VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN UND/ODER ZUM ABTRAGEN VON MATERIAL MITTELS PECVD/CDE
    1.
    发明申请
    VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN UND/ODER ZUM ABTRAGEN VON MATERIAL MITTELS PECVD/CDE 审中-公开
    DEVICE AND METHOD FOR涂层和/或材料的脱除PECVD / CDE

    公开(公告)号:WO2012164050A1

    公开(公告)日:2012-12-06

    申请号:PCT/EP2012/060318

    申请日:2012-05-31

    Inventor: REINER, Dirk

    Abstract: Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung (10) zum Beschichten zumindest eines Oberflächenbereichs (28) und/oder zum Abtragen von Material aus zumindest einem Oberflächenbereich (28) eines beliebig geformten Werkstücks (22) mittels plasmagestützter chemischer Gasphasenabscheidung, mit einer Kammer (14), die eine Hochfrequenz-Elektrode (22), eine Referenz-Elektrode (29) und eine elektrisch leitfähige Werkstückhalterung (24) aufweist und mit einer Schaltungsanordnung (30) zum Einspeisen von Hochfrequenz, die zumindest einen Hochfrequenz-Generator (32) und Hochfrequenzleitungspfade (36, 38, 40) aufweist, wobei der Hochfrequenz-Generator (32) über Hochfrequenzleitungspfade (36, 38, 40) mit an voneinander räumlich getrennten Einspeise-Stellen (42, 44, 46) der Hochfrequenz- Elektrode (22) angeschlossen ist. Es ist vorgesehen, dass die Hochfrequenz-Elektrode (22) mit der Mehrzahl von Einspeise- Stellen (42, 44, 46) elektrisch leitend mit der Werkstückhalterung (24) verbunden ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于涂料的至少一个表面区域上的装置(10)(28)和/或用于由等离子体增强化学气相沉积法从任意形状的工件(22)的至少一个表面区域(28)去除材料,包括:腔室(14), 和所述高频电极(22),参比电极(29)和导电的工件支承件(24)的电路装置(30),用于耦合射频(至少一个高频发生器(32)和高频导电路径36 ,38,40),其特征在于,通过高频电极(22)的高频导电路径(36,38,40),其具有间隔开的馈入点(42,44在空间上分离,46)的高频发生器(32)相连。 可以设想,在高频电极(22)与所述多个馈入点(42,44,46)电传导地连接到所述工件保持器(24)。

Patent Agency Ranking