公开(公告)号：WO2021019136A1

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：PCT/FR2020/051135

申请日：2020-06-30

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： GASTALDO, Philippe

IPC: G01B9/04 ,  G01B11/24 ,  G01N21/95 ,  G02B21/00

Abstract: Dispositif d'inspection (1) d'une surface (S) d'un objet, le dispositif comprenant une source de lumière polychromatique (20) pour projeter un faisceau d'inspection sur la surface (S); un masque confocal (6a, 6b) interceptant le faisceau d'inspection et un faisceau réfléchi par la surface, présentant une pluralité d'ouvertures de filtrage chromatique; un système chromatique (3) étalant spatialement la focalisation du faisceau d'inspection selon des plans de focalisation le long d'un axe optique (AO) dans une profondeur de champ, interceptant le faisceau réfléchi pour le projeter sur un plan de détection (P) conjugué des plans de focalisation; un support mobile (4) pour positionner la surface (S) dans la profondeur de champ; un capteur d'image à intégration temporisée (5) synchronisé au déplacement de la surface, le capteur d'image (5) comprenant une matrice de photodétecteurs disposée dans le plan de détection (P), les ouvertures de filtrage chromatique du masque confocal éclairant une partie des photodétecteurs.

公开(公告)号：WO2020109486A1

公开(公告)日：2020-06-04

申请号：PCT/EP2019/082942

申请日：2019-11-28

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： BOULANGER, Jean-François ,  BERGOËND, Isabelle

IPC: G01B9/02 ,  G01B11/06 ,  G01B11/0625 ,  G01B2210/56 ,  G01B9/02083 ,  G01B9/02088 ,  G01B9/0209

Abstract: L'invention concerne un procédé (100) de mesure d'une surface d'un objet (17) comprenant au moins une structure (41, 42) par interférométrie optique à faible cohérence, le procédé (100) comprenant les étapes suivantes : - acquisition (102) d'un signal interférométrique en une pluralité de points, dits de mesure, de ladite surface dans un champ de vue; pour au moins un point de mesure : - attribution (104) du signal interférométrique acquis à une classe de signaux interférométriques parmi une pluralité de classes, chaque classe étant associée à un signal interférométrique de référence représentatif d'une structure type; et - analyse (114) du signal interférométrique pour en déduire une information sur la structure au point de mesure, en fonction de sa classe. L'invention concerne également un système de mesure mettant en œuvre le procédé selon l'invention.

公开(公告)号：WO2017162457A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055777

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： FRESQUET, Gilles ,  COURTEVILLE, Alain ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01J3/0208 ,  G01B11/022 ,  G01B11/0608 ,  G01B11/22 ,  G01B11/245 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/18 ,  G01J3/453 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/063 ,  G01N2201/0833 ,  G01N2201/105 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a confocal chromatic device for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer, comprising a plurality of optical measurement channels (24) with collection apertures (14) arranged for collecting the light reflected by the object (10) through a chromatic lens (13) at a plurality of measurement points (15), said plurality of optical measurement channels (24) comprising optical measurement channels (24) with an intensity detector (20) for measuring a total intensity of the collected light. The present invention concerns also a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11).

Abstract translation: 本发明涉及用于检查诸如晶片的物体（10）的表面的共焦彩色装置，包括具有收集孔（14）的多个光学测量通道（24），所述收集孔布置成用于收集 所述多个光学测量通道（24）包括光学测量通道（24），所述光学测量通道（24）具有强度检测器（20），所述强度检测器（20）用于通过所述对象（10）在多个测量点（15） 测量收集的光的总强度。 本发明还涉及用于检查诸如包括三维结构（11）的晶片的物体（10）的表面的方法。

公开(公告)号：WO2006029228A3

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：PCT/US2005031913

申请日：2005-09-01

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR CORP ,  RINERSON DARRELL ,  CHEVALLIER CHRISTOPHE J ,  KINNEY WAYNE ,  LAMBERTSON ROY ,  LONGCOR STEVEN W ,  SANCHEZ JOHN E JR ,  SCHLOSS LAWRENCE ,  SWAB PHILIP F S ,  WARD EDMOND R

Inventor： RINERSON DARRELL ,  CHEVALLIER CHRISTOPHE J ,  KINNEY WAYNE ,  LAMBERTSON ROY ,  LONGCOR STEVEN W ,  SANCHEZ JOHN E JR ,  SCHLOSS LAWRENCE ,  SWAB PHILIP F S ,  WARD EDMOND R

IPC: G11C16/02 ,  H01L45/00

CPC classification number: H01L45/08 ,  G06F17/5045 ,  G11C11/5685 ,  G11C13/0007 ,  G11C13/0009 ,  G11C13/004 ,  G11C13/0069 ,  G11C2013/0045 ,  G11C2013/005 ,  G11C2013/009 ,  G11C2213/11 ,  G11C2213/31 ,  G11C2213/32 ,  G11C2213/53 ,  G11C2213/54 ,  G11C2213/56 ,  G11C2213/71 ,  G11C2213/79 ,  H01L27/2436 ,  H01L27/2481 ,  H01L45/085 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/1246 ,  H01L45/1253 ,  H01L45/146 ,  H01L45/147 ,  H01L45/1625

Abstract: A memory using a mixed valence conductive oxides. The memory includes a mixed valence conductive oxide that is less conductive in its oxygen deficient state and an electrolytic tunnel barrier that is an electrolyte to oxygen and promotes an electric field effective to cause oxygen ionic motion.

Abstract translation: 记忆使用混合价态的导电氧化物。 记忆体包括在其缺氧状态下导电性较低的混合价导电氧化物和作为氧电解质的电解隧道势垒并促进有效引起氧离子运动的电场。

公开(公告)号：WO2018219785A1

公开(公告)日：2018-12-06

申请号：PCT/EP2018/063705

申请日：2018-05-24

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： BOULANGER, Jean-François ,  PETITGRAND, Sylvain

IPC: G01B9/02 ,  G01J3/28 ,  G01J3/453 ,  G01J3/46

CPC classification number: G01B9/0209 ,  G01B9/02084 ,  G01B11/2441

Abstract: Procédé pour reconstituer une information de couleur d'un échantillon mesuré par profilométrie optique en lumière blanche, comprenant une acquisition (21) d'interférogrammes en une pluralité de points ou pixels dudit échantillon, ce procédé comprenant en outre, pour au moins un point de mesure: - un calcul (22) de densité spectrale optique de l'interférogramme, - à partir de cette densité spectrale optique, une détermination d'une réflectance spectrale, - un traitement (24) de ladite réflectance spectrale pour générer une information de couleur dudit échantillon (17).

公开(公告)号：WO2017162455A1

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：PCT/EP2017/055773

申请日：2017-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： FRESQUET, Gilles ,  COURTEVILLE, Alain ,  GASTALDO, Philippe

IPC: G01B11/24 ,  G02B21/00 ,  G01N21/956 ,  H01L21/66 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01B11/24 ,  G01B2210/50 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2201/06 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/0064 ,  H01L22/12

Abstract: The present invention concerns a confocal chromatic device for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer, comprising a plurality of optical measurement channels with collection apertures (14) arranged for collecting the light reflected by the object (10) through a chromatic lens (13) at a plurality of measurement points (15), and a magnifying lens (31) arranged for introducing a variable or changeable scaling factor between the spatial repartition of the collection apertures (14) and the measurement points (15). The present invention concerns also a method for inspecting the surface of an object (10) such as a wafer comprising tridimensional structures (11).

Abstract translation: 本发明涉及用于检查诸如晶片的物体（10）的表面的共焦彩色装置，其包括具有收集孔（14）的多个光学测量通道，所述收集孔布置成用于收集反射的光 （10）通过在多个测量点（15）处的彩色透镜（13）以及放大透镜（31），所述放大透镜布置成用于在收集孔（14）的空间重新分布和/ 和测量点（15）。 本发明还涉及用于检查诸如包括三维结构（11）的晶片的物体（10）的表面的方法。

公开(公告)号：WO2017085392A1

公开(公告)日：2017-05-26

申请号：PCT/FR2016/052956

申请日：2016-11-15

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： VITIELLO, Julien ,  DELCARRI, Jean-Luc ,  PIALLAT, Fabien

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/56 ,  C23C14/58

CPC classification number: C23C16/45523 ,  C23C14/5846 ,  C23C16/56

Abstract: La présente invention concerne un procédé de formation d'une couche (2) d'oxyde et/ou de nitrure d'aluminium (Al 2 O 3 ou AIN) sur un substrat (1), dans lequel une séquence d'étapes successives a) et b) selon lesquelles : a) une couche élémentaire d'aluminium (2 1 , 2 2 ) présentant une épaisseur comprise entre 5 et 25 nm est déposée sur le substrat (1) dans une chambre de dépôt (10), b) le substrat (1) est déplacé dans une chambre de traitement (20) distincte de la chambre de dépôt (10), dans laquelle la couche élémentaire d'aluminium (2 1 , 2 2 ) est oxydée, respectivement nitrurée pour former une couche élémentaire d'oxyde d'aluminium, respectivement de nitrure d'aluminium (2 1 ' 2 2 '), est répétée en boucle jusqu'à l'obtention de ladite couche d'oxyde et/ou de nitrure d'aluminium (2) par empilement des couches élémentaires successives d'oxyde d'aluminium, respectivement de nitrure d'aluminium (2 1 ' 2 2 ').

Abstract translation: 解码方法技术领域本发明涉及一种解码方法 用于在衬底（1）上形成氧化物和/或氮化铝（Al 2 O 3或AlN）层（2），在衬底 其中一系列连续的步骤a）和b）根据其中：a）铝层（2 1 2，2 2 > 2）在连续循环中重复; 通过堆叠连续的氧化铝或氮化铝层（2×1）来获得所述氧化物层和/或氮化铝层（2） / sub>'2 _{2 '）。}

公开(公告)号：WO2022129721A1

公开(公告)日：2022-06-23

申请号：PCT/FR2021/052091

申请日：2021-11-25

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： COMBIER, Tristan

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G01N21/88

Abstract: L'invention concerne un procédé mettant en œuvre un dispositif d'inspection (1) d'une surface (S) d'un objet. Le dispositif comprend une source de lumière polychromatique (20) pour projeter un faisceau d'inspection sur la surface (S); un masque confocal (6a, 6b) interceptant le faisceau d'inspection et un faisceau réfléchi par la surface, présentant une pluralité d'ouvertures de filtrage chromatique; un système chromatique (3) étalant spatialement la focalisation du faisceau d'inspection selon des plans de focalisation le long d'un axe optique (AO) dans une profondeur de champ, interceptant le faisceau réfléchi pour le projeter sur un plan de détection (P) conjugué des plans de focalisation; un support mobile (4) pour positionner la surface (S) dans la profondeur de champ; un capteur d'image à intégration temporisée (5) synchronisé au déplacement de la surface, le capteur d'image (5) comprenant une matrice de photodétecteurs disposée dans le plan de détection (P), les ouvertures de filtrage chromatique du masque confocal éclairant une partie des photodétecteurs.

公开(公告)号：WO2020074800A1

公开(公告)日：2020-04-16

申请号：PCT/FR2019/052210

申请日：2019-09-20

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： DURAND DE GEVIGNEY, Mayeul

IPC: G01N21/47 ,  G01B11/30 ,  G02B5/10 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95

Abstract: L'invention porte sur un dispositif d'inspection optique en champ sombre (1) d'un substrat (3), tel qu'une plaquette pour l'électronique l'optique ou l'électronique, comprenant : • - une source lumineuse (4) pour générer au moins un faisceau d'illumination incident (4a; 4a', 4a") se projetant en une zone d'inspection (P) du substrat (2), et étant susceptible de s'y réfléchir sous la forme d'un rayonnement diffus (5); • - au moins un premier et un deuxième dispositif collecteur (7a, 7b); et • - un dispositif optique réfléchissant (6) pour diriger une partie au moins du rayonnement diffus (5) issu d'un foyer optique de collection (F) coïncidant avec la zone d'inspection (P) en direction des dispositifs collecteurs (7a, 7b), avec une première et une deuxième zone réfléchissante (6a) sur lesquelles se réfléchit une première partie du rayonnement diffus (5) vers un premier foyer optique de détection (Fa), optiquement conjugué du foyer optique de collection (F), et une deuxième partie du rayonnement diffus (5) vers un deuxième foyer optique de détection (Fb), optiquement conjugué du foyer optique de collection (F) et distinct du premier foyer optique de détection (Fa).

公开(公告)号：WO2019179841A1

公开(公告)日：2019-09-26

申请号：PCT/EP2019/056236

申请日：2019-03-13

Applicant: UNITY SEMICONDUCTOR

Inventor： DURAND DE GEVIGNEY, Mayeul ,  PORQUE, Jérôme

IPC: G02B21/08 ,  G02B21/10

Abstract: La présente invention concerne un dispositif d'éclairage (1, 100) pour un système d'imagerie avec un objectif (2) d'imagerie, comprenant: un manchon (10) configuré pour être positionné autour dudit objectif (2) d'imagerie; au moins une fibre optique (14) solidaire dudit manchon (10) et agencée pour guider une lumière issue d'au moins une source de lumière; et un moyen de direction (17, 17') configuré pour orienter un faisceau lumineux émis par ladite au moins une fibre optique (14) de façon à éclairer un champ d'observation dudit système d'imagerie selon un axe d'éclairage formant un angle par rapport à l'axe optique dudit objectif (2) supérieur à l'ouverture numérique du système d'imagerie. L'invention concerne également un système d'imagerie mettant en œuvre ce dispositif.