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    RADIATION SOURCE
    2.
    发明申请
    RADIATION SOURCE 审中-公开

    公开(公告)号：WO2018219578A1

    公开(公告)日：2018-12-06

    申请号：PCT/EP2018/061243

    申请日：2018-05-03

    申请人： ASML NETHERLANDS B.V.

    发明人： MULDER, Heine, Melle ,  VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus

    IPC分类号： H05G2/00 ,  H01S3/10

    CPC分类号： H05G2/008 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005

    摘要： A radiation source comprising a fuel emitter configured to provide droplets of fuel to a plasma formation region; and a laser system configured to supply a laser beam; wherein the laser system comprises a delay line configured to delay a primary portion of the laser beam relative to a subsidiary portion of the laser beam, such that a pulse of the laser beam subsidiary portion is incident at the plasma formation region before a pulse of the laser beam primary portion.

    極端紫外光生成装置
    4.
    发明申请
    極端紫外光生成装置 审中-公开
    极紫外光发生器

    公开(公告)号：WO2017154528A1

    公开(公告)日：2017-09-14

    申请号：PCT/JP2017/005996

    申请日：2017-02-17

    申请人： ギガフォトン株式会社

    发明人： 西村　祐一 ,  薮　隆之

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/008 ,  G01J1/4209 ,  G01J1/4228 ,  G01J1/4257 ,  G01J1/429 ,  G01J2001/4247 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/006

    摘要： 極端紫外光生成装置１は、外部装置である露光装置９からの指令に基づいて極端紫外光の生成位置を移動させる極端紫外光生成装置であって、内部に供給されたターゲット２７に対してレーザ光３１が照射されることでターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバ２と、ターゲットを出力しチャンバ内に供給するターゲット供給器２５と、チャンバ内に供給されたターゲットにレーザ光を集光する集光ミラー２３１と、ターゲット供給器の位置を調整するステージ２６と、集光ミラーの位置を調整するマニピュレータ２２４と、極端紫外光の生成中に生成位置を移動させる際、ステージ、マニピュレータ、及び、ターゲットに対するレーザ光の照射タイミングのうちの少なくとも１つをフィードフォワード方式で制御可能に構成された制御部と、を備える。

    摘要翻译： 极紫外光产生装置1是基于来自作为外部装置的曝光装置9的指令来移动极紫外光的产生位置的极紫外光产生装置， 通过用激光束31照射目标27从目标产生极紫外光的腔室2，用于输出目标并将目标供应到腔室的目标供应单元25， 一个聚光镜231会聚的激光束到目标，以及用于调节所述目标供给装置的位置，移动机械手224来调节收集器反射镜的位置，远紫外线光的产生过程中产生位置的阶段26 可以通过前馈系统控制激光到目标的台，操作器和照射定时中的至少一个 以及控制单元，其是。

    極端紫外光生成装置
    5.
    发明申请
    極端紫外光生成装置 审中-公开
    极紫外光发生器

    公开(公告)号：WO2017154111A1

    公开(公告)日：2017-09-14

    申请号：PCT/JP2016/057196

    申请日：2016-03-08

    申请人： ギガフォトン株式会社

    发明人： 西村　祐一 ,  薮　隆之

    IPC分类号： H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/008 ,  G01J1/4209 ,  G01J1/4228 ,  G01J1/4257 ,  G01J1/429 ,  G01J2001/4247 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/006

    摘要： 極端紫外光生成装置は、外部装置からの指令に基づいて極端紫外光の生成位置を移動させる極端紫外光生成装置であって、内部に供給されたターゲットに対してレーザ光が照射されることでターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲットを出力しチャンバ内に供給するターゲット供給器と、チャンバ内に供給されたターゲットにレーザ光を集光する集光ミラーと、ターゲット供給器の位置を調整するステージと、集光ミラーの位置を調整するマニピュレータと、極端紫外光の生成中に生成位置を移動させる際、ステージ、マニピュレータ、及び、ターゲットに対するレーザ光の照射タイミングのうちの少なくとも１つをフィードフォワード方式で制御可能に構成された制御部と、を備える。

    摘要翻译：

    极紫外光产生装置是用于移动基于从外部设备的命令将所述极紫外光的产生位置的极紫外光发生装置，所述目标供应到 从通过激光束的靶的腔室极紫外光照射产生，目标供应单元，用于将激光聚光于供应到腔室中的目标供给目标室的输出，冷凝器 镜，用于调整所述目标供给单元的位置的阶段，移动操纵器时调节收集器反射镜的位置，远紫外线光，舞台，操纵器的生成期间产生位置，并且，激光束相对于目标的的 以及控制单元，被配置为通过前馈方法控制照射定时中的至少一个。

    OPTISCHER ISOLATOR, TREIBERLASERANORDNUNG UND EUV-STRAHLUNGSERZEUGUNGSVORRICHTUNG DAMIT
    6.
    发明申请
    OPTISCHER ISOLATOR, TREIBERLASERANORDNUNG UND EUV-STRAHLUNGSERZEUGUNGSVORRICHTUNG DAMIT 审中-公开
    光学绝缘体，驱动器激光组件和EUV辐射发生装置

    公开(公告)号：WO2017101982A1

    公开(公告)日：2017-06-22

    申请号：PCT/EP2015/079799

    申请日：2015-12-15

    申请人： TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING GMBH

    发明人： BRUNNE, Jens

    IPC分类号： H01S3/00 ,  H05G2/00 ,  G02B27/09 ,  H01S3/223 ,  H01S3/23

    CPC分类号： H01S3/0064 ,  G02B27/0988 ,  H01S3/005 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2316 ,  H05G2/008

    摘要： Die Erfindung betrifft einen optischen Isolator, umfassend: eine Blende (1), die eine Blendenöffnung (3) zum Durchtritt von Laserstrahlung (5) aufweist, die in einer ersten Richtung (R1) durch die Blendenöffnung (3) tritt, wobei die Blende (1) zur Beeinflussung einer Plasmazündschwelle (I P1 , I P2 ) für die Zündung eines Plasmas dient, um den Durchtritt von Laserstrahlung, die in einer zweiten, der ersten entgegen gesetzten Richtung propagiert, durch die Blendenöffnung (3) zu unterdrücken. Die Blende (1) weist für Laserstrahlung, die in einer Umgebung (6b) der Blendenöffnung (3) auf die zweite Seite (2b) der Blende (1) trifft, eine kleinere Plasmazündschwelle (l P2 P1 ) auf als für Laserstrahlung (5), die in einer Umgebung (6a) der Blendenöffnung (3) auf die erste Seite (2a) der Blende (1) trifft. Die Erfindung betrifft auch eine Treiberlaseranordnung und eine EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung mit mindestens einem solchen optischen Isolator.

    摘要翻译： 本发明涉及一种光学隔离器，包括：具有用于激光辐射（5）通过的孔（3）的光阑（1），该光阑在第一方向（R1）上穿过 发生孔口（3），隔膜（1）影响用于点燃等离子体的等离子体阈值（I ，P2 ） 用于抑制激光辐射的通过，激光辐射沿第一相反方向通过隔膜开口（3）传播。 对于在光阑开口（3）的环境（6b）中照射光阑（1）的第二侧（2b）的激光辐射，光阑（1）具有较小的等离子体阈值（1 （3）的第一侧（2a）上的光阑开口（3）的环境（6a）中的激光辐射（5） 1）适用。 本发明还涉及具有至少一个这种光学隔离器的驱动器激光器装置和EUV辐射产生装置

    TREIBERLASERANORDNUNG, EUV-STRAHLUNGSERZEUGUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM VERSTÄRKEN VON LASERPULSEN
    7.
    发明申请
    TREIBERLASERANORDNUNG, EUV-STRAHLUNGSERZEUGUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM VERSTÄRKEN VON LASERPULSEN 审中-公开
    驱动器激光组件，EUV辐射生成装置和用于增强激光脉冲的方法

    公开(公告)号：WO2017088929A1

    公开(公告)日：2017-06-01

    申请号：PCT/EP2015/077873

    申请日：2015-11-27

    申请人： TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING GMBH

    发明人： WISSERT, Matthias

    IPC分类号： H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/008 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0064 ,  H01S3/2391

    摘要： Die Erfindung betrifft eine Treiberlaseranordnung (12) für eine EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung (1), umfassend: eine Strahlquelle (2), die ausgebildet ist, einen ersten Laserpuls (11a) mit einer ersten Wellenlänge (λ 1 ) und einen zweiten Laserpuls (11b) mit einer zweiten Wellenlänge (λ 2 ) zu erzeugen, sowie eine Verstärkeranordnung (3) mit mindestens einem optischen Verstärker (4a-c) zur Verstärkung des ersten Laserpulses (11a) und des zweiten Laserpulses (11b). Die Verstärkeranordnung (3) weist mindestens ein wellenlängenselektives optisches Element (13a, 13b) auf, das ausgebildet ist, den ersten Laserpuls (11a) bei der ersten Wellenlänge (λ 1 ) stärker abzuschwächen als den zweiten Laserpuls (11b) bei der zweiten Wellenlänge (λ 2 ).

    摘要翻译：

    本发明涉及一种用于产生EUV辐射的导航用途ř装置（1），其包括一个驱动激光组件（12）：光束源（2）其上形成，具有第一波长和AUML一第一激光脉冲（11A）; 和具有第二波长（λ2）的第二激光脉冲（11b）和放大器装置（3），所述放大器装置（3）具有至少一个 光放大器（4a-c），用于放大第一激光脉冲（11a）和第二激光脉冲（11b）。 该加强BEAR rkeranordnung（3）具有至少一个波长BEAR ngenselektives光学元件（13A，13B），其形成在所述第一波长BEAR长度与第一激光脉冲（11A）（λ<子> 1 ）ST＆AUML 比在第二波长（λ2）下的第二激光脉冲（11b）浅，

    レーザ装置、及び計測装置
    9.
    发明申请
    レーザ装置、及び計測装置 审中-公开
    激光器件和测量装置

    公开(公告)号：WO2016170643A1

    公开(公告)日：2016-10-27

    申请号：PCT/JP2015/062394

    申请日：2015-04-23

    申请人： ギガフォトン株式会社

    发明人： 野極　誠二 ,  川筋　康文

    IPC分类号： H01S5/0687 ,  H01S3/10 ,  H01S3/23 ,  H01S5/34

    CPC分类号： H01S3/0941 ,  H01S3/10 ,  H01S3/10007 ,  H01S3/101 ,  H01S3/104 ,  H01S3/23 ,  H01S3/235 ,  H01S5/068 ,  H05G2/008

    摘要： 本開示によるレーザ装置は、供給電流に応じて、レーザ光を出力する量子カスケードレーザと、レーザ光の光路上に配置され、所定波長の光を選択的に増幅する増幅器と、供給電流の電流遅延時間及び電流波形、並びに量子カスケードレーザの素子温度を含む発振情報に基づいて、所望の時刻においてレーザ光の波長が所定波長と等しくなるように量子カスケードレーザの発振を制御するレーザコントローラとを備えてもよい。

    摘要翻译： 公开了一种激光装置，其可以设置有：量子级联激光器，其输出对应于所提供的电流的激光; 放大器，其设置在激光的光路上，并且选择性地放大具有预定波长的光; 以及激光控制器，其基于振荡信息控制量子级联激光器的振荡，使得激光的波长在期望时间等于预定波长，所述振荡信息包括当前延迟时间和电流波形 的供电电流和量子级联激光器的元件温度。

    放電電極及び光源装置
    10.
    发明申请
    放電電極及び光源装置 审中-公开
    放电电极和光源器件

    公开(公告)号：WO2016163108A1

    公开(公告)日：2016-10-13

    申请号：PCT/JP2016/001884

    申请日：2016-04-01

    申请人： ウシオ電機株式会社

    发明人： 寺本　雄介 ,  長野　晃尚 ,  浦上　英之

    IPC分类号： H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  H05H1/24

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  H05G2/008 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/466

    摘要： 　所望の光出力を得るための形状を有する放電電極、及びその放電電極を備える光源装置が開示される。　極端紫外光光源装置（１００）は、周縁部を互いに離間して対向配置した一対の円盤状の放電電極（２１ａ、２１ｂ）と、放電電極にパルス電力を供給するパルス電力供給手段と、極端紫外光を放射させるための原料を放電電極上に供給する原料供給手段と、放電電極の曲面上の原料にエネルギービームを照射して当該原料を気化するエネルギービーム照射手段とを備える。一対の放電電極の少なくとも一方における、少なくとも一方の円形表面の周縁部には、当該放電電極の半径方向外側に向かうにつれて当該放電電極の厚さが薄くなる方向に傾斜する傾斜面（２１１ａ、２１１ｂ、２１２ａ、２１２ｂ）が設けられている。

    摘要翻译： 公开了具有用于获得期望的光输出的形状的放电电极; 以及配备有这些放电电极的光源装置。 EUV光源装置（100）包括：一对圆周状的放电电极（21a，21b），其各个周边部分设置成彼此间隔开并相对设置; 用于向放电电极提供脉冲功率的脉冲电源装置; 用于向放电电极供给用于照射EUV光的原料的原料供给装置; 以及能量束照射装置，用于将能量束照射到放电电极的曲面上的原料上，以蒸发原料。 所述一对放电电极中的至少一个在其至少一个圆形表面的周边部分中设置有倾斜表面（211a，211b，212a或212b），所述倾斜表面沿着更向外的方向 在放电电极的径向方向上，放电电极的厚度变薄。