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    被膜付きフィルムからの被膜の剥離方法および被膜の剥離装置
    2.
    发明申请
    被膜付きフィルムからの被膜の剥離方法および被膜の剥離装置 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022190713A1

    公开(公告)日：2022-09-15

    申请号：PCT/JP2022/003837

    申请日：2022-02-01

    申请人： 東レ株式会社

    发明人： 谷野　聖 ,  東田　佳久 ,  渡邊　一敬 ,  鈴木　維允

    IPC分类号： B05D3/10 ,  B08B3/02 ,  B32B27/00 ,  B32B7/06

    摘要： 水溶性樹脂を含む被膜を有する被膜付きフィルムの表面から、ごく少量の溶媒を用いて効率的に被膜を除去できる被膜剥離方法、および被膜剥離装置を提供する。本発明の被膜付きフィルムの被膜の剥離方法は、基材フィルムの少なくとも片面に水溶性樹脂を含む被膜を有する被膜付きフィルムからの被膜の剥離方法であって、前記被膜の表面に液滴の状態の洗浄液を付与して、当該洗浄液を当該被膜の表面で液滴を保持させ、次いで、前記被膜付きフィルムから前記洗浄液を含んだ被膜を剥離することを特徴とする。

    NITRIC OXIDE-RELEASING COMPOSITIONS AND APPLICATIONS THEREOF
    4.
    发明申请
    NITRIC OXIDE-RELEASING COMPOSITIONS AND APPLICATIONS THEREOF 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022169741A1

    公开(公告)日：2022-08-11

    申请号：PCT/US2022/014689

    申请日：2022-02-01

    申请人： UNIVERSITY OF GEORGIA RESEARCH FOUNDATION, INC.

    发明人： HANDA, Hitesh ,  HOPKINS, Sean P.

    IPC分类号： A61L29/06 ,  C01B21/24 ,  A61L29/16 ,  B05D3/10

    摘要： Described herein are compositions comprising a nitric oxide releasing material comprising a (i) a polysiloxane network and (ii) a plurality of nitric oxide-donating moieties covalently bonded to the polysiloxane network; and (b) a silicone oil. Also described herein are articles composed of the compositions described herein and methods for using the same. The compositions described herein provide highly sustained, long-term nitric oxide release that have numerous biological activities such as, for example, preventing localized platelet activation, fibrinogen adhesion, and biofilm formation for a prolonged period of time.

    基板処理方法および基板処理装置
    8.
    发明申请
    基板処理方法および基板処理装置 审中-公开

    公开(公告)号：WO2020059229A1

    公开(公告)日：2020-03-26

    申请号：PCT/JP2019/024535

    申请日：2019-06-20

    申请人： 株式会社SCREENホールディングス

    发明人： 和食　雄大 ,  田中　裕二

    IPC分类号： H01L21/027 ,  B05D1/36 ,  B05D1/40 ,  B05D3/00 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B05C11/08

    摘要： 基板の外周端部および下面周縁部に保護塗布膜が形成される。保護塗布膜の形成後、基板の上面に金属含有塗布液が供給され、金属含有塗布膜が形成される。金属含有塗布膜の形成後、保護塗布膜が除去される。保護塗布膜の形成時には、基板が水平姿勢で保持されつつ上下方向に延びる回転軸の周りで回転される。基板の上面に対してノズルの軸心方向に当該ノズルの吐出口を投影したときに投影像が基板の外周端部に重なるかまたは接するように、基板よりも上方にノズルが位置決めされる。ノズルが位置決めされた後、ノズルの吐出口から保護塗布液が吐出される。

    基板処理装置および基板処理方法
    9.
    发明申请
    基板処理装置および基板処理方法 审中-公开

    公开(公告)号：WO2020012777A1

    公开(公告)日：2020-01-16

    申请号：PCT/JP2019/019368

    申请日：2019-05-15

    申请人： 株式会社SCREENホールディングス

    发明人： 春本　将彦 ,  浅井　正也 ,  金山　幸司 ,  田中　裕二 ,  中山　知佐世 ,  有澤　洋

    IPC分类号： H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B05D1/36 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  G03F7/20

    摘要： 下層膜（Ｆ１）を覆うように基板の被処理面に外周部が露光された感光性レジスト膜（Ｆ２）が形成され、感光性レジスト膜（Ｆ２）上に金属含有レジスト膜（Ｆ４）が形成される。金属含有レジスト膜（Ｆ４）の外周部が除去された後、感光性レジスト膜（Ｆ２）の外周部が除去される。あるいは、下層膜（Ｆ１）を覆うように基板の被処理面に外周部が露光された第１の感光性レジスト膜が形成され、第１の感光性レジスト膜上に外周部が露光された第２の感光性レジスト膜が形成され、第２の感光性レジスト膜上に金属含有レジスト膜が形成される。金属含有レジスト膜の外周部が除去された後、第２の感光性レジスト膜の外周部が除去される。金属含有レジスト膜の現像後、第１の感光性レジスト膜の外周部が除去される。

    積層体の製造方法
    10.
    发明申请
    積層体の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：WO2019093361A1

    公开(公告)日：2019-05-16

    申请号：PCT/JP2018/041304

    申请日：2018-11-07

    申请人： 横浜ゴム株式会社

    发明人： 阿部　愛美 ,  松木　裕一 ,  新田　正喜

    IPC分类号： B05D5/10 ,  B05D3/04 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  B32B27/32 ,  B32B38/18

    CPC分类号： B05D3/04 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  B05D5/10 ,  B32B27/32 ,  B32B38/18

    摘要： 本発明は、接着性に優れる積層体の製造方法の提供を目的とする。本発明は、プラスチックの表面Ａを乾式処理して、乾式処理された表面Ｂを有する乾式処理プラスチックを得る工程１と、上記表面Ｂを、水及び極性溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んだ洗浄用具で拭き、上記洗浄用具で拭かれた表面Ｃを有する洗浄プラスチックを得る工程２と、上記表面Ｃに、接着剤及びプライマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を付与し、積層体を得る工程３とを有する、積層体の製造方法である。