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    断熱性塗膜及び断熱性塗料組成物
    2.
    发明申请
    断熱性塗膜及び断熱性塗料組成物 审中-公开
    隔热涂膜和隔热涂料组合物

    公开(公告)号：WO2017099171A1

    公开(公告)日：2017-06-15

    申请号：PCT/JP2016/086523

    申请日：2016-12-08

    Applicant: 株式会社ドリームメーカー53

    Inventor： 室井一郎

    IPC: C09D125/04 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D133/04

    CPC classification number: C09D5/00 ,  C09D7/40 ,  C09D125/04 ,  C09D133/04

    Abstract: 本発明は、住宅の外壁又は内壁の表面等に形成されたときに優れた断熱性能及び遠赤外線の反射性能を得ることができかつ、付着性及び耐久性に優れる断熱性塗膜であって、さらに、スチレンアクリル酸アルキルエステル共重合物又はアクリル酸ブチルスチレン共重合物と、白色顔料と、アクリル中空ビーズとを含み、スチレンアクリル酸アルキルエステル共重合物又はアクリル酸ブチルスチレン共重合物に対する、アクリル中空ビーズの質量比（アクリル中空ビーズ／スチレンアクリル酸アルキルエステル共重合物又はアクリル酸ブチルスチレン共重合物）が、１以下であることを特徴とする断熱性塗膜である。

    Abstract translation:

    本发明中，能够得到在其中优异的绝热性能和形成在外壁或内壁的壳体的表面上时的远红外线反射性能，具有优异的粘合性和耐久性 热绝缘性涂布膜，进一步，在苯乙烯 - 丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸丁酯 - 苯乙烯共聚物，和白色颜料和丙烯酸类中空珠，苯乙烯 - 丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸 其特征在于，丙烯酸类中空珠（丙烯酸类中空珠/苯乙烯丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸丁酯共聚物）与丁基苯乙烯共聚物的质量比为1以下 它是。

    SPIN-ON PROTECTIVE COATINGS FOR WET-ETCH PROCESSING OF MICROELECTRONIC SUBSTRATES
    6.
    发明申请
    SPIN-ON PROTECTIVE COATINGS FOR WET-ETCH PROCESSING OF MICROELECTRONIC SUBSTRATES 审中-公开
    微电子基片湿蚀刻加工的SPIN-ON保护涂层

    公开(公告)号：WO2009035866A3

    公开(公告)日：2009-05-14

    申请号：PCT/US2008074773

    申请日：2008-08-29

    Applicant: BREWER SCIENCE INC ,  XU GU ,  YESS KIMBERLY A ,  FLAIM TONY D

    Inventor： XU GU ,  YESS KIMBERLY A ,  FLAIM TONY D

    IPC: C08L25/04 ,  C09D125/04

    CPC classification number: H01L21/0271 ,  B81C1/00801 ,  C08L63/04 ,  C09D125/12 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31663 ,  C08L2666/14

    Abstract: New protective coating layers for use in wet etch processes during the production of semiconductor and MEMS devices are provided. The layers include a primer layer, a first protective layer, and an optional second protective layer. The primer layer preferably comprises an organo silane compound in a solvent system. The first protective layer includes thermoplastic copolymers prepared from styrene, acrylonitrile, and compatible compounds such as monomers, oligomers, and polymers comprising epoxy groups; poly(styrene-co-allyl alcohol); and mixtures thereof. The second protective layer comprises a highly halogenated polymer such as a chlorinated polymer which may or may not be crosslinked upon heating.

    Abstract translation: 提供了用于半导体和MEMS器件生产期间的湿法蚀刻工艺的新的保护涂层。 这些层包括底漆层，第一保护层和任选的第二保护层。 底漆层优选在溶剂体系中包含有机硅烷化合物。 第一保护层包括由苯乙烯，丙烯腈和相容性化合物如单体，低聚物和包含环氧基团的聚合物制备的热塑性共聚物; 聚（苯乙烯 - 共 - 烯丙醇）; 和它们的混合物。 第二保护层包含高度卤化的聚合物，例如氯化聚合物，其可以在加热时交联或不交联。

    一种用于采动围岩地压灾害防护的新型组合屏蔽结构
    8.
    发明申请
    一种用于采动围岩地压灾害防护的新型组合屏蔽结构 审中-公开

    公开(公告)号：WO2021196317A1

    公开(公告)日：2021-10-07

    申请号：PCT/CN2020/086432

    申请日：2020-04-23

    Applicant: 北京科技大学

    Inventor： 吕祥锋

    IPC: E21D11/00 ,  C09D123/02 ,  C09D125/04 ,  C09D7/61 ,  C09D7/63 ,  C08K2003/265 ,  C09D7/70

    Abstract: 一种用于采动围岩地压灾害防护的新型组合屏蔽结构，该组合屏蔽结构由吸能外层（3）和反射内层（2）构成，设置于巷道（1）和围岩（7）之间，围岩（7）位于组合屏蔽结构外侧，巷道（1）位于组合屏蔽结构内侧，新型组合屏蔽结构中反射内层（2）包括以下重量份的原料：烯烃类树脂18-24份、苯乙烯类树脂14-19.2份、碳材料粉4.8-7.2份、玻璃纤维2.1-3.2份、碳酸钙1-2份、柠檬酸1-2份、锡0.35-0.6份和二氧化硅粉17.6-23.8份，吸能外层（3）由具有缓冲吸能效果的柔性结构材料构成。新型组合屏蔽结构中吸能外层（3）可以吸附和缓冲弹性能冲击应力波（4），反射内层（2）对入射波进一步缓冲并反射，吸能外层（3）对反射波起到二次吸能和缓冲，可减少反射波对围岩（7）的二次冲击破坏，对巷道（1）具有很好的保护作用。

    パターン形成方法、下地剤及び積層体
    10.
    发明申请
    パターン形成方法、下地剤及び積層体 审中-公开
    图案形成方法，基材制备和层压

    公开(公告)号：WO2018078929A1

    公开(公告)日：2018-05-03

    申请号：PCT/JP2017/020103

    申请日：2017-05-30

    Applicant: 王子ホールディングス株式会社

    Inventor： 森田　和代 ,  服部　貴美子

    IPC: B05D7/24 ,  B05D1/36 ,  B32B27/28 ,  B32B27/30 ,  C08F293/00 ,  C09D5/00 ,  C09D125/04 ,  C09D133/04 ,  C09D133/14 ,  C09D153/00 ,  H01L21/027

    Abstract: 基板上に下地剤を塗布する工程と、パターン形成用自己組織化組成物を基板上の下地剤を塗工した面に塗布し自己組織化相分離によって自己組織化膜を形成する工程と、を含むパターン形成方法であって、パターン形成用自己組織化組成物は、式（１０３）及び式（１０４）で表される構造の少なくとも一方を有する重合部ａと、式（１０５）で表される構造を有する重合部ｂと、を含み、糖部の含有率が３質量％以上８０質量％以下であるブロックコポリマーを含む、パターン形成方法。　式（１０３）及び式（１０４）で表される構造の少なくとも一方を有する重合部ａと、式（１０５）で表される構造を有する重合部ｂと、を含み、糖部の含有率が３質量％以上８０質量％以下であるブロックコポリマーを含むパターン形成用自己組織化組成物を相分離させるために用いられる、置換基を有してもよい（メタ）アクリレート由来単位及び置換基を有してもよいスチレン由来単位から選択される少なくとも１種を含有するポリマーを含む下地剤。　基板と、置換基を有してもよい（メタ）アクリレート由来単位及び置換基を有してもよいスチレン由来単位から選択される少なくとも１種を含有するポリマーを含む下地層と、式（１０３）及び式（１０４）で表される構造の少なくとも一方を有する重合部ａと、式（１０５）で表される構造を有する重合部ｂと、を含み、糖部の含有率が３質量％以上８０質量％以下であるブロックポリマーを含むパターン形成層と、をこの順で有する積層体

    Abstract translation:

    自组装和施加在衬底上的底涂层剂涂布在表面上的图案形成自组装组合物涂布底涂剂由自组装的相分离的基板上 以及形成图案的步骤，其中用于图案形成的自组装组合物包含具有由式（103）和（104）表示的结构中的至少一种的聚合部分a， 以及具有由式（105）表示的结构的聚合部分b，其中糖部分的含量为3质量％以上且80质量％以下。 等式（103），并且包括具有由式（104）表示的结构中的至少一个的聚合单元，聚合单元B具有由式（105）表示的结构，所述糖部分3的含量 用于形成自组装组合物包含嵌段共聚物中的图案是低于80质量％质量％以上，以便进行相分离，也有很好的（甲基）丙烯酸酯衍生的单元和取代基具有取代基 和可以组合使用的苯乙烯衍生单元。 含有聚合物和含有选自基材，可以具有取代基的（甲基）丙烯酸酯衍生单元和可以具有取代基的苯乙烯衍生单元中的至少一种的聚合物的基底层， 和（104）和一个具有由表示包括b。具有由式（105）表示的结构的聚合的部分结构中的至少一个的聚合单元，所述糖部分的含量为3重量％〜80 并且含有以该顺序的质量％以下的嵌段聚合物的图案形成层

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