以及通过相对位置移动相对位置而在接触之后移动精密工具尖端的控制单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2017105153A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/KR2016/014872
申请日：2016-12-19
Applicant: 한국생산기술연구원
Abstract: 본 발명은 상온에서 페라이트(ferrite)인 탄소강으로 구성된 모재의 표면에 전자빔을 조사하여 표면을 열처리하는 방법으로서, 상기 모재의 표면에 국부적인 가공영역을 설정하는 가공영역설정단계 및 상기 가공영역에 조사되는 전자빔의 출력을 제어하는 출력제어단계를 포함하며, 상기 출력제어단계는 상기 가공영역 내에서 상기 전자빔에 의해 용융되고 상기 전자빔의 이동에 따라 상기 가공영역으로부터 벗어난 상기 모재의 일부분은, 상기 모재 전체와의 상대적 질량 차이로 인한 열전도에 의해 급속 응고되어 상온에서 안정한 오스테나이트(austenite)로 변태(transformation)될 수 있도록, 상기 모재의 열전도도에 따라 상기 전자빔의 출력을 제어하는 전자빔을 이용한 표면 열처리 방법이 개시된다. 또한, 본 발명에 따른 상기 전자빔을 이용한 표면 열처리 방법을 이용하여, 탄소강의 표면을 열처리할 수 있도록 마련되는 전자빔을 이용한 표면 열처리 장치가 개시된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种通过将电子束照射到由在室温下为铁素体的碳钢构成的基材的表面上来热处理表面的方法， 以及输出控制步骤，控制照射到所述加工区域上的电子束的输出，其中所述输出控制步骤包括：输出控制步骤，用于控制所述电子束的输出， 基材的一部分，迅速被热传导由于总的和基体材料之间，以在室温下，电子束的按照基材图1的热导率的输出的稳定的奥氏体（奥氏体）的相对质量差被变换（变换）固化。 公开了使用电子束进行控制的表面热处理方法。 此外，公开了一种使用电子束的表面热处理设备，该设备用于通过使用根据本发明的电子束的表面热处理方法来加热碳钢的表面。
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公开(公告)号：WO2013058487A1
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：PCT/KR2012/008031
申请日：2012-10-04
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: B23K15/00
CPC classification number: B23K15/00 , B23K15/002 , B23K15/06 , H01J37/305 , H01J37/3056
Abstract: 본 발명은 전자 및 이온빔을 이용한 피니싱 장치 및 피니싱 방법에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 피처리물이 배치되는 스테이지; 상기 스테이지를 감싸며, 내부가 진공상태를 유지하는 챔버; 상기 챔버 일측에 배치되어 상기 피처리물에 전자빔을 조사하는 전자빔 발생장치; 상기 전자빔이 조사된 상기 피처리물에 이온빔을 조사하여 표면처리하는 이온빔 발생장치를 포함하는 피니싱 장치를 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及使用电子束和离子束的整理装置和方法。 更详细地说，根据本发明的整理装置包括：设置有被加工物的台阶; 围绕舞台并在其中具有真空状态的腔室; 电子束产生装置，设置在所述腔室的一侧以向待处理物体发射电子束; 以及离子束产生装置，其将离子束发射到发射电子束的待处理物体上，以处理被处理物体的表面。
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公开(公告)号：WO2019098807A1
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：PCT/KR2018/014262
申请日：2018-11-20
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: H01J37/302 , B23K15/08 , B23K15/00
CPC classification number: B23K15/00 , B23K15/08 , H01J37/302
Abstract: 본 발명은 전자빔의 안정적인 운전이 가능하고, 보다 미세한 홀의 형성이 가능한 전자빔을 이용한 미세홀 가공장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일 형태에 따르면, 전자빔을 방출하는 전자빔 건, 상기 전자빔 건으로부터 방출된 전자빔이 피가공물을 향하여 진행하는 경로를 형성하는 전자빔 방출관, 상기 전자빔 건으로부터 방출되는 전자빔이 조사되어 가공되는 피가공물이 위치되는 챔버, 상기 피가공물로 조사되는 전자빔과 동축으로 고압가스를 분사하여, 전자빔 조사에 의해 용융된 피가공물의 용융물을 불어내는 고압가스 분사부, 상기 전자빔 건에서 방출되는 전자빔 및 고압가스 분사부에서 분사되는 고압가스가 펄스 형태로 분사되도록 제어하는 제어부를 포함하는 전자빔 가공장치가 제공된다.
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公开(公告)号：WO2019035625A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：PCT/KR2018/009300
申请日：2018-08-14
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: H01J3/02
CPC classification number: H01J3/02
Abstract: 본 발명은 아크의 발생이 억제되고, 전자빔의 집속각의 조절이 가능한 서프레서가 구비된 캐소드 구조의 전자빔 방출장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일 형태에 따르면, 애노드, 상기 애노드와 대향되도록 구비되는 캐소드, 상기 캐소드의 전자빔 방출면으로부터 상기 애노드를 향한 방향으로 이격되게 구비되며, 상기 캐소드와 전기적으로 연결되고, 상기 애노드 측에서 볼 때 전자빔이 방출되는 캐소드의 중앙부위는 노출되도록 개구되며, 상기 캐소드의 테두리 부위는 가려지는 형태로 형성되는 서프레서를 포함하는 서프레서가 구비된 캐소드 구조의 전자빔 방출장치가 개시된다.
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公开(公告)号：WO2016035942A1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：PCT/KR2014/012577
申请日：2014-12-19
Applicant: 한국생산기술연구원
IPC: H01J29/00
CPC classification number: H01J29/84 , H01J29/00 , H01J29/006 , H01J29/04 , H01J37/063 , H01J2229/0069 , H01J2229/4831
Abstract: 본 출원은 아크의 발생이 억제되어 보다 안정적이며 고출력의 작동이 가능한 컨케이브 캐소드 및 홀더가 구비되는 전자빔 방출장치에 관한 것으로서, 본 출원의 일 실시예에 따르면, 전자빔이 방출되는 공간을 형성하는 하우징, 상기 하우징 내 일측에 배치되며, 전자를 방출하는 캐소드, 상기 하우징 내에서 상기 캐소드로부터 타측으로 이격되어 위치되며, 상기 캐소드로부터 방출된 전자를 가속하는 애노드, 상기 캐소드와 상기 하우징 사이를 절연하며, 상기 캐소드를 고정하는 절연홀더를 포함하며, 상기 캐소드는 상기 애노드를 바라보믄 면이 오목하도록 구배가 형성되고, 상기 캐소드의 구배가 형성된 면의 테두리는 라운드지게 형성되는 전자빔 방출장치가 개시된다.
Abstract translation: 本申请涉及具有凹阴极和保持器并且抑制电弧产生以便能够更稳定和更高功率操作的电子束发射装置，并且根据本发明的一个实施例的电子束发射装置 应用包括：用于形成其中发射电子束的空间的壳体; 阴极，其布置在壳体内的一侧并发射电子; 阳极，其被定位成与壳体内的阴极间隔开另一侧，并且加速从阴极发射的电子; 以及用于绝缘阴极和壳体之间的空间并固定阴极的绝缘保持器，其中阴极具有使得面向阳极的表面是凹的梯度，并且具有阴极梯度的表面的边界被圆形地形成 。
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