公开(公告)号：WO2008016032A1

公开(公告)日：2008-02-07

申请号：PCT/JP2007/064943

申请日：2007-07-31

Applicant: JSR株式会社 ,  小野 勝之 ,  原田 宗生 ,  奥村 勝弥 ,  三原 誠 ,  吉岡 睦彦 ,  稗田 克彦

Inventor： 小野 勝之 ,  原田 宗生 ,  奥村 勝弥 ,  三原 誠 ,  吉岡 睦彦 ,  稗田 克彦

IPC: G01N33/543 ,  G01N37/00

CPC classification number: G01N33/552

Abstract: ［課題］　フィルターの強度、耐久性を向上し、製造工程においても、フィルターの破損損傷がなく歩留まりが向上し、コストを低減することが可能なバイオチップ用フィルター、およびバイオチップ用フィルターの製造方法、ならびにバイオチップ用フィルターを用いたバイオチップを提供する。 ［解決手段］　基板部を構成するシリコンなどの金属基板からなるフィルター本体と、フィルター本体に設けられた凹部を形成するウェルと、ウェルの底面を構成し、複数の貫通した細孔が形成されたフィルターが設けられたバイオチップ用フィルターであって、フィルターが、シリコンなどの金属から形成されている。

Abstract translation: 本发明提供一种用于生物芯片的过滤器，其具有改善的过滤强度和耐久性，提高产量而不会产生过滤器破裂和制造过程中的损坏，并降低了成本。一种用于生物芯片的过滤器的制造方法和使用生物芯片的过滤器的生物芯片 也提供。 用于生物芯片的过滤器设置有过滤器主体，该过滤器主体由构成衬底部分的金属衬底构成，并由硅等制成; 一个在过滤器主体上形成凹陷部分的孔; 以及构成井的底面并具有多个贯通孔的过滤器的过滤器。 过滤器由诸如硅的金属形成。

公开(公告)号：WO2006129458A1

公开(公告)日：2006-12-07

申请号：PCT/JP2006/309483

申请日：2006-05-11

Applicant: JSR株式会社 ,  稗田 克彦

Inventor： 稗田 克彦

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/02 ,  B05C11/08 ,  H01L21/301 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L2221/6834

Abstract: A wafer (100) with a fixing agent, having a supporting wafer (1) and the fixing agent (2) arranged on the surface of the supporting wafer (1). The wafer (100) further has an infiltration preventive structure (3) arranged at an edge section of the supporting wafer (1). The fixing agent (2) is arranged in a recess formed by the supporting wafer (1) and the infiltration preventive structure (3). When the supporting wafer (1) and a wafer to be processed are bonded and fixed, the fixing agent (2) is prevented from projecting and contaminating the work environment, and further, a liquid substance can be prevented from infiltrating between the supporting wafer (1) and the wafer to be processed.

Abstract translation: 具有固定剂的晶片（100）具有支撑晶片（1）和配置在支撑晶片（1）的表面上的固定剂（2）。 晶片（100）还具有布置在支撑晶片（1）的边缘部分处的防渗结构（3）。 固定剂（2）布置在由支撑晶片（1）和防渗透结构（3）形成的凹部中。 当支撑晶片（1）和待处理的晶片被接合并固定时，可以防止定影剂（2）投射和污染工作环境，此外，可以防止液体物质渗入支撑晶片（ 1）和要处理的晶片。

公开(公告)号：WO2006080250A1

公开(公告)日：2006-08-03

申请号：PCT/JP2006/300840

申请日：2006-01-20

Applicant: JSR株式会社 ,  古川 泰一 ,  稗田 克彦 ,  宮松 隆 ,  王 勇 ,  山田 欣司

Inventor： 古川 泰一 ,  稗田 克彦 ,  宮松 隆 ,  王 勇 ,  山田 欣司

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 　投影光学手段１２１の光学素子と基板１１１との間に満たされた液体３０１を介して露光を行う液浸型露光システム１である。この液浸型露光システム１は、液体３０１の供給をする液体供給部８０と、その液体供給部８０から供給をされた液体３０１（３０１ｂ）が所定方向に沿って連続的に導入をされ投影光学手段１２１の光学素子と基板１１１との間を液体３０１で満たしながら露光を行う露光処理部１１０と、その露光処理部１１０の基板１１１を挟んだ対称の位置において排出をされた液体３０１（３０１ａ）の回収をする液体回収部９０と、液体回収部９０で回収をされた液体３０１（３０１ｃ）の再生をする液体リサイクル部２０と、を有する。液浸法を適用した場合に、液浸型露光用液体の性質を安定させることが出来、良好な露光を継続的に行うことが可能であり、且つランニングコストを抑えることが出来る。

Abstract translation: 公开了一种浸渍曝光系统（1），其中通过填充投影光学装置（121）的光学装置和基板（111）之间的空间的液体（301）进行曝光。 该浸渍曝光系统（1）包括用于供应液体（301）的液体供应部分（80），在填充投影光学装置（121）的光学装置之间的空间的同时进行曝光的曝光处理部分（110） 和从液体供给部（80）供给的液体（301（301b））沿预定方向连续引入液体（301）的基板（111），用于回收排出液体的液体回收部（90） （101a）的与曝光处理部（110）相反的位置处的液体再循环部（301a）），以及用于再循环由液体回收部（90）回收的液体（301（301c））的液体再循环部， 。 利用该系统，能够稳定浸渍曝光用液体的品质，能够在抑制运转成本的同时持续进行良好的曝光。