公开(公告)号：WO2023013573A1

公开(公告)日：2023-02-09

申请号：PCT/JP2022/029457

申请日：2022-08-01

Applicant: 宇部エクシモ株式会社 ,  国立大学法人京都大学

Inventor： 木曽　俊明 ,  金森　主祥

IPC: C08J9/28 ,  C08F130/08 ,  C08G77/48

Abstract: 圧縮時の強度を高めるとともに、かつ可視光透過率を高めることを可能にした低密度ゲル体、及び低密度ゲル体の製造方法を提供することを課題とする。低密度ゲル体は、ポリシロキサン鎖及び有機重合鎖を含み、３次元の網目構造を有している。低密度ゲル体の密度は、０．３ｇ／ｃｍ３以下の範囲内である。低密度ゲル体の細孔径は、１０ｎｍ以上、４０ｎｍ以下の範囲内である。低密度ゲル体の骨格径は、３ｎｍ以上、１０ｎｍ以下の範囲内である。

公开(公告)号：WO2022189757A1

公开(公告)日：2022-09-15

申请号：PCT/FR2022/050430

申请日：2022-03-10

Applicant: ELKEM SILICONES FRANCE SAS ,  UNIVERSITE DE HAUTE ALSACE

Inventor： ALLONAS, Xavier ,  IBRAHIM, Ahmad ,  FRANCES, Jean-Marc ,  THEIL, Perrine ,  MALIVERNEY, Christian

IPC: C08F130/08 ,  C08K5/10 ,  C09D4/00 ,  C07C69/24 ,  C07C49/84 ,  C08J3/28 ,  C08G77/20 ,  C08K5/07

Abstract: La présente invention a pour objet un photoamorceur de type I pour la réticulation radicalaire de compositions réticulables par irradiation. En particulier, l'invention concerne une composition silicone comprenant un photoamorceur de type I et un organopolysiloxane comportant au moins un groupe (méth)acrylate.

公开(公告)号：WO0122162A3

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：PCT/US0022141

申请日：2000-08-11

Applicant: ARCH SPEC CHEM INC

Inventor： FOSTER PATRICK ,  BIAFORE JOHN JOSEPH ,  SLATER SIDNEY GEORGE ,  STEINHAUSLER THOMAS

IPC: G03F7/004 ,  C08F120/10 ,  C08F130/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/0758 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

Abstract: Radiation sensitive resins for use as a top layer resist in a bilayer system for use in deep UV photolithography comprises derivatized copolymers having structural units (1), (2), (3) and (4) wherein n is 1 to 5, R is an alkyl group, R 1 a methyl or trimethylsiloxy, R 3 is hydrogen or methyl and R 2 and R 4 are each tert-butyl groups.

Abstract translation: 用于深紫外光刻的双层体系中用作顶层抗蚀剂的辐射敏感树脂包括具有结构单元（1），（2），（3）和（4）的衍生化共聚物，其中n为1至5，R为 烷基，R 1，甲基或三甲基甲硅烷氧基，R 3是氢或甲基，R 2和R 4 >各为叔丁基。

公开(公告)号：WO2004040371A3

公开(公告)日：2004-07-15

申请号：PCT/US0334832

申请日：2003-10-31

Applicant: ARCH SPEC CHEM INC

Inventor： DE BINOD B ,  MALIK SANJAY ,  DILOCKER STEPHANIE J ,  DIMOV OGNIAN N

IPC: B32B9/04 ,  C08F34/00 ,  C08F130/08 ,  C08F220/30 ,  C08F230/08 ,  C08G77/20 ,  G03C1/492 ,  G03C1/73 ,  G03C5/08 ,  G03F20060101 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

CPC classification number: G03F7/0758 ,  C08F220/30 ,  C08F230/08 ,  Y10T428/31663

Abstract: Novel copolymers suitable for forming the top layer photoimageable coating in a deep UV, particularly a 193 nm and 248 nm, bilayer resist system providing high resolution photolithography. Chemically amplified photoresist composition an organosilicon moieties suitable for use in the binder resin for photoimageable etching resistant photoresist composition that is suitable as a material for use in ArF AND Krf photolithography using the novel copolymers.

Abstract translation: 适用于在深UV，特别是193nm和248nm双层抗蚀剂体系中形成顶层可光成像涂层的新型共聚物，其提供高分辨率光刻。 化学扩增的光致抗蚀剂组合物适合用于可光成像耐蚀刻光致抗蚀剂组合物的粘合剂树脂中的有机硅部分，其适用于使用新型共聚物的ArF和Krf光刻中的材料。

公开(公告)号：WO2015113352A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/CN2014/078090

申请日：2014-05-22

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 唐琛 ,  谷敬霞 ,  王雪岚

IPC: C08F130/08 ,  C08F2/48 ,  C09K11/02

CPC classification number: C09K11/025 ,  B01J19/0093 ,  B01J19/123 ,  B01J2219/00889 ,  B01J2219/00894 ,  B01J2219/00936 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/1203 ,  C08F2/48 ,  C08F230/08 ,  H01L33/502 ,  H01L33/504 ,  H01L51/502 ,  Y02B20/181

Abstract: 一种白光量子点复合颗粒及其制备方法、制备装置，提高了量子点材料的稳定性、量子效率。该白光量子点复合颗粒包括：颗粒主体（1），所述颗粒主体（1）为光引发剂和可聚合组分经紫外线照射发生光聚合反应形成的聚合体；分散于所述颗粒主体中的红光量子点（2）、绿光量子点（3）和蓝光量子点（4），所述红光量子点（2）、绿光量子点（3）和所述蓝光量子点（4）的浓度不同。

公开(公告)号：WO2011156678A2

公开(公告)日：2011-12-15

申请号：PCT/US2011/039925

申请日：2011-06-10

Applicant: THE GOVERNMENT OF THE UNITED STATES OF AMERICA, AS REPRESENTED BY THE SECRETARY OF THE NAVY ,  KOLEL-VEETIL, Manoj, K. ,  KELLER, Teddy, M.

Inventor： KOLEL-VEETIL, Manoj, K. ,  KELLER, Teddy, M.

IPC: C08F130/08 ,  C07F5/02 ,  C07F7/08

CPC classification number: C07F7/0849 ,  C08G77/52

Abstract: Disclosed herein are the compounds shown below. Each R is an organic group, Cb is a carborane group, and -C6H4- is phenylene. The value of each m is a nonnegative integer, q is 0 or 1, with the proviso that if q is 0 then m is 0 or 1, p is a positive integer, r is a positive integer, and n is an integer greater than or equal to 10. Also disclosed are methods of making and crosslinking the compounds. -{SiR 2 -([0] q -SiR 2 ) m -[Cb-SiR 2 -([0] q -SiR 2 ) m ] p -C≡C-C6H4-C≡C}- -{SiR 2 -(0-SiR 2 )m-C≡C-C 6 H 4 -C≡C} n -; -{SiR 2 -([0] q -SiR 2 ) m -[C≡C-C 6 H 4 -C≡C-SiR 2 -([0] q -SiR 2 ) m ] p -Cb-[SiR 2 -([0] q -SiR 2 ) m -Cb] r }-

Abstract translation: 本文公开的是下面所示的化合物。 每个R是有机基团，Cb是碳硼烷基团，-C6H4-是亚苯基。 每个m的值是非负整数，q是0或1，条件是如果q是0，那么m是0或1，p是正整数，r是正整数，n是大于 或等于10.还公开了制备和交联化合物的方法。 - {SiR2 - （[0] q-SiR2）m- [Cb-SiR2 - （[0] q-SiR2）m] pC = C-C6H4-C = C} - - {SiR2-（0-SiR2） = C-C6H4-C = C} N-; - {SIR2 - （[0] Q-SIR2）M- [C = C-C6H4-C = C-SIR2 - （[0] Q-SIR2）M] P-CB- [Sir2的 - （[0] Q- SIR2）M-CB] R} -

公开(公告)号：WO2009139476A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：PCT/JP2009/059094

申请日：2009-05-15

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  有嶋 裕之 ,  保高 弘樹

Inventor： 有嶋　裕之 ,  保高　弘樹

IPC: C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C07F7/18 ,  C08F130/08 ,  G02B1/04 ,  G11B7/135

CPC classification number: C07F7/0818 ,  C08F230/08 ,  G02B1/04 ,  G11B7/1353 ,  C08L51/085

Abstract: 　高屈折率性と高耐光性とを両立可能な化合物と、これを含む光硬化性組成物とを提供する。また、青色レーザに対する耐光性の良好な光学素子と、これを用いた光ヘッド装置とを提供する。 　ケイ素と４つの環基が直接または酸素を介して結合したＳｉＡ １ Ａ ２ Ａ ３ Ａ ４ で表される重合性化合物。Ａ １ 、Ａ ２ 、Ａ ３ およびＡ ４ は、夫々独立して－（Ｏ） m －Ｘであり、４個のｍは夫々独立して０または１を表す。Ｘはフェニル基であることが好ましい。フェニル基の水素原子の０～３個はＣＨ ２ ＝ＣＲ－ＣＯＯ－Ｙ－で表される重合性の置換基で置換されており、かつ、フェニル基の残りの水素原子の一部または全部の水素原子がメチル基またはフッ素原子に置換されていてもよい。

Abstract translation: 公开了具有高折射率和高耐光性的化合物和含有该化合物的光固化组合物。 还公开了对蓝色激光具有良好的耐光性的光学元件和使用该光学元件的光学头装置。 具体公开了表示为SiA1A2A3A4的可聚合化合物，其中硅原子和四个环状基团直接键合或通过氧原子键合。 A1，A2，A3和A4独立地表示 - （O）mX，四个m独立地表示0或1.X优选为苯基，苯基的0-3个氢原子被可聚合取代基取代，表示为 CH 2 = CR-COO-Y-。 苯基中的剩余氢原子的一部分或全部可以被甲基或氟原子取代。

公开(公告)号：WO2014185435A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：PCT/JP2014/062767

申请日：2014-05-14

Applicant: ラサ工業株式会社

Inventor： 中野　正 ,  橋本　俊将 ,  野々村　務

IPC: C08F30/08 ,  C08F2/44 ,  C08F130/08 ,  C08F230/08 ,  C08F290/14 ,  C08F299/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/085

CPC classification number: C08F230/08 ,  C08F2/44 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/085 ,  C08F2230/085 ,  C08F2220/286 ,  C08F2222/1026 ,  C08F222/1006

Abstract: 　タッチパネル等の電子デバイスに対して優れた密着性を有し。さらに、有機溶媒等の現像液に対して耐性（耐化学性）を有する絶縁材料用組成物を提供する。　架橋性官能基を有するシロキサンオリゴマーと、重合開始剤と、密着促進剤と、を含む絶縁材料用組成物であり、密着促進剤は、アルミニウム及び／又はジルコニウムの配位化合物、カルボジイミド化合物、メルカプトシラン化合物を含み、架橋性官能基を有するシロキサンオリゴマーは、トリオキシシリルアルキルアクリレート又はトリオキシシリルアルキルメタクリレートを含み、多官能性アクリルモノマーをさらに含み、耐化学性向上剤として、ポリＮ－メトキシメチル化合物を含む。

Abstract translation: 本发明对诸如触摸面板的电子设备具有优良的附着性。 此外，提供了对显影液如有机溶剂具有电阻（耐化学性）的绝缘材料组合物。 绝缘材料组合物含有粘合促进剂，聚合引发剂和具有可交联官能团的硅氧烷低聚物，其中：粘合促进剂含有巯基硅烷化合物，碳二亚胺化合物和锆和/或铝的配位化合物; 并且具有可交联官能团的硅氧烷低聚物含有丙烯酸三氧代甲硅烷基酯或甲基丙烯酸三氧基甲硅烷基酯，还含有多官能丙烯酸类单体，并含有作为耐药性增强剂的聚-N-甲氧基甲基化合物。

公开(公告)号：WO2010011492A1

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/US2009/049858

申请日：2009-07-08

Applicant: NOVARTIS AG ,  QIU, Yongxing

Inventor： QIU, Yongxing

IPC: B29D11/00 ,  C08F30/08 ,  C08F130/08 ,  C08F230/08 ,  C08F290/00 ,  C08F299/08 ,  G02B1/04

CPC classification number: B29D11/00038 ,  B29D11/00 ,  C08F8/42 ,  C08F30/08 ,  C08F130/08 ,  C08F230/08 ,  C08F283/12 ,  C08F283/124 ,  C08F290/00 ,  C08F290/06 ,  C08F290/068 ,  C08F290/14 ,  C08F290/148 ,  C08F299/08 ,  C08F2810/20 ,  C08J3/28 ,  G02B1/04 ,  G02B1/043 ,  C08L51/085 ,  C08F222/06 ,  C08F236/06

Abstract: The invention provides a silicone hydrogel contact lens including a hydrolyzable polymer. The hydrolyzable polymer can be converted by hydrolysis into a hydrophilic polymer which is capable of imparting the silicone hydrogel contact lens a hydrophilic surface without post-curing surface treatment.

Abstract translation: 本发明提供了包含可水解聚合物的硅酮水凝胶隐形眼镜。 可水解聚合物可以通过水解转化成亲水聚合物，其能够赋予硅氧水凝胶隐形眼镜亲水性表面，而无需后固化表面处理。

公开(公告)号：WO00071591A1

公开(公告)日：2000-11-30

申请号：PCT/US2000/014314

申请日：2000-05-25

IPC: A01C1/08 ,  A01N25/16 ,  A61K8/00 ,  A61K8/37 ,  A61K8/44 ,  A61K8/46 ,  A61K8/89 ,  A61K8/891 ,  A61K8/90 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/10 ,  A62D1/02 ,  A62D1/04 ,  C08F12/28 ,  C08F220/34 ,  C08F293/00 ,  C08K5/16 ,  C08L53/00 ,  C11D1/00 ,  C11D1/66 ,  C11D1/88 ,  C11D3/00 ,  C11D3/37 ,  C11D3/39 ,  C11D3/395 ,  C11D3/42 ,  D06L1/12 ,  D21H17/45 ,  D21H21/10 ,  C08F130/08 ,  A61K7/075

CPC classification number: A61K8/90 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/006 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q9/02 ,  A61Q9/04 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/10 ,  A62D1/0071 ,  C08F220/34 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F297/00 ,  C08F297/02 ,  C08F2438/01 ,  C08L53/00 ,  C11D3/0094 ,  C11D3/3723 ,  C11D3/3769 ,  C11D3/3776 ,  D21H21/10 ,  C08F2220/281 ,  C08F226/10 ,  C08F220/06 ,  C08F212/06 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08L2666/02

Abstract: The present invention relates to a block polymeric material. Typically the block polymer comprises units capable of having an average cationic charge density of about 15 or less, preferably 5 or less, more preferably from about 0.05 to about 5, even more preferably from about 0.05 to about 2.77, even more preferably from about 0.1 to about 2.75, most preferably from about 0.75 to about 2.25 units per 100 daltons molecular weight at a pH of from about 4 to about 12. The polymeric material is a suds enhancer and a suds volume extender for personal car products such as soaps and shampoos. The compositions have increased effectiveness for preventing re-deposition of grease during hand and body washing. The polymers are also effective as a soil release agent in fabric cleaning compositions. The polymeric material is also effective in oil well treating foam, fire-fighting foam, hard surface cleaning foam, shaving cream, post-foaming shaving gel, dephiliatories and as a coagulant/retention aid for titanium dioxide in paper making.

Abstract translation: 本发明涉及嵌段聚合物材料。 通常，嵌段聚合物包含能够具有约15或更小，优选5或更小，更优选约0.05至约5，甚至更优选约0.05至约2.77，甚至更优选约0.1的平均阳离子电荷密度的单元 至约2.75，最优选约0.75至约2.25单位/ 100道尔顿分子量，pH为约4至约12.聚合物材料是泡沫增强剂和用于个人汽车产品如肥皂和洗发剂的泡沫体积增量剂 。 组合物在手和身体清洗期间具有提高的防止油脂再沉积的效果。 聚合物在织物清洁组合物中也可用作去污剂。 聚合材料在油井处理泡沫，消防泡沫，硬表面清洁泡沫，剃须膏，后发泡剃须凝胶，脱硫剂以及作为造纸中二氧化钛的凝结剂/助留剂方面也是有效的。