公开(公告)号：WO1996039651A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1996010389

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot ,  JONES, Allen, H., Jr.

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: G05D11/13

CPC classification number: H01L21/30604 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  H01L21/31111

Abstract: A system and method for mixing and/or diluting ultrapure fluids, such as liquid acids, for semiconductor processing. The system includes first and second chemical dispensers, the first and second chemical dispensers adapted to contain first and second fluids to be mixed, respectively; a process connection between the first and second chemical dispensers which allows the first and second fluids to flow therethrough and intermingle to form a mixed fluid, the process connection further allowing the mixed fluid to flow to a location needed by the operator; and an ultrasonic wave emitting device (28), the device (28) provided in a location sufficient to transmit an ultrasonic wave through the mixed fluid, the device (28) including means to measure the velocity of the wave through the mixed fluid, and thus indirectly measure a ratio defined by a quantity of the first chemical to a quantity of the second chemical in the mixed fluid.

Abstract translation: 用于混合和/或稀释超纯液体（如液体酸）用于半导体加工的系统和方法。 该系统包括第一和第二化学分配器，第一和第二化学分配器分别适于容纳待混合的第一和第二流体; 所述第一和第二化学分配器之间的过程连接允许第一和第二流体流过并混合以形成混合流体，所述过程连接进一步允许混合流体流动到操作者所需的位置; 和超声波发射装置（28），所述装置（28）设置在足以通过所述混合流体传送超声波的位置，所述装置（28）包括测量通过混合流体的波速的装置，以及 从而间接地测量由第一化学品的量与混合流体中的第二化学品的量所定义的比率。

公开(公告)号：WO1996039358A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1995007649

申请日：1995-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: C01C01/02

CPC classification number: H01L21/31111 ,  B01J39/04 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01B15/0135 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  C01P2006/80 ,  H01L21/30604 ,  B01J41/04

Abstract: Highly purified ammonia for use in processes for the production of high-precision electronic components is prepared on-site by drawing ammonia vapor from a liquid ammonia reservoir, passing the vapor through a filter capable of filtering out particles of less than 0.005 micron in size, and scrubbing the filtered vapor in a high-pH aqueous liquid-vapor contact unit.

Abstract translation: 通过从液氨贮存器中抽出氨蒸气，使蒸汽通过能够过滤尺寸小于0.005微米的颗粒的过滤器，现场制备用于生产高精度电子部件的高纯度氨， 并在高pH水溶液 - 气相接触单元中洗涤经过滤的蒸汽。

公开(公告)号：WO1996039264A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1996009555

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: B08B07/04

CPC classification number: H01L21/31111 ,  C01B7/0718 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  C01P2006/80 ,  H01L21/30604

Abstract: Highly purified HCl for use in semiconductor manufacturing is prepared on-site by drawing HCl vapor (12) from a liquid HCl reservoir (11), and scrubbing (17) the filtered vapor (15) in a low-pH aqueous scrubber (17).

Abstract translation: 通过从液体HCl储存器（11）中抽出HCl蒸汽（12）并在低pH水性洗涤器（17）中洗涤（17）过滤的蒸气（15），在现场制备用于半导体制造的高纯度HCl。 。

公开(公告)号：WO1996041687A1

公开(公告)日：1996-12-27

申请号：PCT/US1996009554

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: B08B07/04

CPC classification number: C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111

Abstract: A system for purification and generation of hydrofluoric acid on-site at a semiconductor device fabrication facility. An evaporation stage (optionally with arsenic oxidation) is followed by a fractionating column to remove most other impurities, an Ionic Purifier column to suppress contaminants not removed by the fractionating column, and finally the HF Supplier (HFS).

Abstract translation: 一种用于在半导体器件制造设备上现场纯化和产生氢氟酸的系统。 蒸发阶段（任选具有砷氧化）之后是分馏塔以除去大多数其他杂质，即离子净化柱，以抑制未经分馏塔除去的污染物，最后是HF供应商（HFS）。

公开(公告)号：WO1996039266A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1996010388

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: B08B07/04

CPC classification number: C01C1/024 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01C1/162 ,  C01P2006/80 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111

Abstract: A process for preparing ultra-high-purity buffered hydrofluoric acid on-site at a semiconductor manufacturing facility. Anhydrous ammonia is purified by scrubbing (17) in a high-pH liquor, and then combined with high-purity aqueous HF which has been purified by a similar process. The generation is monitored by a density measurement to produce an acid whose pH and buffering are accurately controlled.

Abstract translation: 一种在半导体制造工厂现场制备超高纯度缓冲氢氟酸的方法。 无水氨通过在高pH液中洗涤（17）纯化，然后与已经通过类似方法纯化的高纯度HF水溶液合并。 通过密度测量监测该代，以产生其pH和缓冲被精确控制的酸。

公开(公告)号：WO2016151089A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/EP2016/056548

申请日：2016-03-24

Applicant: CONDIAS GMBH

Inventor： FRYDA, Matthias ,  MATTHÈE, Thorsten

IPC: C25B1/24 ,  C25B1/13 ,  C25B9/08 ,  C01B7/19 ,  B01D61/42 ,  C23G1/36

CPC classification number: C01B7/194 ,  B01D61/44 ,  C01B7/191 ,  C01B7/198 ,  C01B13/10 ,  C25B1/13 ,  C25B1/245 ,  C25B9/08 ,  C25B9/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen von verdünnter Flusssäure mittels einer Elektrodenanordnung (1), die eine Anodenkammer (2) mit einer Anode (4) und eine Kathodenkammer (6) mit einer Kathode (8) aufweist, die durch eine Anionen-Tauschermembran (10) voneinander getrennt sind, wobei bei dem Verfahren - reines Wasser durch die Anodenkammer (2) und - reines Wasser, in dem sich wenigstens ein Elektrolyt befindet, der Fluorid-Ionen (F-) bildet, durch die Kathodenkammer (6) geleitet wird - und eine elektrische Spannung zwischen der Anode (4) und der Kathode 8 angelegt wird, so dass die Fluorid-Ionen (F-) durch die Anionen-Tauschermembran (10) in die Anodenkammer (2) bewegt werden und ein elektrischer Strom fließt.

Abstract translation: 本发明通过（1），其包含阳极室中的电极布置的装置涉及一种用于稀氢氟酸的制造的方法和设备（2），其具有阳极（4）和阴极室（6）具有阴极（8），其通过阴离子 -Tauschermembran（10）彼此分开，在该方法中 - 纯水通过阳极室（2）和 - 纯净水，其中存在至少一种电解质，氟离子（F-）的形式（通过阴极室6 ）被传导 - 和阳极之间的电压（4）和阴极8被施加，以使氟离子（F-）（通过阴离子交换膜（10）到阳极腔室2）移动时，和电 电流流过。

公开(公告)号：WO2011149711A3

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/US2011036789

申请日：2011-05-17

Applicant: HONEYWELL INT INC ,  HULSE RYAN ,  PHAM HANG T ,  SINGH RAJIV RATNA ,  TUNG HSUEH SUNG ,  MERKEL DANIEL C ,  POKROVSKI KONSTANTIN A

Inventor： HULSE RYAN ,  PHAM HANG T ,  SINGH RAJIV RATNA ,  TUNG HSUEH SUNG ,  MERKEL DANIEL C ,  POKROVSKI KONSTANTIN A

IPC: C09K5/04 ,  C07C21/18

CPC classification number: C07C17/38 ,  C01B7/198 ,  C07C17/383 ,  C07C17/386 ,  C07C17/389 ,  C07C19/08

Abstract: The present invention relates to an azeotropic or azeotrope-like mixture consisting essentially of 1,1,1,2,3,3-hexafluoropropane, hexafluoropropene and hydrogen fluoride.

Abstract translation: 本发明涉及基本上由1,1,1,2,3,3-六氟丙烷，六氟丙烯和氟化氢组成的共沸或类共沸混合物。

公开(公告)号：WO2011149711A2

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：PCT/US2011/036789

申请日：2011-05-17

Applicant: HONEYWELL INTERNATIONAL INC. ,  HULSE, Ryan ,  PHAM, Hang, T. ,  SINGH, Rajiv, Ratna ,  TUNG, Hsueh, Sung ,  MERKEL, Daniel, C. ,  POKROVSKI, Konstantin, A.

Inventor： HULSE, Ryan ,  PHAM, Hang, T. ,  SINGH, Rajiv, Ratna ,  TUNG, Hsueh, Sung ,  MERKEL, Daniel, C. ,  POKROVSKI, Konstantin, A.

IPC: C09K5/04 ,  C07C21/18

CPC classification number: C07C17/38 ,  C01B7/198 ,  C07C17/383 ,  C07C17/386 ,  C07C17/389 ,  C07C19/08

Abstract: The present invention relates to an azeotropic or azeotrope-like mixture consisting essentially of 1,1,1,2,3,3-hexafluoropropane, hexafluoropropene and hydrogen fluoride.

Abstract translation: 本发明涉及基本上由1,1,1,2,3,3-六氟丙烷，六氟丙烯和氟化氢组成的共沸或类共沸混合物。

公开(公告)号：WO1996039265A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1996009570

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: B08B07/04

CPC classification number: H01L21/30604 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  C01P2006/80 ,  H01L21/31111

Abstract: Highly purified ammonia for use in semiconductor manufacturing is prepared on-site by drawing ammonia vapor from a liquid ammonia reservoir, passing the vapor through a filter capable of filtering out particles of less than 0.005 micron in size, and scrubbing the filtered vapor in a high-pH aqueous scrubber.

Abstract translation: 通过从液氨储存器中抽出氨蒸气，使蒸汽通过能够过滤出尺寸小于0.005微米的颗粒的过滤器，并且将高效纯化的氨气用于半导体制造 -pH水洗涤器。

公开(公告)号：WO1996039263A1

公开(公告)日：1996-12-12

申请号：PCT/US1996009215

申请日：1996-06-05

Applicant: STARTEC VENTURES, INC. ,  HOFFMAN, Joe, G. ,  CLARK, R., Scot ,  YUAN, Wallace, I.

Inventor： STARTEC VENTURES, INC.

IPC: B08B07/04

CPC classification number: H01L21/31111 ,  B01J39/04 ,  C01B7/195 ,  C01B7/198 ,  C01B15/0135 ,  C01C1/024 ,  C01C1/162 ,  C01P2006/80 ,  H01L21/30604 ,  B01J41/04

Abstract: A system and method for semiconductor manufacture using on-site distillation to obtain ultra pure nitric acid from technical grade starting material. The source material for distillation (T-3) is provided at a concentration higher than that of the high boiling point azeotrope, so that dilution does not occur during condensation (C-1). A reflux condenser (CD-1) is used, with a purge of at least 5 % to prevent impurities from accumulating. This is performed on site, at a semiconductor manufacturing facility and the ultrapure chemical thus generated is routed directly, through ultraclean piping, to the point of use in a semiconductor front end (T-5).

Abstract translation: 一种使用现场蒸馏的半导体制造系统和方法，从工业级原料获得超纯硝酸。 以高于高沸点共沸物的浓度提供蒸馏源（T-3），从而在冷凝（C-1）期间不会发生稀释。 使用回流冷凝器（CD-1），吹扫至少5％以防止杂质积聚。 这在现场执行，在半导体制造设备中，并且由此产生的超纯化学品通过超级管道直接路由到半导体前端（T-5）中的使用点。