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    撥水性部材及びその製造方法
    1.
    发明申请
    撥水性部材及びその製造方法 审中-公开
    拒水构件及其制造方法

    公开(公告)号：WO2017073501A1

    公开(公告)日：2017-05-04

    申请号：PCT/JP2016/081402

    申请日：2016-10-24

    申请人： 綜研化学株式会社

    发明人： 目黒　晃 ,  高橋　孝徳

    IPC分类号： B32B3/30 ,  B05D1/38 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  B05D3/12 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B32B27/00 ,  C09K3/18

    CPC分类号： B05D1/38 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  B05D3/12 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B32B3/30 ,  B32B27/00 ,  C09K3/18

    摘要： 撥水性及び耐擦傷性が優れた撥水性部材を提供する。 本発明によれば、基材と、前記基材の少なくとも一方の面に樹脂層を備え、前記樹脂層は、ベース面に複数の凹部が設けられた一次凹凸形状を有し、前記ベース面での前記凹部の面積割合は、１０～６０％であり、前記ベース面に二次凹凸形状が設けられ、前記二次凹凸形状の平均高さは、１５ｎｍ以上であり、前記二次凹凸形状の表面にフッ素含有基が設けられている、撥水性部材が提供される。

    摘要翻译： 提供拒水性和耐擦伤性优异的疏水性构件。 根据本发明，基材的至少一个表面上设置有树脂层的基板，所述树脂层具有主凹凸，其中设置在基底表面上的多个凹部，在所述底表面 的凹部的面积比率为10〜60％，设置在底座表面上的二次不均匀性，二次凹凸的平均高度是在15nm左右以上时，次级凹凸的表面 在衬底的表面上提供含氟基团。

    基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
    2.
    发明申请
    基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 审中-公开
    基板处理方法及电脑储存媒体

    公开(公告)号：WO2017069203A1

    公开(公告)日：2017-04-27

    申请号：PCT/JP2016/081118

    申请日：2016-10-20

    申请人： 東京エレクトロン株式会社

    发明人： 村松　誠 ,  冨田　忠利 ,  源島　久志 ,  北野　高広

    IPC分类号： H01L21/027 ,  B05D3/10

    CPC分类号： B05D3/10 ,  H01L21/027

    摘要： 親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含むブロック共重合体を用いて、基板を処理する基板処理方法は、所定の凹凸パターンが形成された基板上にブロック共重合体を塗布して当該ブロック共重合体の塗布膜を形成するブロック共重合体塗布工程と、ブロック共重合体を親水性ポリマーと疎水性ポリマーに相分離させるポリマー分離工程と、相分離したブロック共重合体から、親水性ポリマーを選択的に除去するポリマー除去工程と、ブロック共重合体塗布工程後かつポリマー除去工程前に、ブロック共重合体の塗布膜の膜厚を低減する膜厚低減工程と、を有する。

    摘要翻译： 使用含有亲水性聚合物和疏水性聚合物的嵌段共聚物处理基材的基材处理方法的特征在于，嵌段共聚物 为了形成嵌段共聚物的涂膜，将嵌段共聚物相分离成亲水性聚合物和疏水性聚合物的聚合物分离步骤，分离嵌段共聚物的相分离步骤 在嵌段共聚物涂覆步骤之后且在聚合物去除步骤之前，减小嵌段共聚物的涂膜的膜厚的膜去除步骤; 有。

    ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
    3.
    发明申请
    ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 审中-公开
    气体阻隔膜及其制造方法

    公开(公告)号：WO2017014246A1

    公开(公告)日：2017-01-26

    申请号：PCT/JP2016/071322

    申请日：2016-07-20

    申请人： コニカミノルタ株式会社

    发明人： 森　孝博

    IPC分类号： B32B9/00 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B15/08 ,  B32B27/00 ,  C08J7/04 ,  C23C14/08

    CPC分类号： B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B15/08 ,  B32B27/00 ,  C08J7/04 ,  C23C14/08

    摘要： 本発明は、樹脂基材上に、ケイ素原子と、ケイ素以外の金属Ｍ１と、ケイ素および前記金属Ｍ１以外の元素Ｍ２と、酸素原子と、を含むガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、前記ガスバリア層中の前記ケイ素原子、前記金属Ｍ１、前記元素Ｍ２、前記酸素原子、窒素原子、および炭素原子の合計量に対する前記ケイ素原子の量の比率を［Ｓｉ］（単位：ａｔｏｍ％）とし、前記ガスバリア層中の前記ケイ素原子、前記金属Ｍ１、前記元素Ｍ２、前記酸素原子、窒素原子、および炭素原子の合計量に対する前記金属Ｍ１の量の比率を［Ｍ１］（単位：ａｔｏｍ％）とし、前記ガスバリア層中の前記ケイ素原子、前記金属Ｍ１、前記元素Ｍ２、前記酸素原子、窒素原子、および炭素原子の合計量に対する前記元素Ｍ２の量の比率を［Ｍ２］（単位：ａｔｏｍ％）とした場合に、前記樹脂基材側から、式（ｃ）を満たす領域（Ｃ）、式（ｂ）を満たす領域（Ｂ）、および式（ａ）を満たす領域（Ａ）をこの順に有する、ガスバリア性フィルムである。

    摘要翻译： 本发明是一种阻气膜，其在树脂基体上包含含硅原子的阻气层，除硅以外的金属M1，除了硅以外的元素M2和金属M1以及氧原子。 如果[Si]（原子％）是硅原子量相对于硅原子总量的比例，则阻气层中的金属M1，元素M2，氧原子，氮原子和碳原子 ，[M1]（原子％）是金属M1的量相对于硅原子的总量，金属M1，元素M2，氧气原子，氮原子和碳原子在阻气层中的比例 ，[M2]（原子％）是元素M2的量相对于硅原子的总量，金属M1，元素M2，氧原子，氮原子和碳原子在气体屏障中的比例 层，该阻气膜依次具有满足式（c）的区域（C），满足式（b）的区域（B）和满足式（a）的区域（A） 侧。

    コーティング材、その製造方法、および、表面構造
    4.
    发明申请
    コーティング材、その製造方法、および、表面構造 审中-公开
    涂料，其生产方法和表面结构

    公开(公告)号：WO2016125409A1

    公开(公告)日：2016-08-11

    申请号：PCT/JP2015/085775

    申请日：2015-12-22

    申请人： 三菱電機株式会社

    发明人： 吉田　育弘 ,  泉谷　佑 ,  山本　義則 ,  内海　茂

    IPC分类号： C09D1/00 ,  B05D3/10 ,  C09D7/12

    CPC分类号： B05D3/10 ,  C09D1/00 ,  C09D7/40

    摘要： 　コーティング材１００は、無機微粒子２が分散されたコーティング液をコーティング対象としての基板１上に塗布することで形成された無機多孔質層２０を備えている。無機多孔質層２０は、複数の無機微粒子２がランダムに積み重なって構成されているので、無機微粒子２間の隙間が、無機多孔質層２０の内部の孔となっている。また、無機微粒子２の表面は、撥油膜３が施されることにより、撥油性を有している。また、無機多孔質層２０の孔内には、撥油性流体４が包含されている。

    摘要翻译： 该涂料100具有无机多孔层20，其通过将无机微粒2分散在其上的涂布液涂覆在作为被涂覆物的基材1上而形成。 由于无机多孔层20具有以无规的方式堆积多个无机细颗粒2的构造，无机细颗粒2之间的间隙形成无机多孔层20的内部孔。此外，无机多孔层20的表面 细颗粒2设置有拒油膜3，从而具有拒油性。 此外，无机多孔层20的孔中含有斥油液4。

    ガスバリアーフィルム及びガスバリアーフィルムの製造方法
    6.
    发明申请
    ガスバリアーフィルム及びガスバリアーフィルムの製造方法 审中-公开
    气体阻隔膜和气体阻隔膜制造方法

    公开(公告)号：WO2015163422A1

    公开(公告)日：2015-10-29

    申请号：PCT/JP2015/062413

    申请日：2015-04-23

    申请人： コニカミノルタ株式会社

    发明人： 廣瀬　達也 ,  大石　清

    IPC分类号： B32B9/00 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B27/00 ,  C23C16/50

    CPC分类号： B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  C23C16/50

    摘要： 本発明の課題は、成膜中及び成膜した長尺のフィルムをロール状に巻き取る際に、フィルムの表面・裏面間の接触帯電等に起因するフィルムへの異物の付着を抑制することが可能なガスバリアーフィルムとその製造方法を提供す ることである。　本発明のガスバリアーフィルム（１０）は、基材（１）の一方の面上にガスバリアー層（２）を有し、基材の反対側の面上に保護フィルム（３）を有するガスバリアーフィルムであって、保護フィルムが、粘着層（３２）を有し、粘着層を介して基材に配設されていて、長尺状のガスバリアーフィルムをロール状に巻いた際に、相互に接触する、ガスバリアー層の表面と保護フィルムの表面の算術平均粗さを、それぞれ、Ｒａ １ 及びＲａ ２ としたとき、Ｒａ ２ の値がＲａ １ の値の３倍以上であり、かつ、長尺状のガスバリアーフィルムの総厚が、６０μｍ以上であることを特徴とする。

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种气体阻隔膜，当形成或已经形成的细长膜被卷成卷状时，可以防止由于前面的接触充电而导致的异物与膜的粘附 和膜的后表面，并提供所述阻气膜的制造方法。 这种阻气膜（10）在基板（1）的一个表面上包括阻气层（2），并且在基板的相对表面上具有保护膜（3）。 阻气膜的特征在于，保护膜具有粘合剂层（32），并且设置在基板上，其间插入有粘合层，并且其中分别限定Ra1和Ra2作为阻气膜的算术平均粗糙度 表面和彼此接触的保护膜表面，当细长阻气膜卷成卷状时，Ra2的值是Ra1的三倍或更多，并且细长的 阻气膜为60μm以上。

    VERFAHREN ZUR BEHANDLUNG VON SUBSTRATEN VOR DEM VERKLEBEN
    8.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR BEHANDLUNG VON SUBSTRATEN VOR DEM VERKLEBEN 审中-公开
    方法处理基材的粘结前

    公开(公告)号：WO2014056765A1

    公开(公告)日：2014-04-17

    申请号：PCT/EP2013/070479

    申请日：2013-10-01

    申请人： SIKA TECHNOLOGY AG

    发明人： BOSSHARD, Bernhard ,  HUCK, Wolf-Rüdiger

    IPC分类号： C03C23/00 ,  B08B11/04

    CPC分类号： B32B38/162 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00 ,  B32B37/12 ,  B32B37/18 ,  B32B2038/0052 ,  B32B2315/08 ,  B32B2551/00 ,  C03C23/0075 ,  C11D7/3281

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung von Substraten, umfassend das Reinigen der Substratoberfläche mit einem Melaminschaum und das Aktivieren der gereinigten Substratoberfläche. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung die Verwendung eines Melaminschaums zum Entfernen von Silikon-Verschmutzungen von Substraten. Das erfindungsgemäße Verfahren erweist sich insbesondere bei der Reinigung von Verbundsicherheitsglasscheiben als vorteilhaft, da es möglich ist, an solchen Scheiben haftende Silikonreste einfach und schnell zu entfernen. Bei geeigneter Wahl des Aktivierungsmittels ist es zudem möglich, die Schritte des Reinigens, Detektierens und Aktivierens innerhalb von nur einer Bearbeitung durchzuführen. Somit zeichnet sich das erfindungsgemäße Verfahren durch eine signifikante Vereinfachung und Beschleunigung der im Stand der Technik eingesetzten Reinigungsverfahren für Oberflächen aus.

    摘要翻译： 本发明涉及用于治疗包括清洁用三聚氰胺泡沫基材表面的底物和活化清洁衬底表面的方法。 此外，本发明涉及使用一蜜胺泡沫的从基材除去硅酮的污染物。 该新方法证明是特别在夹层安全玻璃板的清洁是有利的，因为它是能够去除粘附到这种盘硅酮保持简单，快速。 与活化剂的适当选择，也可以进行清洗，检测和仅一个工作内激活的步骤。 因此，本发明的方法的特征在于通过用于表面现有技术中采用的纯化方法的一个简化显著和加速度。