公开(公告)号：WO2017162455A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055773

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： FRESQUET, Gilles ,  COURTEVILLE, Alain ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01B11/24 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/06 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a confocal chromatic device for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer, comprising a plurality of optical measurement channels with collection apertures (14) arranged for collecting the light reflected by the object (10) through a chromatic lens (13) at a plurality of measurement points (15), and a magnifying lens (31) arranged for introducing a variable or changeable scaling factor between the spatial repartition of the collection apertures (14) and the measurement points (15). The present invention concerns also a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11).

Abstract translation: 本发明涉及用于检查诸如晶片的物体（10）的表面的共焦彩色装置，其包括具有收集孔（14）的多个光学测量通道，所述收集孔布置成用于收集反射的光 （10）通过在多个测量点（15）处的彩色透镜（13）以及放大透镜（31），所述放大透镜布置成用于在收集孔（14）的空间重新分布和/ 和测量点（15）。 本发明还涉及用于检查诸如包括三维结构（11）的晶片的物体（10）的表面的方法。

公开(公告)号：WO2019016151A1

公开(公告)日：2019-01-24

申请号：PCT/EP2018/069291

申请日：2018-07-16

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： COMBIER, Tristan ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B9/02 ,  G01B11/06 ,  G02B21/00 ,  G02B6/125

Abstract: A multichannel confocal sensor comprises a light source (14),a focusing lens arrangement (10), and an optical detector (25). This sensor further includes: - a first integrated optics circuit (11) arranged for splitting a light beam (24) coming from said broadband light source into a plurality of emitted light beams applied to a high-density array of emitting apertures (29), - a second integrated optics circuit (20) arranged for collecting on a plurality of collection apertures (18) a plurality of reflected light beams from a sample to be inspected (17) and for transferring said reflected light beams to the optical detector (25), - a beam splitter (22) arranged (i) for directing said emitted light beams from the first integrated optics circuit (11) to the inspected substrate (17) through the focusing lens arrangement (10) and (ii) for directing the reflected light beams from the inspected sample (17) through the focusing lens arrangement (10) into the second integrated optics circuit (20).

公开(公告)号：WO2017167573A1

公开(公告)日：2017-10-05

申请号：PCT/EP2017/055967

申请日：2017-03-14

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： GASTALDO, Philippe ,  DURAND DE GEVIGNEY, Mayeul ,  COMBIER, Tristan

IPC: G01N21/95

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/8806

Abstract: L'invention concerne un procédé d'inspection d'une plaquette (2) pour l'électronique, l'optique ou l'optoélectronique, comprenant : la mise en rotation de la plaquette (2) autour d'un axe de symétrie (X) perpendiculaire à une surface principale (S) de ladite plaquette, l'émission, à partir d'une source lumineuse (20) couplée à un dispositif interférométrique (30), de deux faisceaux lumineux incidents de sorte à former, à l'intersection entre les deux faisceaux, un volume de mesure (V) contenant des franges d'interférences, la collecte d'au moins une partie de la lumière diffusée par ladite région de la plaquette, l'acquisition de la lumière collectée et l'émission d'un signal électrique représentant la variation de l'intensité lumineuse de la lumière collectée en fonction du temps, la détection, dans ledit signal, d'une composante fréquentielle dans ladite lumière collectée, ladite fréquence étant la signature temporelle du passage d'un défaut dans le volume de mesure.

Abstract translation:

本发明涉及一种方法 用于检查用于电子器件，光学器件或光电子器件的晶片（2），包括：围绕对称轴（X）旋转晶片（2） ）垂直＆agrave; 所述晶片的主表面（S），基台， 来自彼此耦合的光源（20） 干涉测量装置（30），两个相同类型的入射光束; 火车，＆agrave; 两束之间的交点，包含干涉条纹的测量体积（V），由晶片的所述区域扩散的至少一部分光的收集， 采集所收集的光并传输代表强度变化的电信号。 作为时间函数收集的光的发光度，在所述信号中检测收集的所述光中的频率分量，所述频率是光的时间特征; 传递测量量的错误。

公开(公告)号：WO2021019136A1

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：PCT/FR2020/051135

申请日：2020-06-30

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： GASTALDO, Philippe

IPC: G01B9/04 ,  G01B11/24 ,  G01N21/95 ,  G02B21/00

Abstract: Dispositif d'inspection (1) d'une surface (S) d'un objet, le dispositif comprenant une source de lumière polychromatique (20) pour projeter un faisceau d'inspection sur la surface (S); un masque confocal (6a, 6b) interceptant le faisceau d'inspection et un faisceau réfléchi par la surface, présentant une pluralité d'ouvertures de filtrage chromatique; un système chromatique (3) étalant spatialement la focalisation du faisceau d'inspection selon des plans de focalisation le long d'un axe optique (AO) dans une profondeur de champ, interceptant le faisceau réfléchi pour le projeter sur un plan de détection (P) conjugué des plans de focalisation; un support mobile (4) pour positionner la surface (S) dans la profondeur de champ; un capteur d'image à intégration temporisée (5) synchronisé au déplacement de la surface, le capteur d'image (5) comprenant une matrice de photodétecteurs disposée dans le plan de détection (P), les ouvertures de filtrage chromatique du masque confocal éclairant une partie des photodétecteurs.

公开(公告)号：WO2017162457A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055777

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： FRESQUET, Gilles ,  COURTEVILLE, Alain ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01J3/0208 ,  G01B11/022 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/22 ,  G01B11/245 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/18 ,  G01J3/453 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/063 ,  G01N2201/0833 ,  G01N2201/105 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a confocal chromatic device for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer, comprising a plurality of optical measurement channels (24) with collection apertures (14) arranged for collecting the light reflected by the object (10) through a chromatic lens (13) at a plurality of measurement points (15), said plurality of optical measurement channels (24) comprising optical measurement channels (24) with an intensity detector (20) for measuring a total intensity of the collected light. The present invention concerns also a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11).

Abstract translation: 本发明涉及用于检查诸如晶片的物体（10）的表面的共焦彩色装置，包括具有收集孔（14）的多个光学测量通道（24），所述收集孔布置成用于收集 所述多个光学测量通道（24）包括光学测量通道（24），所述光学测量通道（24）具有强度检测器（20），所述强度检测器（20）用于通过所述对象（10）在多个测量点（15） 测量收集的光的总强度。 本发明还涉及用于检查诸如包括三维结构（11）的晶片的物体（10）的表面的方法。

公开(公告)号：WO2017162456A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055774

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： FRESQUET, Gilles ,  COURTEVILLE, Alain ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01J3/0208 ,  G01B11/022 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/22 ,  G01B11/245 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/18 ,  G01J3/453 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/063 ,  G01N2201/0833 ,  G01N2201/105 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11), using a confocal chromatic device with a plurality of optical measurement channels (24) and a chromatic lens (13) allowing optical wavelengths of a broadband light source (19) to be focused at different axial distances defining a chromatic measurement range, the method comprising a step of obtaining an intensity information corresponding to the intensity of the light actually focused on an interface of the object (10) within the chromatic measurement range at a plurality of measurement points (15) on the object (10) by measuring a total intensity over the full spectrum of the light collected by at least some of the optical measurement channels (24) in a confocal configuration.

Abstract translation: 本发明涉及一种使用具有多个光学测量通道（24）的共焦彩色装置来检查诸如包括三维结构（11）的晶片的物体（10）的表面的方法， 以及允许宽带光源（19）的光波长聚焦在限定色度测量范围的不同轴向距离处的彩色透镜（13），所述方法包括获得与实际聚焦的光的强度相对应的强度信息的步骤 在物体（10）上的多个测量点（15）处的色度测量范围内的物体（10）的界面上通过测量由至少一些光学测量 渠道（24）在共焦配置。

公开(公告)号：WO2017162454A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055772

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01J3/0208 ,  G01B11/022 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/22 ,  G01B11/245 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/18 ,  G01J3/453 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/063 ,  G01N2201/0833 ,  G01N2201/105 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a confocal chromatic device, comprising : at least one chromatic lens (13) with an extended axial chromatism; at least one broadband light source (19); at least one optical detection means (20, 21); and at least one measurement channel (24) with a planar Y-junction (18) made with a planar waveguide optics technology, and arranged for transferring light from said at least one light source (19) towards said at least one chromatic lens (13) and for transferring light reflected back through said at least one chromatic lens (13) towards said at least one optical detection means (20, 21).

Abstract translation: 本发明涉及一种共焦彩色装置，其包括：至少一个具有延伸的轴向色差的色差透镜（13） 至少一个宽带光源（19）; 至少一个光学检测装置（20,21）; 以及至少一个测量通道（24），其具有用平面波导光学技术制造的平面Y形接头（18），并且被布置为将来自所述至少一个光源（19）的光传输到所述至少一个色透镜（13 ）并且用于将通过所述至少一个色透镜（13）反射回来的光朝向所述至少一个光学检测装置（20,21）传输。