公开(公告)号：WO2007037441A1

公开(公告)日：2007-04-05

申请号：PCT/JP2006/319594

申请日：2006-09-29

Applicant: HOYA株式会社 ,  ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド ,  丸茂 吉典 ,  インタノン シータラプルク

Inventor： 丸茂 吉典 ,  インタノン シータラプルク

IPC: G11B5/84 ,  B08B3/08

CPC classification number: G11B5/8404

Abstract: 　浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。 　本発明は、ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が５重量％以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の端面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、３重量％以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は０．１重量％以上とし、フッ素イオンの含有量は１ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。

Abstract translation: 本发明提供了一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法，该方法特别可用于制造在不超过10nm的低悬浮水平悬浮和飞行磁头的磁盘，以及用于生产 利用玻璃基板的磁盘。 制造用于磁盘的玻璃基板的方法包括对玻璃基板进行镜面抛光和洗涤抛光的玻璃基板。 在该方法中，将主要由稀土类氧化物构成的氟含量为5重量％以下的研磨剂供给到玻璃基板上。 研磨布和玻璃基板相对于玻璃基板的端面进行镜面抛光移动。 使抛光的玻璃基板与含有抗坏血酸和氟离子的洗涤液接触，并且不少于3重量％的硫酸溶解并除去抛光剂。 洗涤液中含有的抗坏血酸的浓度为0.1重量％以上，氟离子的含量为1ppm以上且40ppm以下。 至少在用于磁盘的玻璃基板上形成磁性层以制备磁盘。