公开(公告)号：WO2022171493A1

公开(公告)日：2022-08-18

申请号：PCT/EP2022/052339

申请日：2022-02-01

Applicant: JENOPTIK OPTICAL SYSTEMS GMBH

Inventor： FASOLD, Dieter ,  SCHUHMANN, Uwe ,  WENDT, Mario

IPC: G01B11/06 ,  C23C14/54 ,  G01N21/17

Abstract: Vorrichtung und Verfahren zum Erfassen einer optischen Eigenschaft eines Werkstücks Der hier vorgestellte Ansatz betrifft Vorrichtung (100) zum Erfassen einer optischen Eigenschaft eines Werkstücks (105). Die Vorrichtung (100) weist eine eingangsseitig fokussierende Spiegeleinrichtung (110) auf, die ausgeformt ist, um Licht (120) von einer Lichtquelle (125) zu einem Aufnahmebereich (130) zum Aufnehmen des Werkstückes (105) zu leiten. Ferner weist die Vorrichtung (100) eine ausgangsseitig fokussierende Spiegeleinrichtung (115) auf, die ausgeformt ist, um das Licht (120) von dem Aufnahmebereich (130) zu einer Erfassungseinrichtung (135) zu leiten.

公开(公告)号：WO2015082070A1

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：PCT/EP2014/003233

申请日：2014-12-04

Applicant: JENOPTIK OPTICAL SYSTEMS GMBH

Inventor： BERNITZKI, Helmut ,  KLAUS, Michael ,  LAUX, Sven ,  SCHUHMANN, Uwe

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3075 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3041 ,  G02B5/3066 ,  G02B27/283

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Polarisationssystem (1) aufweisend folgende Merkmale: - ein erstes Substrat (3) aus einem ersten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten ersten Schichtsystem (3a) und zumindest ein in einem durch eine Strahlquelle gebildeten Strahlengang (2) nachfolgendes zweites Substrat (4) aus einem zweiten Substratmaterial mit einem darauf aufgebrachten zweiten Schichtsystem (4a); - wobei das erste und zweite Schichtsystem einen auf dem Substrat aufgebrachten ersten Stapel (3b, 4b) und einen auf dem ersten Stapel aufgebrachten zweiten Stapel (3c, 4c) umfassen; - wobei der erste Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden oxidischen Schichten umfasst; - wobei der zweite Stapel eine alternierende Reihenfolge von hoch- und niedrigbrechenden fluoridischen Schichten umfasst; - wobei das erste Schichtsystem (3a) einen den Strahlengang (2) bildenden unpolarisierten Strahl (2a), der in einem Winkel Φ, der größer als der Brewsterwinkel für das eingesetzte Substratmaterial ist, auf das Schichtsystem (3a) trifft, in eine erste das Substrat transmittierende und größtenteils polarisierte erste Komponente (2d) und zumindest in eine an dem Schichtsystem (3a) reflektierte und größtenteils polarisierte zweite Komponente (2e) teilt; - wobei das erste Schichtsystem (3a) in seiner Anzahl an oxidischen und fluoridischen Schichten derart ausgelegt ist, dass der Anteil der reflektierten und polarisierten zweiten Komponente (2e) zumindest 90% beträgt; - wobei das zweite Schichtsystem (4a) einen den Strahlengang bildenden Strahl, der einen Anteil der größtenteils polarisierten zweiten Komponente (2e) von zumindest 90% aufweist und auf das Schichtsystem trifft, in eine erste das Substrat transmittierende und größtenteils polarisierte erste Komponente (2d) und zumindest eine an dem Schichtsystem (4a) reflektierte und größtenteils polarisierte zweite Komponente (2e) teilt, wobei der Anteil der größtenteils polarisierten zweiten Komponente nach dem zweiten Schichtsystem größer ist als nach dem ersten Schichtsystem.

Abstract translation: 本发明涉及一种偏振系统（1），包括以下特征： - 第一衬底（3）的第一基体材料的具有施加到其上的第一层系统（3a）和至少一个在由束源光束路径（2）随后的第二基底形成的空间（4 ）（具有施加第二衬底材料在其上的第二层系统4a）; - 其特征在于，沉积在所述衬底上的第一堆叠中的第一和第二层系统（3B，4B），并施加第一堆叠第二堆叠上的粘合剂（图3c，图4c）包括; - 其中，所述第一叠层包括高和低折射率氧化物层的交替序列; - 其中，所述第二叠层包括高和低折射率氟化物层的交替序列; - 其中，形成非偏振光束（2a）的一个光路（2）的所述第一层系统（3a）中，（3a）的取角度Φ，比布儒斯特角的层系统上的基材中使用的材料时，在一第一 透光性基板并在很大程度上偏振第一组分（2D）和至少在一个所述层系统（3a）中的反射和股很大程度上偏振第二部件（2E）; - 其中，所述第一层系统（3a）中在它的数目的氧化物和氟化物层的被配置为使得所述反射和偏振的第二部件的所述部分（2e）的是至少90％; - 其中，所述第二层系统（4a）的包括所述光路具有一个部分，其在很大程度上偏振的第二组分（2e）的至少90％，并且是入射到该层系统上的波束形成，在第一基板透射并在很大程度上偏振的第一组分（2D） 和该层系统的至少一个（4a）和反射的大部分偏振第二部件（2E）被分开，其特征在于，所述第二层系统的主要偏振的第二成分的比例比第一层系统后更大。

公开(公告)号：WO2013013723A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：PCT/EP2011/063027

申请日：2011-07-28

Applicant: JENOPTIK OPTICAL SYSTEMS GMBH ,  GÄBEL, Kai ,  SCHUHMANN, Uwe ,  SCHREINER, Roland

Inventor： GÄBEL, Kai ,  SCHUHMANN, Uwe ,  SCHREINER, Roland

IPC: B23K26/42

CPC classification number: G02B5/003 ,  B23K26/702 ,  B23K37/006

Abstract: Es wird bereitgestellt eine Strahlfalle zur Abschwächung von Strahlung, insbesondere von Laserstrahlung, mit einer Kühlzelle (4), die einen Fluideingang (14), einen Fluidausgang (15) und einen Innenraum (6) mit einem für die Strahlung transparenten Eintrittsfenster (8) sowie einer dem Eintrittsfenster (8) gegenüberliegenden ersten Wandung (18), die für die Strahlung reflektiv ist, aufweist, und einem Fluidmodul (5), das dem Innenraum (6) über den Fluideingang (14) Fluid zuführt, das durch den Innenraum (6) läuft und diesen über den Fluidausgang (15) verläßt, wobei die in einer vorbestimmten Eintrittsrichtung durch das Eintrittsfenster (8) in den Innenraum (6) gelangende Strahlung zur Abschwächung durch das Fluid läuft, an der ersten Wandung (18) reflektiert wird und zur weiteren Abschwächung erneut durch das Fluid läuft.

Abstract translation: 提供了一种光束收集器，用于衰减辐射，尤其是激光辐射，用冷却单元（4），其具有流体入口（14），流体出口（15）和内部（6），其具有透明的辐射入射窗（8）和 的输入窗口（8）的第一壁（18）相对的是反射的辐射的，和流体模块（5）中，使得内部空间（6）经由流体输入端（14），其（通过内部空间6供给流体 ）中运行，这（经由流体出口15）退出时，所述（在通过入口窗8项的规定方向）（在内部6）经流体通过到达辐射到衰减，（第一壁18）被反射，并 进一步削弱再次通过流体。