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公开(公告)号:WO2023081625A1
公开(公告)日:2023-05-11
申请号:PCT/US2022/079012
申请日:2022-11-01
摘要: Acidic liquid fabric care compositions that include citric acid and/or a salt thereof, fragrance material that includes certain aldehydic perfume raw materials, and water. Related methods of using and making such compositions.
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公开(公告)号:WO2023003215A1
公开(公告)日:2023-01-26
申请号:PCT/KR2022/009599
申请日:2022-07-04
申请人: 삼성에스디아이 주식회사
摘要: 기판 상에 금속 함유 레지스트 조성물을 도포하는 단계; 상기 기판의 에지를 따라 에지 비드 제거용 조성물을 도포하는 단계; 건조 및 가열하여 상기 기판 상에 금속 함유 레지스트막을 형성시키는 열처리 단계; 및 노광 및 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 패턴 형성 방법으로서, 상기 에지 비드 제거용 조성물은 아인산계 화합물, 차아인산계 화합물, 아황산계 화합물 및 하이드록삼산계 화합물 중 적어도 1종의 첨가제, 그리고 유기 용매를 포함한다. 대표도: 도 1
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公开(公告)号:WO2022168687A1
公开(公告)日:2022-08-11
申请号:PCT/JP2022/002786
申请日:2022-01-26
申请人: 富士フイルム株式会社
摘要: 本発明は、金属膜を含む半導体基板のCMP処理後の洗浄液として適用された場合に、洗浄性能に優れ、かつ、酸化ルテニウム溶解能にも優れる半導体基板用洗浄液を提供することを課題とする。本発明の半導体基板用洗浄液は、半導体基板を洗浄するために用いられる半導体基板用洗浄液であって、プリン及びプリン誘導体からなる群から選択される少なくとも1つのプリン化合物と、式(A)で表される化合物とを含む。
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公开(公告)号:WO2022163350A1
公开(公告)日:2022-08-04
申请号:PCT/JP2022/000716
申请日:2022-01-12
申请人: 富士フイルム株式会社
发明人: 水谷 篤史
IPC分类号: C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
摘要: 本発明は、半導体デバイス用の組成物であって、残渣除去性に優れる組成物を提供する。また、本発明は、上記組成物を用いた基板の洗浄方法を提供する。組成物は、半導体デバイス用の組成物であって、アルコールと、非プロトン性極性溶媒と、アゾール化合物と、アルカノールアミンと、水と、を含む。
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公开(公告)号:WO2022133423A1
公开(公告)日:2022-06-23
申请号:PCT/US2021/072888
申请日:2021-12-14
发明人: COLLU, Mattia , TAHON, Cédric, Marc , SMETS, Johan
摘要: Liquid treatment composition that include particles and an adjunct ingredient, where the particles include a plant rosin material and one or more benefit agents. Related methods of making and using such compositions.
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公开(公告)号:WO2022114110A1
公开(公告)日:2022-06-02
申请号:PCT/JP2021/043347
申请日:2021-11-26
申请人: 花王株式会社
IPC分类号: C11D7/26 , C11D7/32 , G03F7/42 , H01L21/304
摘要: 一態様において、基板樹脂のダメージを抑制しつつ、樹脂マスク除去性に優れる樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物を提供する。 本開示は、一態様において、第四級アンモニウム水酸化物(成分A)、アミノアルコール(成分B)、芳香族アルコール(成分C)及び水(成分D)を含有し、成分Dと成分Cとの質量比D/Cが10以上である、樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物に関する。
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公开(公告)号:WO2022049973A1
公开(公告)日:2022-03-10
申请号:PCT/JP2021/028902
申请日:2021-08-04
申请人: 富士フイルム株式会社
IPC分类号: C23F1/30 , C23F1/40 , C11D1/62 , C11D3/04 , C11D3/26 , C11D3/39 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/18 , C11D7/32 , H01L21/304 , H01L21/306
摘要: 本発明は、遷移金属含有物(特に、Ru含有物)に対する溶解能に優れる組成物及び基板の処理方法を提供することを課題とする。本発明の組成物は、過ヨウ素酸、ヨウ素酸、及び、それらの塩からなる群から選択される少なくとも1つのヨウ素酸化合物と、式(1)で表される化合物とを含む。
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公开(公告)号:WO2021254998A1
公开(公告)日:2021-12-23
申请号:PCT/EP2021/066048
申请日:2021-06-15
申请人: BASF SE
发明人: GRUMELARD, Julie , EHLIS, Thomas , GIESINGER, Jochen , BROCK-NANNESTAD, Theis , PEDERSEN, Stephan K. , PITTELKOW, Michael , KAMOUNAH, Fadhil S.
IPC分类号: A61K8/35 , A61K8/365 , A61K8/41 , A61K8/43 , A61K8/44 , A61K8/49 , A61Q17/04 , C11D7/26 , C11D7/32 , A61K2800/522 , A61K8/416 , A61K8/4926 , C11D3/20 , C11D3/42
摘要: The present relates to compounds of formula (I) as defined herein. The compounds are suitable for protection against ultraviolet (UV) radiation. Further, the present invention is concerned with compositions comprising at least one compound of formula (I).
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公开(公告)号:WO2021225837A1
公开(公告)日:2021-11-11
申请号:PCT/US2021/029538
申请日:2021-04-28
发明人: BARRERA, Carola , SIVIK, Mark, Robert , FLITER, Kristine, Lynn , LU, Helen, S. M. , QIU, Weiming
摘要: Fabric conditioning compositions that include a poly alpha-1,3-glue an ether compound and depositable actives, where the poly alpha-1,3-glucan ether compound may be characterized by certain molecular weights and degrees of cationic substitution. Related methods of using and making such compositions.
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公开(公告)号:WO2021210308A1
公开(公告)日:2021-10-21
申请号:PCT/JP2021/009977
申请日:2021-03-12
发明人: 上村 哲也
IPC分类号: C11D17/08 , C09K3/14 , C11D3/20 , C11D3/26 , C11D3/34 , C11D3/36 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/36 , B24B37/00 , H01L21/304
摘要: 本発明の課題は、半導体基板用の洗浄液であって、金属含有層に対する腐食防止性能に優れる洗浄液を提供することにある。また、本発明の課題は、半導体基板の洗浄方法を提供することにある。 本発明の洗浄液は、化学機械研磨処理が施された半導体基板用の洗浄液であって、分子内に2つ以上のオニウム構造を有する成分Aと、水と、を含み、25℃におけるpHが7.0~11.8である。
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