公开(公告)号：WO2009152276A3

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：PCT/US2009046957

申请日：2009-06-10

Applicant: UNIV NORTH CAROLINA ,  GONSALVES KENNETH E ,  WANG MINGXING

Inventor： GONSALVES KENNETH E ,  WANG MINGXING

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07C303/38 ,  C07C309/65 ,  C07C309/73 ,  C07C309/75 ,  C07C311/48 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: The present invention provides photoacid generators for use in chemically amplified resists and lithographic processes using the same.

Abstract translation: 本发明提供用于化学放大抗蚀剂的光酸产生剂和使用其的光刻法。