公开(公告)号：WO2018085950A8

公开(公告)日：2018-05-17

申请号：PCT/CH2017/000095

申请日：2017-11-06

Applicant: CHEMSPEED TECHNOLOGIES AG

Inventor： GUELLER, Rolf ,  MARCOS, Carine ,  NEUGEBAUER, Elisabeth

IPC: B05B7/08 ,  B05D5/06 ,  B05B7/00 ,  B44D3/00 ,  G01J3/00

Abstract: Bei einem Sprühverfahren zur Beschichtung eines Substrats mit einer in einem Gasstrom vemebelten Substanz (F) wird mittels eines Sprühkopfs (20) ein das Substrat (S) beaufschlagender Gasstrom (L) erzeugt. Die Substanz (F) liegt in einem spritzenartigen, mit einer Applikationsspitze ( 14) ausgestatteten Applikationsbehälter (10) vor. Der die Substanz (F) enthaltende Applikationsbehälter (10) wird mit seiner Applikationsspitze ( 14) ausserhalb des Sprühkopfs (20) in einem Abstand zu diesem quer zur Hauptströmungsrichtung des Gasstroms (L) in den Gasstrom (L) eingeführt und die Substanz (F) wird an dieser Stelle aus dem Applikationsbehälter ( 10) in den Gasstrom (L) eingebracht.