公开(公告)号：WO2017167690A1

公开(公告)日：2017-10-05

申请号：PCT/EP2017/057195

申请日：2017-03-27

申请人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.

发明人： MISUMI, Motoki ,  YOKOYAMA, Daishi ,  TANIGUCHI, Katsuto ,  KUZAWA, Masahiro

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757

摘要： [Object] To provide a negative type photosensitive composition developable with a low concentration alkali developer and capable of forming a cured film excellent in transparency, in chemical resistance and in environmental durability; and further to provide a pattern-formation method employing the composition. [Means] The present invention provides a negative type photosensitive composition comprising : (I) an alkali-soluble resin, namely, a polymer comprising a carboxyl-containing polymerization unit and an alkoxysilyl-containing polymerization unit, (II) a polysiloxane, (III) a compound having two or more (meth)acryloyloxy groups, (IV) (i) a silicone derivative having a particular structure and/or (ii) a compound having two or more epoxy groups, (V) a polymerization initiator, and (VI) a solvent.

摘要翻译： 本发明提供一种可用低浓度碱性显影剂显影并且能够形成透明性，耐化学性和环境耐久性优异的固化膜的负型感光性组合物。 并进一步提供使用该组合物的图案形成方法。 [方法]本发明提供一种负型感光组合物，其包含：（I）碱溶性树脂，即包含含羧基聚合单元和含烷氧基甲硅烷基的聚合单元的聚合物，（II）聚硅氧烷，（III） ）具有2个以上（甲基）丙烯酰氧基的化合物，（IV）（i）具有特定结构的有机硅衍生物和/或（ii）具有2个以上环氧基的化合物，（V）聚合引发剂， VI）溶剂。

公开(公告)号：WO2017108778A1

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：PCT/EP2016/081903

申请日：2016-12-20

申请人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À.R.L.

发明人： CHEN, Chunwei ,  LIU, Weihong ,  LU, PingHung

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/095 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/322

摘要： A composition crosslinkable by broad band UV radiation, which after cross- linking is capable of cold ablation by a UV Excimer Laser emitting between 222 nm and 308 nm, where the composition is comprised of a negative tone resist developable in aqueous base comprising and is also comprised of a conjugated aryl additive absorbing ultraviolet radiation strongly in a range between from about 220 nm to about 310 nm. The present invention also encompasses a process comprising steps a), b) and c) a) coating the composition of claim 1 on a substrate; b) cross-linking the entire coating by irradiation with broadband UV exposure; c) forming a pattern in the cross-linked coating by cold laser ablating with a UV excimer laser emitting between 222 nm and 308 nm. Finally the present invention also encompasses The present invention also encompasses a process comprising steps a'), b') c') and d') a) coating the composition of claim 1 on a substrate; b) cross-linking part of the coating by irradiation with broadband UV exposure through a mask; c) developing the coating with aqueous base removing the unexposed areas of the film, thereby forming a first pattern; d) forming a second pattern in the first pattern by laser cold laser ablating of the first pattern with a UV excimer laser emitting between 222 nm and 308 nm.

摘要翻译： 通过宽带UV辐射可交联的组合物，其在交联后能够通过在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光进行冷烧蚀，其中组合物由负性抗蚀剂组成 其在水性基质中是可展开的，其包含并且还包含吸收强度在约220nm至约310nm范围内的紫外辐射的共轭芳基添加剂。 本发明还包括包含步骤a），b）和c）的方法a）将权利要求1的组合物涂布在基材上; b）通过辐照宽带紫外线照射使整个涂层交联; c）通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光器的冷激光烧蚀在交联涂层中形成图案。 最后，本发明还包括本发明还包括包含步骤a'），b'）c'）和d'）的方法a）将权利要求1的组合物涂布在基材上; b）通过掩模通过用宽带紫外线照射的辐照交联部分涂层; c）用水性基底显影除去膜的未曝光区域的涂层，由此形成第一图案; d）通过用在222nm和308nm之间发射的UV准分子激光器的激光冷激光烧蚀第一图案，在第一图案中形成第二图案。

公开(公告)号：WO2016175220A1

公开(公告)日：2016-11-03

申请号：PCT/JP2016/063131

申请日：2016-04-27

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 増田　誠也 ,  加持　義貴 ,  中村　敦

IPC分类号： B32B27/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC分类号： H01L51/0018 ,  B32B27/30 ,  B32B2309/105 ,  B32B2457/14 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/281 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/325 ,  H01L51/50

摘要： 有機半導体膜、水溶性樹脂層および感光性樹脂層を有する積層体であって、クラックが発生しにくい積層体、ならびに、キットの提供。　有機半導体膜上に、水溶性樹脂を含む水溶性樹脂層と感光性樹脂を含む感光性樹脂層とをこの順に含み、かつ、水溶性樹脂層と感光性樹脂層が隣接しており、水溶性樹脂は、重量平均分子量３００，０００以上のポリビニルピロリドンおよび重量平均分子量１５，０００以上のポリビニルアルコールの少なくとも１種であり、感光性樹脂は、重量平均分子量が３０，０００以上である、積層体。

摘要翻译： 提供：具有有机半导体膜，水溶性树脂层和感光性树脂层的层叠体，其中不容易形成裂纹; 和一个工具包。 该层压体包括在有机半导体膜上依次设置有包含水溶性树脂的水溶性树脂层和包含感光性树脂的感光性树脂层。 水溶性树脂层和感光性树脂层相邻。 水溶性树脂是重均分子量至少为300,000的聚乙烯吡咯烷酮和至少一种重均分子量至少为15,000的聚乙烯醇。 光敏树脂的重均分子量至少为30,000。

公开(公告)号：WO2016052493A1

公开(公告)日：2016-04-07

申请号：PCT/JP2015/077485

申请日：2015-09-29

申请人： 学校法人東京理科大学 ,  日本化薬株式会社

发明人： 有光　晃二 ,  寺田　究

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0385 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： （Ａ）光塩基発生剤と、（Ｂ）アルカリ可溶性エポキシ化合物とを含む感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）光塩基発生剤が下記式（２－１）： で表される化合物を含み、前記（Ｂ）アルカリ可溶性エポキシ化合物が、（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と（ｂ）１分子中に少なくとも１個以上の水酸基及び１個のカルボキシル基を有する化合物との反応物に、（ｃ）多塩基酸無水物を反応させて得られるエポキシ化合物である感光性樹脂組成物。

摘要翻译： 本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有（A）光碱生成剂和（B）碱溶性环氧化合物，其中，所述光碱产生剂（A）含有式（2-1）表示的化合物和碱溶性环氧化合物 （B）是通过（c）多元酸酐与（a）在分子中具有两个以上环氧基的环氧化合物的反应的产物与（b）具有一个或多个羟基的化合物反应得到的环氧化合物 基团和一个羧基。

公开(公告)号：WO2016038476A1

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：PCT/IB2015/055621

申请日：2015-07-24

申请人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION ,  SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD ,  IBM UNITED KINGDOM LIMITED ,  IBM JAPAN LIMITED

发明人： SOORIYAKUMARAN, Ratnam ,  SUNDBERG, Linda, Karin ,  SANCHEZ, Martha, Inez ,  BOZANO, Luisa, Dominica ,  SANDERS, Daniel, Paul ,  WATANABE, Satoshi ,  MASUNAGA, Keiichi ,  DOMON, Daisuke ,  KAWAI, Yoshio

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/322 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/382

摘要： A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer covalently bound to a photoacid-generating moiety, where the composition is substantially free of cross-linking agents. Multifunctional polymers useful in conjunction with the resist composition are also provided, as is a process for generating a resist image on a substrate using the present compositions and polymers.

摘要翻译： 提供了一种负色调抗蚀剂组合物，其包含游离的光致酸产生剂和共价结合于产生光致酸的部分的多官能聚合物，其中组合物基本上不含交联剂。 还提供了与抗蚀剂组合物结合使用的多官能聚合物，以及使用本发明组合物和聚合物在基材上产生抗蚀剂图像的方法。

公开(公告)号：WO2015165786A1

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：PCT/EP2015/058704

申请日：2015-04-22

申请人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À.R.L.

发明人： RAHMAN, M. Dalil ,  KUDO, Takanori ,  DIOSES, Alberto D. ,  MCKENZIE, Douglas ,  ANYADIEGWU, Clement ,  PADMANABAN, Munirathna ,  MULLEN, Salem K.

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G2261/3142 ,  C09D165/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/094 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/30 ,  H01L21/0276

摘要： The present invention relates to a novel absorbing antireflective coating composition comprising a novel crosslinkable polymer comprising at least one repeat unit (A) having structure (1), at least one repeat unit (B) having a structure (2), and at least one repeat unit (C) having structure (3) where D is a direct valence bound or C(R 1 )(R 2 ) methylene moiety where R 1 and R 2 are independently H, C 1 -C 8 alkyl, C 3 -C 24 cycloalkyl or C 6 -C 24 aryl; Ar i , Ar ii , Ar iii and Ar iv are independently phenylenic and naphthalenic moiety, R 3 and R 4 are independently hydrogen or C 1 -C 8 alkyl; and R 5 and R 6 are independently hydrogen or C 1 -C 8 alkyl; and a solvent. The invention also relates to a process for forming an image using the novel antireflective coating composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种新颖的吸收抗反射涂料组合物，其包含新型可交联聚合物，其包含至少一种具有结构（1）的重复单元（A），至少一种具有结构（2）的重复单元（B）和至少一种 具有结构（3）的重复单元（C），其中D是直接键合键或C（R1）（R2）亚甲基部分，其中R1和R2独立地为H，C1-C8烷基，C3-C24环烷基或C6-C24芳基; Ari，Ari​​i，Ari​​ii和Ariv独立地是苯基和萘基，R3和R4独立地是氢或C1-C8烷基; 且R 5和R 6独立地为氢或C 1 -C 8烷基; 和溶剂。 本发明还涉及使用新型抗反射涂料组合物形成图像的方法。

公开(公告)号：WO2015146053A1

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：PCT/JP2015/001406

申请日：2015-03-13

申请人： サンアプロ株式会社

发明人： 岡　昌明 ,  木村　秀基 ,  池田　卓也

IPC分类号： C07D223/18 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07D223/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： ｉ線に高い光感度を有し、耐熱安定性に優れ、疎水性材料への溶解性に優れるイミドスルホネート化合物を含有する非イオン系光酸発生剤及びこれを含むフォトリソグラフィー用樹脂組成物を提供する。本発明は、一般式（１）で表されることを特徴とするイミドスルホネート化合物である。 ［式（１）中、Ｒ１～Ｒ８互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１８のアルキル基もしくは炭素数１～１８のフルオロアルキル基等を表す。Ｒ１～Ｒ８の少なくとも２つが互いに結合し環構造を形成しても良い。Ｒ９は置換基を有しても良い炭素数１～１８の炭化水素基（水素の一部又は全部がフッ素で置換されていてよい）を表す。］

摘要翻译： 提供：含有酰亚胺磺酸盐化合物的非离子型光酸产生剂，其对i线具有高的光敏性，优异的热稳定性和在疏水性材料中的优异的溶解性; 以及包括其的光刻用树脂组合物。 本发明是由通式（1）表示的酰亚胺磺酸盐化合物。 [式（1）中，R 1〜R 8各自独立地为氢原子，卤素原子，碳原子数1〜18的烷基，碳原子数1〜18的氟代烷基等。R 1〜R 8中的至少2个 可以结合形成环结构。 R9是具有1至18个碳原子的烃基，其可以具有取代基（部分或全部氢可以被氟取代）。

公开(公告)号：WO2015109827A1

公开(公告)日：2015-07-30

申请号：PCT/CN2014/084519

申请日：2014-08-15

申请人： 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 汪建国 ,  胡合合

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

摘要： 一种负性光刻胶及其制备方法和使用方法，其中该光刻胶包括：按照重量配比，1∼90份的含羟基或羧基的成膜树脂，1∼99份的含硅乙烯基醚化合物、0.5∼15份的交联剂和能够溶解上述物质的有机溶剂。该光刻胶无需单独合成含硅聚合物成膜树脂，节约了成本，更容易实现。

公开(公告)号：WO2015033960A1

公开(公告)日：2015-03-12

申请号：PCT/JP2014/073197

申请日：2014-09-03

申请人： 三菱レイヨン株式会社

发明人： 安田　敦 ,  中条　美帆

IPC分类号： C08F220/28 ,  C08F2/00 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F220/68 ,  C08F2/00 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/281

摘要： 濁度度Ｔｈ（８０）が、１．０以上、４．６ＮＴＵ以下であり、濁度Ｔｍ（８０）が、１．０以上、３．８ＮＴＵ以下である、リソグラフィー用共重合体であって、この濁度度Ｔｈ（８０）は、リソグラフィー用共重合体の含有量がＰＧＭＥＡ溶液の総質量に対して２０ｗｔ％であるこのＰＧＭＥＡ溶液に、ｎ－ヘプタンを添加した際の濁度が１０ＮＴＵになるｎ－ヘプタン添加量を（Ｘ）ｈとし、この（Ｘ）ｈの８０％の量のｎ－ヘプタンをこのＰＧＭＥＡ溶液に添加した際の、このＰＧＭＥＡ溶液の濁度であり；この濁度Ｔｍは、このリソグラフィー用共重合体の含有量がＰＧＭＥＡ溶液の総質量に対して２０ｗｔ％であるＰＧＭＥＡ溶液に、メタノールを添加した際の濁度が５．０ＮＴＵになるメタノール添加量を（Ｘ）ｍとし、この（Ｘ）ｍの８０％の量のメタノールを、このＰＧＭＥＡ溶液に添加した際の、このＰＧＭＥＡ溶液の濁度である。

摘要翻译： 提供了一种其中浊度Th（80）为1.0-4.6NTU，浊度Tm（80）为1.0-3.8NTU的光刻用共聚物。 浊度Th（80）是PGMEA溶液的浊度，其当相对于PGMEA溶液的总质量含有20重量％的用于光刻的共聚物时，当导致浊度为10NTU的正庚烷添加量时， 加入正庚烷表示为（X）h，并且对应于（X）h的80％的正庚烷的量加入到PGMEA溶液中。 浊度Tm是当添加甲醇时导致浑浊度为5.0NTU的甲醇添加量时，相对于PGMEA溶液的总质量，含有20重量％平版印刷用共聚物的PGMEA溶液的浊度由 （X）m，相应于（X）m的80％的甲醇的量加入到PGMEA溶液中。

公开(公告)号：WO2015015984A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：PCT/JP2014/067442

申请日：2014-06-30

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 平野　修史 ,  滝沢　裕雄

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325

摘要： 　下記一般式（Ａｂ１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ａｂ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、前記膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像を行い、ネガ型パターンを形成する工程（４）をこの順序で含むパターン形成方法により、高感度、孤立ラインパターン形成時における高い解像力、良好なパターン形状、並びに、高いドライエッチング耐性を同時に満足するパターン形成方法、これに供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。　一般式（Ａｂ１）中、　Ｒ'は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。　Ｌ １ は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ １ とＡｒ １ とが連結して環を形成しても良く、その場合、Ｌ １ はアルキレン基又はカルボニル基を表す。　Ａｒ １ は（ｐ＋ｑ＋１）価の芳香環基を表す。　Ｌは（ｍ＋１）価の連結基を表す。　Ｓ １ は有機基を表す。　（ＯＲ １ ）は、酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基を表す。　Ｓ １ 、Ｌ及びＲ 1 が複数存在する場合、複数のＳ １ 、Ｌ及びＲ 1 は、それぞれ同一であっても異なっていても良く、複数のＲ １ は互いに結合して環を形成してもよい。　ｍは１以上の整数を表す。　ｐは１以上の整数を表し、ｑは０以上の整数を表す。

摘要翻译： 图案形成方法依次包括使用含有具有下述通式（Ab1）表示的重复单元的树脂（Ab）的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物形成膜的方法（1） ，用于曝光该膜的方法（2）和用于通过在曝光后用含有机溶剂的显影剂显影来形成负型图案的工艺（4）。 由此，能够同时满足高灵敏度，高分辨率的形成隔离线图案，良好的图案形状和高耐干蚀刻性的图案形成方法，用于图案形成的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜 方法，以及制造使用该电子装置的电子装置和电子装置的方法。 [化学式1]在通式（Ab1）中，R'表示氢原子，烷基或卤素原子; L1表示氢原子或烷基，L1和Ar1可以相互结合形成环，其中L1表示亚烷基或羰基; Ar1表示（p + q + 1）的化合价的芳环基; L表示价（m + 1）的连接基团。 S1表示有机基团; （OR1）表示被酸溶解以产生醇羟基的基团; 当存在多个S1，Ls和R1时，多个S1，Ls和R1可以分别相同或不同，并且多个R1可以键合在一起形成环; m表示1以上的整数， p表示1以上的整数， q表示0以上的整数。