公开(公告)号：WO2017005554A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：PCT/EP2016/065033

申请日：2016-06-28

Applicant: TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.

Inventor： FAYET, Pierre ,  LARRIEU, Jerome ,  PILEMALM, Marcus

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3211 ,  B32B7/12 ,  B32B27/08 ,  B32B27/10 ,  B32B27/306 ,  B32B27/32 ,  B32B27/325 ,  B32B27/34 ,  B32B27/36 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/20 ,  B32B2307/31 ,  B32B2307/514 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2307/7246 ,  B32B2307/7248 ,  B32B2439/62 ,  B32B2439/70 ,  C23C16/26 ,  C23C16/505 ,  C23C16/545 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3277

Abstract: The invention concerns a device (10) for continuously treating a web substrate (15a) in a plasma enhanced process. The device (10) contains at least one treatment station (12a, 12b) with a vacuum process chamber, wherein at least one plasma treatment unit (13a, 13b) is allocated to the at least one treatment station (12a, 12b) which is designed to form a plasma zone (14a, 14b) within the process chamber for treating a surface of the web substrate (15a). The device (10) further contains a transporting system for continuously transporting the web substrate (15a, 15b) through the at least one treatment station (12a, 12b), with an unwind roller (20) and a rewind roller (21), wherein the transporting system defines a transporting path of the web substrate (15a) through the process chamber. The plasma treatment unit (13a, 13b) contains at least one extensive antenna and at least one radiofrequency generator for exciting said extensive antenna to at least one of its resonant frequencies, wherein the transporting system in the process chamber defines a treatment path section for the web substrate (15a), wherein the treatment path section for the web substrate (15a) lies opposite to and spaced from the extensive antenna.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在等离子体增强过程中连续处理幅材衬底（15a）的装置（10）。 装置（10）包含至少一个具有真空处理室的处理站（12a，12b），其中至少一个等离子体处理单元（13a，13b）被分配给至少一个处理站（12a，12b） 设计成在处理室内形成等离子体区域（14a，14b），用于处理幅材衬底（15a）的表面。 所述装置（10）还包括用于通过所述至少一个处理站（12a，12b）连续地传送所述幅材衬底（15a，15b）的传送系统，其具有展开辊（20）和重绕辊（21），其中 输送系统通过处理室限定幅材基材（15a）的输送路径。 等离子体处理单元（13a，13b）包含至少一个广泛天线和至少一个射频发生器，用于将所述广泛天线激励至其谐振频率中的至少一个，其中处理室中的传输系统限定用于 卷筒纸基板（15a），其中所述卷筒纸基板（15a）的处理路径部分与所述广泛天线相对并间隔开。