キャリアおよび当該キャリアを用いた基板の製造方法
    1.
    发明申请
    キャリアおよび当該キャリアを用いた基板の製造方法 审中-公开
    使用载体制造基材的载体和方法

    公开(公告)号:WO2017171052A1

    公开(公告)日:2017-10-05

    申请号:PCT/JP2017/013739

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: B24B7/17 B24B37/28 B24B41/06 G11B5/84 H01L21/304

    Abstract: 【課題】高品質の基板を従来より高い歩留りで得ることができるキャリアおよび当該キャリアを用いた基板の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明にかかるキャリア104は、基板(例えばガラス基板102)を保持するための保持孔122を有する研磨用又は研削用のキャリアであって、キャリアの少なくとも一方の表面の少なくとも一部の領域には、ガラスを主成分とする突起136が複数存在していることを特徴とする。

    Abstract translation: 发明内容本发明要解决的问题:提供一种能够获得比以前更高收率的高质量基板的载体,以及使用该载体制造基板的方法。 根据本发明的载体104是具有用于保持基板(例如,玻璃基板102)的保持孔122的研磨或研磨载体,并且至少一个载体的至少一部分表面 存在以玻璃作为主要成分的多个突起136。

    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム
    2.
    发明申请
    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム 审中-公开
    用于生产用于磁盘的玻璃基板的磁盘用玻璃基板和生产系统的方法

    公开(公告)号:WO2008093584A1

    公开(公告)日:2008-08-07

    申请号:PCT/JP2008/050948

    申请日:2008-01-24

    CPC classification number: B24B9/08 C03C21/002 G11B5/8404

    Abstract:  内径寸法誤差を小さくすることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。  複数のガラス基板102のそれぞれを、複数の化学強化処理槽130のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、化学強化工程前の複数のガラス基板102毎の内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板102の内径の変化量を複数の化学強化処理槽130毎に把握する把握工程と、変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、複数のガラス基板102を決定されたそれぞれの化学強化処理槽130で化学強化する。

    Abstract translation: 用于制造可以降低内径的尺寸误差的用于磁盘的玻璃基板的方法。 用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法是包括使多个玻璃基板(102)中的每一个与化学强化处理液接触的化学强化步骤,所述化学强化处理液体选自多个化学强化处理槽(130)至 从而实现玻璃基板的化学强化,还包括在化学强化工序前测量多个玻璃基板(102)的内径的内径测定工序; 抓取步骤,用于抓取由多个化学强化处理槽(130)中的每个化学强化步骤引起的玻璃基板(102)的内径的变化; 以及组合确定步骤,基于变化,确定进行化学强化的单个化学强化处理槽(130),使得在已经测量了内径的多个玻璃基板的化学强化步骤之后的内径 成为所需的值,其中在化学强化步骤中,通过确定的各个化学强化处理槽(130)进行多个玻璃基板(102)的化学强化。

    磁気ディスク製造支援方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
    3.
    发明申请
    磁気ディスク製造支援方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の梱包体、磁気ディスク用ガラス基板の梱包方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 审中-公开
    磁盘制造支持方法,磁盘制造方法,磁盘盘基板的包装,用于包装磁盘玻璃基板的方法,以及制造磁性盘玻璃基板的方法

    公开(公告)号:WO2009084683A1

    公开(公告)日:2009-07-09

    申请号:PCT/JP2008/073852

    申请日:2008-12-26

    CPC classification number: G11B5/7315 G11B5/8404

    Abstract:  第1および第2の梱包袋210、220で二重に梱包された磁気ディスク用ガラス基板100から製造される磁気ディスク800の製造を支援する磁気ディスク製造支援方法において、第1の梱包袋210を第1の室510で開梱する第1開梱工程と、第2の梱包袋220を第2の室520で開梱する第2開梱工程と、磁気ディスク用ガラス基板100をクリーンルーム530へ搬入する搬入工程と、を含み、第1開梱工程および第2開梱工程では、第2の室520から第1の室510へ向けて気流を流すことを特徴とする。

    Abstract translation: 公开了一种用于从利用第一和第二包装袋(210和220)双重包裹的磁盘玻璃基板(100)支撑制造磁盘(800)的磁盘制造支持方法。 该方法包括用于在第一室(510)中展开第一包装袋(210)的第一展开步骤,用于将第二包装袋(220)展开在第二室(520)中的第二展开步骤,以及用于 将磁盘玻璃基板(100)输送到洁净室(530)中。 该方法的特征在于,在第一展开步骤和第二展开步骤期间,从第二室(520)到第一室(510)建立空气流。

    磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
    5.
    发明申请
    磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 审中-公开
    制造磁盘基板的方法及制造磁盘的方法

    公开(公告)号:WO2016076404A1

    公开(公告)日:2016-05-19

    申请号:PCT/JP2015/081903

    申请日:2015-11-12

    CPC classification number: B24B37/11 B24B37/20 B24B53/00 G11B5/84

    Abstract:  磁気ディスク用基板の製造方法は、一対のスエードタイプの研磨パッドで基板を挟み、前記研磨パッドと前記基板の間に研磨砥粒を含むスラリーを供給して、前記研磨パッドと前記基板を相対的に摺動させることにより、前記基板の両主表面を研磨する研磨処理を含む。前記基板の前記研磨処理前、前記研磨パッドは、前記定盤に設けられた前記研磨パッドの表面にクーラントを供給しながらドレッサと前記研磨パッドを相対的に摺動させることにより、前記研磨パッドの表面を除去するドレス処理が施される。前記ドレス処理では、前記研磨パッドから前記クーラントが奪う熱量は、前記ドレス処理の開始時点よりも終了時点の方が大きくなるように前記クーラントの温度又は単位時間当たりの供給量を制御する。

    Abstract translation: 一种磁盘基板的制造方法,其特征在于,包括:将基板夹在一对绒面型研磨垫之间,对该基板的两个主面进行研磨的抛光工序,在研磨垫和基板之间供给含有磨粒的浆料, 抛光垫和基板相对于彼此。 在研磨基板之前,通过相对于彼此滑动修整器和抛光垫而将抛光垫的表面去除的修整过程施加到抛光垫上,同时向设置在表面板处的抛光垫的表面供应冷却剂 。 在修整过程中,控制冷却剂每单位时间的温度或供应量,使得在终点比抛光垫从冷却剂移除的热量大于在修整过程的起始点。

    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
    6.
    发明申请
    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 审中-公开
    用于制造磁性玻璃的玻璃基板的方法

    公开(公告)号:WO2016052676A1

    公开(公告)日:2016-04-07

    申请号:PCT/JP2015/077870

    申请日:2015-09-30

    CPC classification number: B08B3/04 C03C23/00 G11B5/84

    Abstract:  ガラス基板の主表面において、洗浄シミの発生を抑制する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、前記ガラス基板の表面の洗浄処理と、前記洗浄処理後に行う前記表面の乾燥処理と、を含む。前記洗浄処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第1の液体に、前記ガラス基板を浸漬する第1の液体処理を含み、前記第1の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、水を、3.0重量%以上含む。あるいは、前記乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤と水を含む第2の液体の蒸気中に前記ガラス基板を配して、前記ガラス基板の表面に液滴を形成させながら、前記ガラス基板の液滴の一部を前記ガラス基板から滴下させることを含む。前記第2の液体は、前記水溶性溶剤を主成分として含み、前記水を1.0重量%超含む。

    Abstract translation: 一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法,以便抑制玻璃基板的主表面上的清洁污渍的形成,该方法包括用于清洁玻璃基板的表面的工艺和用于干燥表面的方法 已经进行了清洁处理。 清洗方法包括将玻璃基板浸入含有水的第一液体和沸点低于水的沸点的水溶性溶剂的第一液体方法。 第一液体含有作为主要成分的水溶性溶剂,含有3.0重量%以上的水。 或者,干燥过程包括将玻璃基板设置在第二液体的蒸气中,第二液体含有水和沸点低于水的沸点的水溶性溶剂,并且当液滴形成在 使玻璃基板的玻璃基板上的一些液滴从玻璃基板脱落。 第二液体含有作为主要成分的水溶性溶剂,含有1.0重量%以上的水。

    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク
    7.
    发明申请
    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク 审中-公开
    用于制造用于磁盘的玻璃基板,用于磁盘的玻璃基板,用于制造磁性盘的方法和磁性盘

    公开(公告)号:WO2010029878A1

    公开(公告)日:2010-03-18

    申请号:PCT/JP2009/065312

    申请日:2009-09-02

    CPC classification number: G11B5/8404 G11B5/7315 G11B2220/23

    Abstract:  本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、主表面研磨工程において、ガラス基板の一方の主表面に対して所定の算術平均粗さになるように主表面研磨処理を行い、ガラス基板の他方の主表面に対して前記一方の主表面の算術平均粗さ(Ra)よりも粗く、前記他方の主表面から前記磁気ディスク用ガラス基板を構成する成分の溶出を防止するために十分な粗さになるように前記他方の主表面に対して主表面研磨処理を行うことを特徴とする。

    Abstract translation: 提供一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其中在主表面抛光步骤中,对玻璃基板的一个主表面进行主表面抛光处理,使得主表面具有预定的算术平均粗糙度 并且还对玻璃基板的另一个主表面进行主表面抛光步骤,使得表面的粗糙度高于首先提到的主表面的算术平均粗糙度(Ra),并且足以使 以防止构成玻璃基板的成分被洗脱。

    磁気ディスク用基板および磁気ディスク
    9.
    发明申请
    磁気ディスク用基板および磁気ディスク 审中-公开
    磁盘基板,磁盘和磁盘装置

    公开(公告)号:WO2008102751A1

    公开(公告)日:2008-08-28

    申请号:PCT/JP2008/052710

    申请日:2008-02-19

    CPC classification number: G11B5/7315 G11B5/82

    Abstract:  磁気ディスクを高速回転させてもクラッシュ障害の発生を抑止して信頼性が高く、ロードアンロード方式で起動停止するハードディスクに好適な磁気ディスク用基板、およびこれを用いた磁気ディスクを提供することを目的としている。  本発明にかかる磁気ディスク用基板の代表的な構成は、円板状のガラス基板10であって、略平坦な主表面11と、端面12と、主表面11と端面12との間に形成した面取面13と、主表面11内の周縁に該周縁以外の平坦面に対して隆起または沈降した乖離部とを備え、乖離部の大きさがガラス基板10の全周に亘って略均一であることを特徴とする。

    Abstract translation: 即使当磁盘高速旋转并通过加载/卸载方法启动和停止时,也可以通过抑制碰撞的产生而提供高可靠性的磁盘基板。 还提供了使用该基板的磁盘。 磁盘基板的代表性结构是具有基本上平坦的主表面(11),端面(12),形成在主表面(11)与主表面(11)之间的倒角表面(13))的圆盘状的玻璃基板(10) 所述端面(12)和形成在所述主面(11)的周围的分离部(14)相对于所述周边以外的平面而升高。 分离部分在玻璃基板(10)的整个圆周上具有基本相同的尺寸。

    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
    10.
    发明申请
    磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 审中-公开
    用于制造用于磁盘的玻璃基板和用于生产磁盘的方法

    公开(公告)号:WO2007037441A1

    公开(公告)日:2007-04-05

    申请号:PCT/JP2006/319594

    申请日:2006-09-29

    CPC classification number: G11B5/8404

    Abstract:  浮上量が10nm以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。  本発明は、ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の端面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は0.1重量%以上とし、フッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。

    Abstract translation: 本发明提供了一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法,该方法特别可用于制造在不超过10nm的低悬浮水平悬浮和飞行磁头的磁盘,以及用于生产 利用玻璃基板的磁盘。 制造用于磁盘的玻璃基板的方法包括对玻璃基板进行镜面抛光和洗涤抛光的玻璃基板。 在该方法中,将主要由稀土类氧化物构成的氟含量为5重量%以下的研磨剂供给到玻璃基板上。 研磨布和玻璃基板相对于玻璃基板的端面进行镜面抛光移动。 使抛光的玻璃基板与含有抗坏血酸和氟离子的洗涤液接触,并且不少于3重量%的硫酸溶解并除去抛光剂。 洗涤液中含有的抗坏血酸的浓度为0.1重量%以上,氟离子的含量为1ppm以上且40ppm以下。 至少在用于磁盘的玻璃基板上形成磁性层以制备磁盘。

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